2-乙氧基-3-甲基-丁-1,3-二烯 | 17466-15-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 2-乙氧基-3-甲基-丁-1,3-二烯
• 英文名称: 2-ethoxy-3-methyl-buta-1,3-diene
• 英文别名: 2-Ethoxy-3-methylbuta-1,3-diene
• CAS: 17466-15-8
• 化学式: C₇H₁₂O
• 分子量: 112.172
• InChiKey: PCBBIRRXWYZTAC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.43
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-乙氧基-3-甲基-丁-1,3-二烯 、 丙烯醛 生成 4-Ethoxy-3-methyl-cyclohex-3-enecarbaldehyde
  参考文献：
  名称：

  活化二烯功能-III：迪尔斯-阿尔德反应，立体化学与结构电子学的关系

  摘要：

  DOI：

  10.1016/s0040-4020(01)97229-1

文献信息

• ACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials, LLC

  公开号：US20160002199A1

  公开（公告）日：2016-01-07

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as photoresist composition components. Preferred acid generators include cyclic sulfonium compounds that comprise a covalently linked acid-labile group.

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。
• ACID GENERATOR COMPOUNDS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20160347709A1

  公开（公告）日：2016-12-01

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as a photoresist composition component. In one preferred aspect, acid generators are provided that comprise one or more hydrophilic moieties.

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。在一个首选方面，提供了包含一个或多个亲水性基团的酸发生剂。
• PHOTOBASE GENERATORS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20160334703A1

  公开（公告）日：2016-11-17

  New photobase generators suitable for use in photoresists are provided that correspond to Formula (I): X 1 —R 1 —O—C(═O)N(R 2 )R 3 (I) wherein X 1 is an optionally substituted aromatic group; R 1 is a linker; and R 2 and R 3 are the same or different optionally substituted linear, branched or cyclic aliphatic group or an optionally substituted aromatic group, wherein at least one of R 2 and R 3 is an optionally substituted branched alkyl group having 4 or more carbon atoms.

  提供了适用于光刻胶的新型光刻底物生成物，对应于式（I）：X1—R1—O—C(═O)N(R2)R3（I）其中X1是可选择取代的芳香族基团；R1是连接基团；R2和R3是相同或不同的可选择取代的线性、支链或环烷基基团或可选择取代的芳香族基团，其中R2和R3中至少有一个是具有4个或更多碳原子的可选择取代的支链烷基基团。
• COATING COMPOSITION FOR USE WITH AN OVERCOATED PHOTORESIST
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20170059991A1

  公开（公告）日：2017-03-02

  Organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions for use with an overcoated photoresist, are provided that comprise that comprise a crosslinker component that comprises a structure of the following Formula (I):

  有机涂层组合物，特别是用于与覆盖光阻的抗反射涂层组合物，其包括包括以下化学式（I）结构的交联剂组分。
• ARYL ACETATE ONIUM MATERIALS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20150093709A1

  公开（公告）日：2015-04-02

  Acid generators comprising a carbocyclic aryl or heteroaromatic group substituted with at least one acetate moiety are provided. These acid generators are particularly useful as a photoresist composition component.

  提供了一种包括至少一个乙酸基取代的环状芳基或杂环芳基的酸发生剂。这些酸发生剂在光刻胶组分中特别有用。