2-甲基磺酰氧基异吲哚-1,3-二酮 | 57212-70-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异吲哚及其衍生物
• 中文名称: 2-甲基磺酰氧基异吲哚-1,3-二酮
• 英文名称: N-(mesyloxy)phthalimide
• 英文别名: phthalimide N-mesylate；1,3-dioxoisoindolin-2-yl methanesulfonate；N-methanesulfonyloxy-phthalimide；N-Methansulfonyloxy-phthalimid；2-[(methylsulfonyl)oxy]-1H-isoindole-1,3(2H)-dione；N-(methylsulfonyloxy)-phthalimide；2-Methylsulfonyloxyisoindole-1,3-dione；(1,3-dioxoisoindol-2-yl) methanesulfonate
• CAS: 57212-70-1
• 化学式: C₉H₇NO₅S
• 分子量: 241.224
• InChiKey: MZVIAOIHWLOXPX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.5
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.11
• 拓扑面积：
  89.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

SDS

1.1 产品标识符
: N-(Methylsulfonyloxy)-phthalimide
产品名称
1.2 鉴别的其他方法
无数据资料
1.3 有关的确定了的物质或混合物的用途和建议不适合的用途
仅供科研用途，不作为药物、家庭备用药或其它用途。

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模块 2. 危险性概述
2.1 GHS分类
急性毒性, 经口 (类别4)
2.2 GHS 标记要素，包括预防性的陈述
象形图
警示词 警告
危险申明
H302 吞咽有害。
警告申明
预防
P264 操作后彻底清洁皮肤。
P270 使用本产品时不要进食、饮水或吸烟。
措施
P301 + P312 如果吞下去了: 如感觉不适，呼救解毒中心或看医生。
P330 漱口。
处理
P501 将内容物/ 容器处理到得到批准的废物处理厂。
2.3 其它危害物 - 无

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模块 3. 成分/组成信息
3.1 物 质
: C9H7NO5S
分子式
: 241.22 g/mol
分子量
组分 浓度或浓度范围
N-(Methylsulfonyloxy)-phthalimide
-
CAS 号 57212-70-1

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模块 4. 急救措施
4.1 必要的急救措施描述
一般的建议
请教医生。 出示此安全技术说明书给到现场的医生看。
吸入
如果吸入,请将患者移到新鲜空气处。 如果停止了呼吸,给于人工呼吸。 请教医生。
皮肤接触
用肥皂和大量的水冲洗。 请教医生。
眼睛接触
用水冲洗眼睛作为预防措施。
食入
切勿给失去知觉者从嘴里喂食任何东西。 用水漱口。 请教医生。
4.2 主要症状和影响，急性和迟发效应
据我们所知，此化学，物理和毒性性质尚未经完整的研究。
4.3 及时的医疗处理和所需的特殊处理的说明和指示
无数据资料

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模块 5. 消防措施
5.1 灭火介质
灭火方法及灭火剂
用水雾,耐醇泡沫,干粉或二氧化碳灭火。
5.2 源于此物质或混合物的特别的危害
碳氧化物, 氮氧化物, 硫氧化物
5.3 给消防员的建议
如必要的话,戴自给式呼吸器去救火。
5.4 进一步信息
无数据资料

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模块 6. 泄露应急处理
6.1 人员的预防,防护设备和紧急处理程序
使用个人防护设备。 防止粉尘的生成。 防止吸入蒸汽、气雾或气体。 保证充分的通风。 避免吸入粉尘。
6.2 环境保护措施
不要让产物进入下水道。
6.3 抑制和清除溢出物的方法和材料
收集、处理泄漏物，不要产生灰尘。 扫掉和铲掉。 存放进适当的闭口容器中待处理。
6.4 参考其他部分
丢弃处理请参阅第13节。

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模块 7. 操作处置与储存
7.1 安全操作的注意事项
避免接触皮肤和眼睛。 防止粉尘和气溶胶生成。
在有粉尘生成的地方,提供合适的排风设备。一般性的防火保护措施。
7.2 安全储存的条件,包括任何不兼容性
贮存在阴凉处。 容器保持紧闭，储存在干燥通风处。
7.3 特定用途
无数据资料

