3,3’-二甲氧基-4,4’-二叠氮基联苯酚 | 43101-09-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 3,3’-二甲氧基-4,4’-二叠氮基联苯酚
• 英文名称: p,p'-Diazido-m,m'-dimethoxybiphenyl
• 英文别名: bis-diazo-3,3'-dimethoxybenzidine；4,4'-Diazido-3,3'-dimethoxy-biphenyl；[[4-(4-diazonioimino-3-methoxycyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)-2-methoxycyclohexa-2,5-dien-1-ylidene]hydrazinylidene]azanide
• CAS: 43101-09-3
• 化学式: C₁₄H₁₂N₆O₂
• 分子量: 296.288
• InChiKey: WLNIECNLFRHWOI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  84.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  联大茴香胺 、 1-氨基-8-萘酚-4-磺酸 、 3,3’-二甲氧基-4,4’-二叠氮基联苯酚 在 盐酸 、 sodium hydroxide 、 sodium nitrite 作用下， 以 甲醇 、 水 为溶剂， 生成 6,6'-(3,3'-dimethoxy-biphenyl-4,4'-diyl)bis(azo)bis(4-amino-5-hydroxynaphthalene-1-sulfonic acid)
  参考文献：
  名称：

  Amyloidosis and Alzheimer's disease diagnostic assay and reagents

  摘要：

  患者器官或身体区域中淀粉样沉积的存在和位置受到新型放射性碘标记的淀粉结合化合物以及最好是.sup.123 I标记的化合物通过静脉注射到患者体内，并感知从器官或身体区域发出的辐射。新型非放射性碘替代的淀粉结合化合物和易于碘化的淀粉结合化合物是本发明的另一个方面。

  公开号：

  US04933156A1
• 作为产物：
  描述：

  联大茴香胺 在 盐酸 、 sodium azide 、 sodium nitrite 作用下， 生成 3,3’-二甲氧基-4,4’-二叠氮基联苯酚
  参考文献：
  名称：

  Sauer, E.; Schopf, G.; Czarnetzki, K., Zeitschrift fur Physikalische Chemie (Leipzig), 1989, vol. 270, # 6, p. 1185 - 1195

  摘要：

  DOI：

文献信息

• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
  申请人：Kansai Research Institute (KRI)

  公开号：EP0962825A1

  公开（公告）日：1999-12-08

  A photosensitive resin composition comprises a base resin (e.g., novolak resins, polyvinylphenol-series polymers), a first photoactive ingredient (e.g., diazobenzoquinone derivatives, diazonaphthoquinone derivatives) and a second photoactive ingredient (e.g., mixtures with azide compounds) each having an absorption range at wavelength λ1 or λ2, the wavelengths thereof being different from each other. Between the first and second photoactive ingredients, at least one photoactive ingredient is substantially inert at the absorption wavelength of the other. After exposing the photosensitive resin composition to a light to form a pattern, the whole surface of the photosensitive layer is exposed to a light of the other wavelength to make the surface hardly soluble (in the case a positive pattern is formed) or readily soluble (in the case a negative pattern is formed) in a developer, and developed, thereby forming a pattern of high resolution. Utilizing an existing exposure system, there can be obtained photosensitive resin compositions (especially, resists for semiconductor production) having improved sensitivity and resolution.

  光敏树脂组合物包括基体树脂（如酚醛树脂、聚乙烯基苯酚系列聚合物）、第一种光活性成分（如重氮苯醌衍生物、重氮萘醌衍生物）和第二种光活性成分（如与叠氮化合物的混合物），每种光活性成分在波长λ1或λ2处均有吸收范围，其波长互不相同。在第一种和第二种光活性成分之间，至少有一种光活性成分在另一种光活性成分的吸收波长处基本上是惰性的。将感光树脂组合物曝光形成图案后，将感光层的整个表面曝光在另一波长的光下，使其表面难溶于显影剂（在形成正图案的情况下）或易溶于显影剂（在形成负图案的情况下），然后进行显影，从而形成高分辨率的图案。利用现有的曝光系统，可以获得具有更高灵敏度和分辨率的光敏树脂组合物（特别是用于半导体生产的抗蚀剂）。
• Substrate coated with silica-containing film with low-dielectric constant
  申请人：Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd

  公开号：US20040038047A1

  公开（公告）日：2004-02-26

  A coating liquid for forming a silica-containing film with a low-dielectric constant which enables formation of low-density film having a dielectric constant as low as 3 or less and having excellent resistance to oxygen plasma and process adaptation but also in the adhesion to a substrate and film strength. A substrate coated with the silica-containing film having the above characteristics, obtained by the use of the above coating liquid. The coating liquid for forming a silica-containing film with a low-dielectric constant comprises a polymer composition mainly constituted by a polysiloxane and a readily decomposable resin, said polysiloxane being a reaction product between fine particles of silica and a hydrolyzate of at least one alkoxysilane represented by the following formula (I): X n Si(OR) 4-n , wherein X represents a hydrogen atom, a fluorine atom, an unfluorinated or fluorinated alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, an aryl group or a vinyl group; R represents a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, an aryl group or a vinyl group; and n is an integer of 0 to 3.

  一种用于形成具有低介电常数的含硅薄膜的涂布液，该涂布液可形成介电常数低至 3 或更低的低密度薄膜，不仅具有出色的抗氧等离子体性能和工艺适应性，还具有出色的基材附着性和薄膜强度。通过使用上述涂布液，在基底上涂布具有上述特性的含硅薄膜。用于形成具有低介电常数的含硅薄膜的涂覆液包括主要由聚硅氧烷和易分解树脂构成的聚合物组合物，所述聚硅氧烷是细颗粒二氧化硅和至少一种由下式（I）表示的烷氧基硅烷的水解物之间的反应产物：X n Si(OR) 4-n 其中 X 代表氢原子、氟原子、1 至 8 个碳原子的未氟化或氟化烷基、芳基或乙烯基；R 代表氢原子、1 至 8 个碳原子的烷基、芳基或乙烯基；n 为 0 至 3 的整数。
• Amyloidosis and Alzheimer's disease diagnostic assay and reagents therefor
  申请人：SALUTAR, INC.

  公开号：EP0287909B1

  公开（公告）日：1992-09-02
• COATING FLUID FOR FORMING LOW-PERMITTIVITY SILICA-BASED COATING FILM AND SUBSTRATE WITH LOW-PERMITTIVITY COATING FILM
  申请人：JGC Catalysts and Chemicals Ltd.

  公开号：EP1035183B1

  公开（公告）日：2009-11-25
• NEGATIVE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE COMPOSITION AND METHOD OF FORMING IMAGE FROM THE SAME
  申请人：PI R & D Co., Ltd.

  公开号：EP1326138B1

  公开（公告）日：2014-11-05