N-<<1-(3,5-dimethoxyphenyl)-1-methylethoxy>carbonyl>cyclohexylamine | 129918-78-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: N-<<1-(3,5-dimethoxyphenyl)-1-methylethoxy>carbonyl>cyclohexylamine
• 英文别名: 2-(3,5-dimethoxyphenyl)propan-2-yl N-cyclohexylcarbamate
• CAS: 129918-78-1
• 化学式: C₁₈H₂₇NO₄
• 分子量: 321.417
• InChiKey: KBBAVAKORZZRRO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  461.1±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.10±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.61
• 拓扑面积：
  56.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-<<1-(3,5-dimethoxyphenyl)-1-methylethoxy>carbonyl>cyclohexylamine 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 24.0h， 生成 二氧化碳 、 1,3-二甲氧基-5-(2-丙烯基)苯 、 环己胺
  参考文献：
  名称：

  Base catalysis in imaging materials. 1. Design and synthesis of novel light-sensitive urethanes as photoprecursors of amines

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00310a028
• 作为产物：
  描述：

  2-(3,5-二甲氧基苯基)丙-2-醇 、 环己基异氰酸酯 在 lithium 作用下， 生成 N-<<1-(3,5-dimethoxyphenyl)-1-methylethoxy>carbonyl>cyclohexylamine
  参考文献：
  名称：

  Base catalysis in imaging materials. 1. Design and synthesis of novel light-sensitive urethanes as photoprecursors of amines

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00310a028

文献信息

• METHOD OF FORMING PATTERN AND COMPOSITION FOR FORMING OF ORGANIC THIN-FILM FOR USE THEREIN
  申请人：Shimizu Daisuke

  公开号：US20100233635A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A method for forming a pattern contains (1) a step of forming an underlayer film containing (A) a radiation-sensitive acid generator capable of generating an acid upon exposure to radiation rays or (B) a radiation-sensitive base generator capable of generating a base upon exposure to radiation rays on a substrate; (2) a step of irradiating the underlayer film with radiation rays through a mask with a predetermined pattern to obtain an exposed underlayer film portion having been selectively exposed through the predetermined pattern; (3) a step of forming (C) an organic thin film on the underlayer film so as to attain chemical bonding of the exposed underlayer film portion with the organic thin-film formed on the exposed underlayer film portion; and (4) a step of removing the organic thin film formed on areas of the underlayer film other than the exposed underlayer film portion.

  一种形成图案的方法包括：（1）在基板上形成一个底层薄膜，该底层薄膜包含（A）一种辐射敏感的酸发生剂，能够在辐射射线的作用下产生酸，或者（B）一种辐射敏感的碱发生剂，能够在辐射射线的作用下产生碱；（2）通过一个预定图案的掩模，用辐射射线照射底层薄膜，以获得已通过预定图案选择性暴露的底层薄膜部分；（3）在底层薄膜上形成一层有机薄膜，以实现暴露的底层薄膜部分与形成在暴露的底层薄膜部分上的有机薄膜的化学键合；（4）去除除暴露的底层薄膜部分外的底层薄膜区域上形成的有机薄膜。
• THIN FILM TRANSISTOR SUBSTRATE
  申请人：FUKUDA Shunji

  公开号：US20130126860A1

  公开（公告）日：2013-05-23

  A main object of the present invention is to provide a TFT substrate having excellent switching characteristics. The object is attained by providing a thin film transistor substrate comprising: a substrate, and a thin film transistor having an oxide semiconductor layer that is formed on the substrate and is formed from an oxide semiconductor, and a semiconductor layer-adjoining insulating layer formed to be in contact with the oxide semiconductor layer, wherein at least one semiconductor layer-adjoining insulating layer included in the thin film transistor is a photosensitive polyimide insulating layer formed by using a photosensitive polyimide resin composition.