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模块 8. 接触控制和个体防护
8.1 容许浓度
最高容许浓度
没有已知的国家规定的暴露极限。
8.2 暴露控制
适当的技术控制
按照良好工业和安全规范操作。 休息前和工作结束时洗手。
个体防护设备
眼/面保护
带有防护边罩的安全眼镜符合 EN166要求请使用经官方标准如NIOSH (美国) 或 EN 166(欧盟)
检测与批准的设备防护眼部。
皮肤保护
戴手套取 手套在使用前必须受检查。
请使用合适的方法脱除手套(不要接触手套外部表面),避免任何皮肤部位接触此产品.
使用后请将被污染过的手套根据相关法律法规和有效的实验室规章程序谨慎处理. 请清洗并吹干双手
所选择的保护手套必须符合EU的89/686/EEC规定和从它衍生出来的EN 376标准。
身体保护
全套防化学试剂工作服, 防护设备的类型必须根据特定工作场所中的危险物的浓度和含量来选择。
呼吸系统防护
如须暴露于有害环境中,请使用P95型(美国)或P1型(欧盟 英国
143)防微粒呼吸器。如需更高级别防护,请使用OV/AG/P99型(美国)或ABEK-P2型 (欧盟 英国 143)
防毒罐。
呼吸器使用经过测试并通过政府标准如NIOSH（US）或CEN（EU）的呼吸器和零件。

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模块 9. 理化特性
9.1 基本的理化特性的信息
a) 外观与性状
形状: 固体
b) 气味
无数据资料
c) 气味阈值
无数据资料
d) pH值
无数据资料
e) 熔点/凝固点
熔点/凝固点: 166 - 168 °C
f) 起始沸点和沸程
无数据资料
g) 闪点
无数据资料
h) 蒸发速率
无数据资料
i) 易燃性(固体,气体)
无数据资料
j) 高的/低的燃烧性或爆炸性限度 无数据资料
k) 蒸汽压
无数据资料
l) 蒸汽密度
无数据资料
m) 相对密度
无数据资料
n) 水溶性
无数据资料
o) n-辛醇/水分配系数
辛醇--水的分配系数的对数值: 1.158
p) 自燃温度
无数据资料
q) 分解温度
无数据资料
r) 粘度
无数据资料

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模块 10. 稳定性和反应活性
10.1 反应性
无数据资料
10.2 稳定性
无数据资料
10.3 危险反应的可能性
无数据资料
10.4 应避免的条件
无数据资料
10.5 不兼容的材料
强氧化剂
10.6 危险的分解产物
其它分解产物 - 无数据资料

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模块 11. 毒理学资料
11.1 毒理学影响的信息
急性毒性
无数据资料
皮肤刺激或腐蚀
无数据资料
眼睛刺激或腐蚀
无数据资料
呼吸道或皮肤过敏
无数据资料
生殖细胞突变性
无数据资料
致癌性
IARC:
此产品中没有大于或等于 0。1%含量的组分被 IARC鉴别为可能的或肯定的人类致癌物。
生殖毒性
无数据资料
特异性靶器官系统毒性（一次接触）
无数据资料
特异性靶器官系统毒性（反复接触）
无数据资料
吸入危险
无数据资料
潜在的健康影响
吸入 吸入可能有害。 可能引起呼吸道刺激。
摄入 误吞对人体有害。
皮肤 如果通过皮肤吸收可能是有害的。 可能引起皮肤刺激。
眼睛 可能引起眼睛刺激。
接触后的征兆和症状
据我们所知，此化学，物理和毒性性质尚未经完整的研究。
附加说明
化学物质毒性作用登记: 无数据资料

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模块 12. 生态学资料
12.1 生态毒性
无数据资料
12.2 持久存留性和降解性
无数据资料
12.3 潜在的生物蓄积性
无数据资料
12.4 土壤中的迁移性
无数据资料
12.5 PBT 和 vPvB的结果评价
无数据资料
12.6 其它不利的影响
无数据资料

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模块 13. 废弃处置
13.1 废物处理方法
产品
将剩余的和未回收的溶液交给处理公司。 联系专业的拥有废弃物处理执照的机构来处理此物质。
与易燃溶剂相溶或者相混合，在备有燃烧后处理和洗刷作用的化学焚化炉中燃烧
受污染的容器和包装
作为未用过的产品弃置。

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模块 14. 运输信息
14.1 联合国危险货物编号
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.2 联合国（UN）规定的名称
欧洲陆运危规: 非危险货物
国际海运危规: 非危险货物
国际空运危规: 非危险货物
14.3 运输危险类别
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.4 包裹组
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.5 环境危险
欧洲陆运危规: 否 国际海运危规 海运污染物: 否 国际空运危规: 否
14.6 对使用者的特别提醒
无数据资料

