6-Methyl-nonanol-(2) | 66256-60-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: 6-Methyl-nonanol-(2)
• 英文别名: 6-methylnonan-2-ol；6-Methyl-2-nonanol
• CAS: 66256-60-8
• 化学式: C₁₀H₂₂O
• 分子量: 158.284
• InChiKey: OYTRLQQQIHEJFE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  96-97.5 °C(Press: 12 Torr)
• 密度：
  0.8332 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.6
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  6-Methyl-nonanol-(2) 在 sodium dichromate 、 硫酸 作用下， 生成 6-methyl-2-nonanone
  参考文献：
  名称：

  Shvarts,E.Yu.; Petrov,A.A., Journal of general chemistry of the USSR, 1961, vol. 31, p. 393 - 399

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-甲基-1-戊醇 在 lithium aluminium tetrahydride 、 草酰氯 、 溴 、 magnesium 、 二甲基亚砜 、 三苯基膦 作用下， 以 乙醚 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 30.17h， 生成 6-Methyl-nonanol-(2)
  参考文献：
  名称：

  来自放线菌 Micromonospora aurantiaca 的新型脂肪酸甲酯。

  摘要：

  Micromonospora aurantiaca 释放的挥发物通过闭环汽提装置 (CLSA) 收集并通过 GC-MS 进行分析。顶空提取物包含来自不同类别的 90 多种化合物。脂肪酸甲酯 (FAME) 包括主要化合物类别，包括饱和无支链、单甲基和二甲基支链 FAME，具有不同的结构变体：未支化、α-支化、γ-支化、(omega-1)-支化、(omega-2)-分支、α-和 (omega-1)-分支、γ-和 (omega-1)-分支、γ-和 (omega-2)-分支以及γ-和 (omega-3)-分支的 FAME。前三种类型的 FAME 之前没有从自然资源中描述过。所有 FAME 的结构都是根据其质谱和保留指数增量系统提出的，并通过关键参考化合物的合成进行验证。此外，还从质谱中推导出了两种 FAME，即 4,8-二甲基十二酸甲酯和乙基支化化合物 8-乙基-4-甲基十二酸甲酯的结构。用同位素标记的

  DOI：

  10.3762/bjoc.7.200

文献信息

• COOLING SENSATION AGENT COMPOSITION, SENSORY STIMULATION AGENT COMPOSITION AND USE OF THE SAME
  申请人：Komatsuki Yasuhiro

  公开号：US20110081393A1

  公开（公告）日：2011-04-07

  Disclosed is a cooling sensation agent composition or sensory stimulation agent composition which contains at least one of diester compounds of dicarboxylic acid represented by the formula (1) wherein A represents CH 2 or CH═CH, n represents an integer of 0 to 4 when A is CH 2 , or 1 when A is CH═CH, B is an alcohol residue having 10 to 18 carbon atoms and containing a para-menthane skeleton, which may have a substituent, and C is an alcohol residue having 6 to 18 carbon atoms, which may have a substituent as well as a flavor or fragrance composition, a beverage, a food product, a perfume or cosmetic product, a toiletry product, daily utensil products or groceries, a fiber, a fiber product, clothes, clothing or a medicine, wherein the cooling sensation agent composition or the sensory stimulation agent composition is compounded.

  本文披露了一种包含以下化学式（1）所代表的二羧酸双酯化合物之一的冷却感剂组合物或感官刺激剂组合物，其中A代表CH2或CH═CH，n代表整数0至4（当A为CH2时）或1（当A为CH═CH时），B是含有10至18个碳原子并含有对蒎烷骨架的醇残基，可能有取代基，C是含有6至18个碳原子的醇残基，可能也有取代基，以及香料或香精组合物、饮料、食品产品、香水或化妆品产品、洗涤用品、日用品或杂货、纤维、纤维制品、衣服、服装或药品，其中复合了冷却感剂组合物或感官刺激剂组合物。
• Process for producing alcohols and ketones
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：EP0531715A1

  公开（公告）日：1993-03-17

  The present invention provides a process for the oxidation of straight-chain, branched-chain or cyclic alkanes of 1-20 carbon atoms and benzene derivatives represented by the following formulas (1) - (2). The alcohols and ketones obtained by the oxidation of the alkanes mentioned above and those by the oxidation of the benzene derivatives mentioned above represented by the following formulas (3) - (6) are important as basic starting materials in producing various chemical products including resins, such as nylon and polyester, pharmaceuticals, agricultural chemicals, perfumes, dyes, etc.