  本发明的主要目的是提供一种具有优异开关特性的TFT基板。该目标通过提供一种薄膜晶体管基板来实现，该基板包括：基板和薄膜晶体管，所述薄膜晶体管具有在基板上形成的氧化物半导体层，该氧化物半导体层由氧化物半导体形成，并且与氧化物半导体层接触的半导体层相邻的绝缘层，其中，在薄膜晶体管中包括的至少一个半导体层相邻的绝缘层是使用光敏聚酰亚胺树脂组合物形成的光敏聚酰亚胺绝缘层来实现的。
• Strahlungshärtbare Zusammensetzungen, enthaltend mehrfunktionelle Acrylate und verkappte Amine
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0747454A1

  公开（公告）日：1996-12-11

  Strahlungshärtbare Zusammensetzungen, enthaltend a) Verbindungen mit mindestens zwei Kohlenstoff-Kohlenstoff Doppelbindungen, an die sich primär oder sekundär Aminogruppen in Form einer Michael-analogen Addition anlagern können (im nachfolgenden kurz aktivierte Doppelbindungen genannt) b) verkappte Aminoverbindungen, welche bei Bestrahlung mit energiereichem Licht Aminoverbindungen mit primären, sekundären oder primären und sekundären Aminogruppen freisetzen, wobei die Anzahl der in den Aminogruppen gebundenen H-Atome (aminische H-Atome) insgesamt mindestens 2 ist.

  辐射固化组合物，包括 a) 至少有两个碳碳双键的化合物，伯氨基或仲氨基可通过迈克尔-类似物加成的形式附着在这些碳碳双键上（以下简称活化双键）； b) 封端氨基化合物，在高能光照射下，释放出带有伯氨基、仲氨基或伯氨基和仲氨基的氨基化合物。 b) 封端氨基化合物，在高能光照射下，释放出带有伯氨基、仲氨基或伯氨基和 仲氨基的氨基化合物，氨基中键合的 H 原子（氨基 H 原子）总数至少为 2 个。
• Photocrosslinkable compositions, patterned high k thin film dielectrics and related devices
  申请人：E.T.C. S.r.l.

  公开号：EP2960280A1

  公开（公告）日：2015-12-30

  The present teachings relate to a photocrosslinkable composition including a partially fluorinated polymer, a photosensitive dehydrohalogenating agent, and a crosslinker. The photocrosslinkable composition can be used to prepare a patterned thin film having a high dielectric constant, for example, a dielectric constant greater than 10.

  本发明涉及一种光可交联组合物，包括部分氟化聚合物、光敏脱氢卤化剂和交联剂。该光可交联组合物可用于制备具有高介电常数（例如介电常数大于 10）的图案化薄膜。
• PHOTOCURABLE COMPOSITION
  申请人：Cemedine Co., Ltd.

  公开号：EP3023462A1

  公开（公告）日：2016-05-25

  A rapid-curing photocurable composition exerting excellent adhesion performance even with a low cumulative light quantity and being curable in a short time, thus ensuring excellent workability, is provided. A photocurable composition is made to includes:(A) a crosslinkable silicon group-containing organic polymer; (B) a photobase generator; and (C1) a silicon compound having an Si-F bond and/or (C2) one or more fluorine-based compounds selected from the group consisting of boron trifluoride, a boron trifluoride complex, a fluorinating agent, and an alkali metal salt of a polyfluoro compound. The (B) photobase generator is preferably a photolatent tertiary amine.

  本发明提供了一种快速固化光固化组合物，该组合物即使在累积光量较低的情况下也能发挥出色的粘合性能，并能在短时间内固化，从而确保出色的施工性能。光固化组合物包括：(A) 可交联的含硅基团的有机聚合物；(B) 光基发生器；以及 (C1) 具有 Si-F 键的硅化合物和/或 (C2) 一种或多种氟基化合物，这些化合物选自由三氟化硼、三氟化硼络合物、氟化剂和多氟化合物的碱金属盐组成的组。(B)光碱发生器最好是具有光惰性的叔胺。