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模块 15 - 法规信息
N/A

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-甲基磺酰氧基异吲哚-1,3-二酮 在 ammonium hydroxide 作用下， 生成 2,4-喹唑啉二酮
  参考文献：
  名称：

  Kuehle; Wegler, Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1958, vol. 616, p. 183,206

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  N-羟基邻苯二甲酰亚胺 、 甲基磺酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 4.0h， 以38%的产率得到2-甲基磺酰氧基异吲哚-1,3-二酮
  参考文献：
  名称：

  基于琥珀酰亚胺的线粒体菱形蛋白酶PARL抑制剂的开发

  摘要：

  虽然菱形蛋白酶的生物化学自 20 年前被发现以来已被广泛研究，但正在努力确定这些酶的生理作用，并将受益于可用于操纵这些蛋白质在其天然环境中的功能的化学探针。在这里，我们描述了使用基于活性的蛋白质分析 (ABPP) 技术对线粒体菱形蛋白酶 PARL 的小分子抑制剂进行靶向筛选，后者在调节线粒体自噬和细胞死亡方面起着关键作用。我们合成了一系列含琥珀酰亚胺的磺酰酯和磺酰胺，发现这些化合物可作为 PARL 的抑制剂，其中最有效的磺酰胺对酶具有亚微摩尔亲和力。针对细菌菱形蛋白酶 GlpG 的反筛选表明，这些化合物中的一些对 PARL 的选择性比 GlpG 高两个数量级。磺酰酯和磺酰胺支架均表现出可逆结合，并且能够与哺乳动物细胞中的 PARL 结合。总的来说，我们的发现为开发 PARL 选择性抑制剂提供了令人鼓舞的先例，并建立了N- [(芳基磺酰基)氧基]琥珀酰亚胺和N-芳基磺酰基琥珀酰亚胺作为抑制菱形蛋白酶家族成员的新分子支架。

  DOI：

  10.1016/j.bmcl.2021.128290
• 作为试剂：
  描述：

  苯甲醚 在 三氟甲磺酸 、 2-甲基磺酰氧基异吲哚-1,3-二酮 、 一水合肼 作用下， 生成 间氨基苯甲醚 、 邻甲氧基苯胺 、 甲氧苯胺
  参考文献：
  名称：

  Abramovitch, Rudolph A.; Beckert, Joseph M.; Chinnasamy, Pennamuthiriar, Heterocycles, 1989, vol. 28, # 2, p. 623 - 628

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Nitrogen-centered radical-mediated C–H imidation of arenes and heteroarenes <i>via</i> visible light induced photocatalysis
  作者：Hyejin Kim、Taehoon Kim、Dong Gil Lee、Sang Weon Roh、Chulbom Lee

  DOI：10.1039/c4cc03905j

  日期：——

  The C-H imidation of arenes and heteroarenes has been achieved via visible light induced photocatalysis. In the presence of an iridium(III) photoredox catalyst, the reaction of aromatic substrates with N-chlorophthalimide furnishes the N-aryl products at room temperature through a nitrogen-centered radical mediated aromatic substitution.

  芳烃和杂芳烃的CH酰亚胺化是通过可见光诱导的光催化实现的。在铱（III）光氧化还原催化剂的存在下，芳族底物与N-氯邻苯二甲酰亚胺的反应在室温下通过以氮为中心的自由基介导的芳族取代提供N-芳基产物。
• COMPOUND, RESIN, MATERIAL FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PURIFYING THE COMPOUND OR RESIN
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20170073288A1

  公开（公告）日：2017-03-16

  The compound according to the present invention is represented by a specific formula. The compound according to the present invention has a structure according to the specific formula, and therefore can be applied to a wet process and is excellent in heat resistance and etching resistance. In addition, the compound according to the present invention has such a specific structure, and therefore has a high heat resistance, a relatively high carbon concentration, a relatively low oxygen concentration and also a high solvent solubility. Therefore, the compound according to the present invention can be used to form an underlayer film whose degradation is suppressed at high-temperature baking and which is also excellent in etching resistance to oxygen plasma etching or the like. Furthermore, the compound is also excellent in adhesiveness with a resist layer and therefore can form an excellent resist pattern.

