1,1-difluoro-2-(2-hydroxyethoxy)-2-oxoethane-1-sodium sulfonate | 935471-14-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: 1,1-difluoro-2-(2-hydroxyethoxy)-2-oxoethane-1-sodium sulfonate
• 英文别名: 1,1-Difluoro-2-(2-hydroxyethoxy)-2-oxoethanesulfonic acid sodium salt；sodium;1,1-difluoro-2-(2-hydroxyethoxy)-2-oxoethanesulfonate
• CAS: 935471-14-0
• 化学式: C₄H₅F₂O₆S*Na
• 分子量: 242.133
• InChiKey: RPYYMEKCBZHOBY-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -4.34
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  112
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,1-difluoro-2-(2-hydroxyethoxy)-2-oxoethane-1-sodium sulfonate 、 在 硫酸 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 18.0h， 以86.3%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  由长春布宁合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法

  摘要：

  本发明公开了一种由长春布宁合成的磺酸锍盐类光产酸剂，涉及光产酸剂领域，结构式为：其中，R为氟代烷基，且R中的部分亚甲基可以被醚、酯基、碳酸酯、羰基这类含氧基团取代。本发明的光产酸剂能够降低了光产酸剂的扩散，有利于改善边缘粗糙度，减小线宽粗糙度，提高分辨率；亲水亲油平衡，树脂与光产酸剂在溶剂中混合更加均匀，有利于形成更加均匀的光刻胶；具有优良的耐刻蚀性能；在193nm波长下透明度高，有利于193nm波长下的曝光；合成路线简单。

  公开号：

  CN112645951A
• 作为产物：
  描述：

  difluorosulfoacetic acid sodium salt 、 2-苄氧基乙醇 在 对甲苯磺酸 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 20.0h， 以43.1%的产率得到1,1-difluoro-2-(2-hydroxyethoxy)-2-oxoethane-1-sodium sulfonate
  参考文献：
  名称：

  RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR

  摘要：

  一种抗蚀组合物，包括在酸和酸发生剂组分（B）的作用下，在碱性显影溶液中表现出改变溶解性的基础组分（A），所述酸发生剂组分（B）包括由（b1-1）表示的化合物，由（b1-1'）表示的化合物和/或由（b1-1''）表示的化合物（R1''-R3''表示芳基或烷基，但至少其中一个R1''-R3''表示被(b1-1-0)表示的基团取代的取代芳基，且其中两个R1''-R3''可以相互键合以形成与硫原子形成环的环；X表示C3-C30烃基；Q1表示含有羰基的二价连接基团；X10表示C1-C30烃基；Q3表示单键或二价连接基团；Y10表示—C(═O)—或—SO2—；Y11表示C1-C10烷基或氟代烷基；Q2表示单键或烷基基团；W表示C2-C10烷基基团。

  公开号：

  US20120264061A1

文献信息

• RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20170371241A1

  公开（公告）日：2017-12-28

  A resist composition containing a resin component having a structural unit represented by general formula (a0-1), and a compound represented by general formula (b1). In general formula (a0-1), R is a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogenated alkyl group. Va 1 is a divalent hydrocarbon group. n a1 represents an integer of 0 to 2. Ra′ 12 and Ra′ 13 are a monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom. Ra′ 14 is a phenyl group, a naphthyl group, or an anthryl group. In general formula (b1), R b1 represents a cyclic hydrocarbon group. Y b1 represents a divalent linking group containing an ester bond. V b1 represents an alkylene group, a fluorinated alkylene group, or a single bond. m is an integer of 1 or more, and M m+ is an m-valent organic cation.