  本发明提供了一种氧化 1-20 个碳原子的直链、支链或环状烷烃以及由下列式子 (1) - (2) 表示的苯衍生物的工艺。由上述烷烃氧化得到的醇和酮以及由下列式子（3）-（6）表示的上述苯衍生物氧化得到的醇和酮是生产各种化学产品的重要基本起始原料，包括树脂（如尼龙和聚酯）、药品、农药、香水、染料等。
• PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, LAMINATE FILM, AND UPPER LAYER FILM FORMATION COMPOSITION
  申请人：Fujifilm Corporation

  公开号：EP3385791A1

  公开（公告）日：2018-10-10

  One embodiment of the present invention provides a pattern forming method including a step for forming an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film on a substrate using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a step for forming an upper layer film on the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using a composition for forming an upper layer film, a step for exposing a laminate film including the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and the upper layer film, and a step for developing the exposed laminate film using a developer including an organic solvent. The composition for forming an upper layer film contains a resin (XA), a resin (XB) containing fluorine atoms, a basic compound (XC), and a solvent (XD), and the resin (XA) is a resin not containing fluorine atoms, or in a case where the resin (XA) contains fluorine atoms, the resin (XA) is a resin having a lower content of fluorine atoms than that in the resin (XB), based on a mass.

  本发明的一个实施例提供了一种图案形成方法，包括使用感光树脂或辐射敏感树脂组合物在基底上形成感光膜或辐射敏感膜的步骤、使用用于形成上层薄膜的组合物在感光膜或辐射敏感膜上形成上层薄膜的步骤，曝光包括感光膜或辐射敏感膜和上层薄膜的层压薄膜的步骤，以及使用包括有机溶剂的显影剂显影曝光的层压薄膜的步骤。用于形成上层薄膜的组合物包含树脂 (XA)、含氟原子的树脂 (XB)、碱性化合物 (XC) 和溶剂 (XD)，并且树脂 (XA) 是不含氟原子的树脂，或者在树脂 (XA) 含有氟原子的情况下，树脂 (XA) 是氟原子含量低于树脂 (XB) 中氟原子含量的树脂（基于质量）。
• Pattern forming method, resist pattern, and method for manufacturing electronic device
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10114292B2

  公开（公告）日：2018-10-30

  Provided are a pattern forming method capable of providing good DOF and LER, a resist pattern formed by the pattern forming method, and a method for manufacturing an electronic device, including the pattern forming method. The pattern forming method includes a step a of coating an active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition onto a substrate to form a resist film, a step b of coating a composition for forming an upper layer film onto the resist film, followed by carrying out heating to 100° C. or higher, to form the upper layer film on the resist film, a step c of exposing the resist film having the upper layer film formed thereon, and a step d of developing the exposed resist film using a developer including an organic solvent to form a pattern.

  本发明提供了一种能够提供良好 DOF 和 LER 的图案形成方法、一种由该图案形成方法形成的抗蚀剂图案，以及一种包括该图案形成方法在内的电子设备制造方法。图案形成方法包括步骤 a：在基板上涂布活性光敏或辐射敏感树脂组合物，以形成抗蚀剂薄膜；步骤 b：在抗蚀剂薄膜上涂布用于形成上层薄膜的组合物，然后加热到 100°C 或更高温度，以在抗蚀剂薄膜上形成上层薄膜；步骤 c：曝光在其上形成上层薄膜的抗蚀剂薄膜；步骤 d：使用包括有机溶剂的显影剂显影曝光的抗蚀剂薄膜，以形成图案。
• Pattern forming method, resist pattern, and process for producing electronic device
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10578968B2

  公开（公告）日：2020-03-03

  The present invention has an object to provide a pattern forming method capable of providing good DOF and EL, a resist pattern formed by the pattern forming method, and a method for manufacturing an electronic device, including the pattern forming method. The pattern forming method of the present invention includes a step a of coating an active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition onto a substrate to form a resist film, a step b of coating a composition for forming an upper layer film onto the resist film to form an upper layer film on the resist film, a step c of exposing the resist film having the upper layer film formed thereon, and a step d of developing the exposed resist film using a developer to form a pattern, in which the active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a hydrophobic resin.

  本发明的目的是提供一种能够提供良好的DOF和EL的图案形成方法、一种由该图案形成方法形成的抗蚀剂图案，以及一种制造电子设备的方法，包括该图案形成方法。本发明的图案形成方法包括步骤 a：在基板上涂布活性光敏或辐射敏感树脂组合物以形成抗蚀剂薄膜；步骤 b：在抗蚀剂薄膜上涂布用于形成上层薄膜的组合物以在抗蚀剂薄膜上形成上层薄膜；步骤 c：曝光形成有上层薄膜的抗蚀剂薄膜；步骤 d：使用显影剂显影曝光的抗蚀剂薄膜以形成图案，其中活性光敏或辐射敏感树脂组合物包含疏水性树脂。