  根据本发明，该化合物由特定的公式表示。根据本发明，该化合物具有特定公式的结构，因此可应用于湿法工艺，具有优异的耐热性和耐蚀性。此外，根据本发明，该化合物具有特定结构，因此具有高耐热性、相对较高的碳浓度、相对较低的氧浓度以及高溶剂溶解性。因此，根据本发明的化合物可用于形成在高温烘烤时降解受抑制且在氧等离子体蚀刻中具有优异耐蚀性的底层膜。此外，该化合物在与光阻层的粘附性方面也表现出色，因此可形成优异的光阻图案。
• Novel tertiary (meth)acrylates having lactone structure, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：Watanabe Takeru

  公开号：US20050250924A1

  公开（公告）日：2005-11-10

  Novel tertiary (meth)acrylate compounds having a lactone structure are polymerizable into polymers having improved transparency, especially at the exposure wavelength of an excimer laser and dry etching resistance. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, have a high resolution, and lend themselves to micropatterning with electron beams or deep-UV rays.

  新型含有内酯结构的三元（甲基）丙烯酸酯化合物可聚合成具有改善透明度的聚合物，特别是在准分子激光的照射波长下以及干法刻蚀抗性方面。包括这些聚合物的抗蚀组合物对高能辐射敏感，具有高分辨率，并适用于电子束或深紫外线微图案化。
• MATERIAL FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING METHOD
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20180101096A1

  公开（公告）日：2018-04-12

  A material for forming an underlayer film for lithography, in which a compound represented by the following formula (0) is used. (in formula (0), each X independently represents an oxygen atom or a sulfur atom, or a non-crosslinked state, R 1 represents a 2 n -valent group having 1 to 30 carbon atoms, or a single bond, each R 0 independently represents a straight, branched or cyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, a straight, branched or cyclic alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, a thiol group, a halogen group, a nitro group, an amino group, a carboxylic acid group or a hydroxyl group, the alkyl group, the alkenyl group and the aryl group each optionally include a cyanato group, a thiol group, a halogen group, a nitro group, an amino group, a carboxylic acid group, a hydroxyl group, an ether bond, a ketone bond or an ester bond, each m 1 is independently an integer of 0 to 4, in which at least one m 1 is an integer of 1 to 4, each m 2 is independently an integer of 0 to 3, n is an integer of 1 to 4, and each p is independently 0 or 1.)

  一种用于光刻的底层膜的材料，其中使用以下式(0)代表的化合物。(在式(0)中，每个X独立表示氧原子或硫原子，或非交联状态，R1表示具有1到30个碳原子的2n价基团，或者单键，每个R0独立表示具有1到30个碳原子的直链、支链或环烷基，具有6到30个碳原子的芳基，具有2到30个碳原子的直链、支链或环烯基，硫醇基，卤素基，硝基，氨基，羧基或羟基，烷基、烯基和芳基中每个可选包括氰酸基、硫醇基、卤素基、硝基、氨基、羧基、羟基、醚键、酮键或酯键，每个m1独立地为0到4的整数，其中至少一个m1为1到4的整数，每个m2独立地为0到3的整数，n为1到4的整数，每个p独立地为0或1。)
• Process for the preparation of substituted phenols
  申请人：Daicel Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP1967505A1

  公开（公告）日：2008-09-10

  A substituted phenolic compound is prepared by oxidizing a substituted diarylethane compound with oxygen in the presence of a nitrogen-containing cyclic compound, and treating the oxidized product with an acid. The nitrogen-containing cyclic compound includes, as a constituent of its ring, a skeleton represented by following Formula (I): wherein X is oxygen atom or an -OR group, where R is hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group. The substituted diarylethane compound is represented by following Formula (1): wherein each of Ring Ar1 and Ring Ar2 is independently a monocyclic or polycyclic aromatic carbocyclic ring; Y1 is an electron-donating group; Y2 is an electron-withdrawing group; "p" is an integer of 1 or more; and "q" is an integer of 0 or more. The substituted phenolic compound is represented by following Formula (2): wherein Ring Ar1, Y1, and "p" are as defined above.

  一种取代酚化合物是通过在含氮环化合物存在下氧化取代二芳乙烷化合物制备的，并且用酸处理氧化产物。含氮环化合物包括其环中的一个组分是由以下式（I）表示的骨架：其中X是氧原子或-OR基团，其中R是氢原子或羟基保护基团。取代二芳乙烷化合物由以下式（1）表示：其中Ar1环和Ar2环中的每一个独立地是单环或多环芳香碳环；Y1是电子给予基团；Y2是电子吸引基团；“p”是1或更多的整数；“q”是0或更多的整数。取代酚化合物由以下式（2）表示：其中Ar1环，Y1和“p”如上定义。