  一种电阻组分，包含具有一般式（a0-1）所代表的结构单元的树脂组分，以及一种由一般式（b1）所代表的化合物。在一般式（a0-1）中，R是氢原子、烷基或卤代烷基。Va1是双价碳氢基团。na1表示0至2的整数。Ra′12和Ra′13是具有1至10个碳原子的单价链饱和碳氢基团或氢原子。Ra′14是苯基、萘基或蒽基。在一般式（b1）中，Rb1代表环烃基。Yb1代表含有酯键的双价连接基团。Vb1代表烷基、氟化烷基或单键。m是1或更多的整数，Mm+是m价有机阳离子。
• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, ACID GENERATOR AND COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20170176855A1

  公开（公告）日：2017-06-22

  A resist composition which generates acid upon exposure and exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid, and which includes a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including a compound (B1) represented by general formula (b1) shown below (in general formula (b1), R b1 represents a bridged alicyclic group having 7 to 30 carbon atoms and containing a polar group; Y b1 represents a linear hydrocarbon group of 9 or more carbon atoms which may have a substituent excluding at least one member selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon group and a vinyl group; V b1 represents a fluorinated alkylene group; m represents an integer of 1 or more; and M m+ represents an organic cation having a valency of m). R b1 —Y b1 —V b1 —SO 3 − (M m+ ) 1/m (b1)

  一种抗蚀组合物，在暴露后产生酸，并在酸的作用下在显影溶液中表现出改变的溶解度，包括在酸的作用下在显影溶液中表现出改变的溶解度的基组分（A）和在暴露后产生酸的酸生成组分（B），其中酸生成组分（B）包括下面所示的一般式（b1）表示的化合物（B1）（在一般式（b1）中，Rb1代表具有7至30个碳原子并含有极性基团的桥环脂环基团；Yb1代表具有9个或更多碳原子的线性烃基团，可能具有一个取代基，但不包括由芳香烃基团和乙烯基组成的至少一种成员；Vb1代表氟代烷基烯基团；m表示1或更多的整数；Mm+代表价数为m的有机阳离子）。Rb1—Yb1—Vb1—SO3−(Mm+)1/m（b1）
• 光致产酸剂及其制备方法
  申请人：江苏汉拓光学材料有限公司

  公开号：CN113912520A

  公开（公告）日：2022-01-11

  本发明公开了一种光致产酸剂及其制备方法，属于有机合成技术领域。所述光致产酸剂的结构通式如下：其中，R1为脂环烃基、R2为亚烷基、R3为氢或烷基。光致产酸剂的制备方法为由化合物Ⅲ与化合物Ⅱ经离子交换在第一溶剂中反应，纯化得到光致产酸剂Ⅰ。本发明合成一种新的光致产酸剂且合成方法收率高、纯度高。
• Positive resist composition and method of forming a resist pattern using the same
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：EP2093213B1

  公开（公告）日：2017-10-04
• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR
  申请人：HADA Hideo

  公开号：US20120264061A1

  公开（公告）日：2012-10-18

  A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) including a compound represented by (b1-1), a compound represented by (b1-1′) and/or a compound represented by (b1-1″) (R 1 ″-R 3 ″ represents an aryl group or an alkyl group, provided that at least one of R 1 ″-R 3 ″ represents a substituted aryl group being substituted with a group represented by (b1-1-0), and two of R 1 ″-R 3 ″ may be mutually bonded to form a ring with the sulfur atom; X represents a C 3 -C 30 hydrocarbon group; Q 1 represents a carbonyl group-containing divalent linking group; X 10 represents a C 1 -C 30 hydrocarbon group; Q 3 represents a single bond or a divalent linking group; Y 10 represents —C(═O)— or —SO 2 —; Y 11 represents a C 1 -C 10 alkyl group or a fluorinated alkyl group: Q 2 represents a single bond or an alkylene group; and W represents a C 2 -C 10 alkylene group).

  一种抗蚀组合物，包括在酸和酸发生剂组分（B）的作用下，在碱性显影溶液中表现出改变溶解性的基础组分（A），所述酸发生剂组分（B）包括由（b1-1）表示的化合物，由（b1-1'）表示的化合物和/或由（b1-1''）表示的化合物（R1''-R3''表示芳基或烷基，但至少其中一个R1''-R3''表示被(b1-1-0)表示的基团取代的取代芳基，且其中两个R1''-R3''可以相互键合以形成与硫原子形成环的环；X表示C3-C30烃基；Q1表示含有羰基的二价连接基团；X10表示C1-C30烃基；Q3表示单键或二价连接基团；Y10表示—C(═O)—或—SO2—；Y11表示C1-C10烷基或氟代烷基；Q2表示单键或烷基基团；W表示C2-C10烷基基团。