2-(1-adamantyl)-2-propyl bromoacetate | 124980-28-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2-(1-adamantyl)-2-propyl bromoacetate
• 英文别名: 2-(1-Adamantyl)propan-2-yl 2-bromoacetate
• CAS: 124980-28-5
• 化学式: C₁₅H₂₃BrO₂
• 分子量: 315.25
• InChiKey: SNKQOTDGPRPWKZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.93
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(1-adamantyl)-2-propyl bromoacetate 在 ammonium hydroxide 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 反应 20.0h， 以86%的产率得到glycine 2-(1-adamantyl)-2-propyl ester hydrobromide
  参考文献：
  名称：

  Mutulis, F. K.; Polis, Ya. Yu.; Raquel', B. P., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1989, vol. 25, # 3.2, p. 501 - 506

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1-丙-1-烯-2-基金刚烷 、 溴乙酸 在 硫酸 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 240.0h， 以21%的产率得到2-(1-adamantyl)-2-propyl bromoacetate
  参考文献：
  名称：

  Mutulis, F. K.; Polis, Ya. Yu.; Raquel', B. P., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1989, vol. 25, # 3.2, p. 501 - 506

  摘要：

  DOI：

文献信息

• COMPOUND AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP2100870A1

  公开（公告）日：2009-09-16

  A compound shown by the following formula (1) can be used as a material for a radiation-sensitive composition capable of forming a resist film which effectively responds to electron beams or the like, exhibits low roughness, and can form a high precision minute pattern in a stable manner.

  下式（1）所示的化合物可用作辐射敏感组合物的材料，该组合物能够形成对电子束等有效响应的抗蚀剂薄膜，粗糙度低，并能稳定地形成高精度的微小图案。
• MUTULIS, F. K.;POLIS, YA. YU.;RAGUEL, B. P.;SEKATSIS, I. P.;MISHNEV, A. F+, ZH. ORGAN. XIMII, 25,(1989) N, S. 558-565
  作者：MUTULIS, F. K.、POLIS, YA. YU.、RAGUEL, B. P.、SEKATSIS, I. P.、MISHNEV, A. F+

  DOI：——

  日期：——
• ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING A PATTERN USING THE SAME
  申请人：IIZUKA Yusuke

  公开号：US20120171618A1

  公开（公告）日：2012-07-05

  According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin containing a repeating unit (A) containing both a structural moiety (S1) that is decomposed by an action of an acid to thereby generate an alkali-soluble group and a structural moiety (S2) that is decomposed by an action of an alkali developer to thereby increase its rate of dissolution into the alkali developer, and a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation.
• US8173351B2
  申请人：——

  公开号：US8173351B2

  公开（公告）日：2012-05-08