Trihalogenmethylgruppen enthaltende Carbonylmethylenheterocyclen, Verfahren zu ihrer Herstellung und lichtempfindliches Gemisch, das diese Verbindungen enthält
申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
公开号:EP0135863A2
公开(公告)日:1985-04-03
Trihalogenmethylgruppen enthaltende Carbonylmethylenheterocyclen, Verfahren zu ihrer Herstellung und lichtempfindliches Gemisch, das diese Verbindungen enthält Es werden Verbindungen der allgemeinen Formel
beschrieben, worin L=H oder CO-(R1)n(CX3)m, M=Alkylen, Alkenylen oder Arylen, Q=S, Se, O, Dialkylmethylen, Alken-1,2-ylen, 1,2-Phenylen oder N-R, wobei M+Q zusammen 3 oder 4 Ringglieder bilden, R =Alkyl, Aralkyl oder Alkoxyalkyl, R1 eine aromatische Gruppe, X=Cl, Br oder J bedeutet und n = 0 und m = 1 oder n = 1 und m = 1 oder 2 ist. Die Verbindungen spalten bei Belichtung HX ab und bilden Radikale. Sie sind deshalb hochwirksame Säurespender und Radikalstarter für photochemische Verfahren.
含有三卤甲基基团的羰基亚甲基杂环,其制备方法和含有这些化合物的感光混合物 通式如下的化合物
其中 L=H 或 CO-(R1)n(CX3)m,M=烷基、烯基或芳基,Q=S、Se、O、二烷基亚甲基、烯-1,2-基、1,2-亚苯基或 N-R,其中 M+Q 共同形成 3 或 4 个环成员,R=烷基、芳基或烷氧基烷基,R1 是芳香基团,X=Cl、Br 或 J,n=0 和 m=1 或 n=1 和 m=1 或 2。这些化合物在光照下会分裂出 HX 并形成自由基。因此,它们是光化学过程中非常有效的酸供体和自由基引发剂。