1-bromo-2-(2-bromopropyl)benzene | 512786-27-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-bromo-2-(2-bromopropyl)benzene
• 英文别名: o-bromo-(2-bromopropyl)benzene
• CAS: 512786-27-5
• 化学式: C₉H₁₀Br₂
• 分子量: 277.986
• InChiKey: BCUMOWOSDFXTFQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  273.3±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.649±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-bromo-2-(2-bromopropyl)benzene 在 titanium(IV) isopropylate 、 L-(+)-酒石酸二乙酯 、 过氧化氢异丙苯 、 水 、 对甲苯磺酸 、 magnesium 、 1,2-二溴乙烷 作用下， 以 四氢呋喃 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 161.0h， 生成 1-(2-methyl-1H-inden-3-yl)-2-(methylsulfinyl)naphthalene
  参考文献：
  名称：

  立体特异性合成和平面手性二齿的结构η 5：κ小号-茚基-硫烷基和-铑配合物的亚磺（III）

  摘要：

  轴向手性rac -1-（2-甲基-1 H-茚满-3-基）-2-（甲基硫烷基）萘（rac - 3）是由2-（甲基硫烷基）-1-萘甲酸甲酯与二萘酚反应合成的衍生自1-溴-2-（2-溴丙基）苯的格氏试剂，然后通过酸催化将中间体茚满醇脱水。用m -CPBA氧化rac - 3得到非对映异构亚砜（a R *，R S *）- 5和（a R *，S S *）- 6-，相对构型为5使用单晶X射线衍射建立的。在二氯[η 5：κ小号-茚基-硫烷基-亚磺酰基和[铑络合物外消旋- 4，（对- [R *，小号小号*） - 7，和（p - [R *，- [R小号*） - 8是通过反应合成配体rac - 3，（a R *，R S *）- 5和（a R *，S S *）- 6分别用三氯化铑在9：1甲醇/水溶液中加热回流。已发现使用水作为助溶剂对于在络合反应中获得良好的产率至关重要。外消旋铑配合物的固态结构是通过单晶X射线衍

  DOI：

  10.1021/om300581r
• 作为产物：
  描述：

  1-(2-溴苯基)-2-丙醇 在 四溴化碳 、 三苯基膦 作用下， 以97%的产率得到1-bromo-2-(2-bromopropyl)benzene
  参考文献：
  名称：

  通过邻-（β-镁烷基）苯基二卤化镁与羧酸酯反应的新方法合成3-取代-1 H-茚

  摘要：

  通过邻-（β-镁烷基烷基）苯基二卤化镁与羧酸酯的反应，然后使中间的1-取代-1-茚满醇脱水，开发了3-取代-1 H-茚的新合成方法。已经制备了允许合成3-取代的，2-甲基-3-取代的和4-甲基-3-取代的-1 H-茚的二格里纳试剂，两步序列的总产率为45至95％。

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(02)02344-4

文献信息

• Electronic device substrate, method for manufacturing substrate, compound used for substrate, method for manufacturing compound and polymerization initiator including compound
  申请人：Seiko Epson Corporation

  公开号：EP1854553A1

  公开（公告）日：2007-11-14

  An electronic device substrate includes a substrate having at least one of a metal and a metal oxide on a surface thereof and an underlying layer having a compound expressed by a following general formula (1): wherein X presents one of a hydrogen atom and a protecting group; Y1 represents one of an oxygen atom, an alkylene group and -N(R1)-, in which R1 represents an alkyl group. Z1 represents a polymerization initiating group; n1 represents an integer from 1 to 4; and m1 represents an integer from 1 to 15.

  一种电子设备基板包括在其表面具有金属和金属氧化物中至少一种的基板，以及具有由以下通式（1）表示的化合物的底层： 其中 X 代表氢原子和保护基团中的一种；Y1 代表氧原子、亚烷基和-N(R1)-中的一种，其中 R1 代表烷基。Z1 代表聚合引发基；n1 代表 1 至 4 的整数；m1 代表 1 至 15 的整数。
• Electronic device substrate, method for manufacturing substrate
  申请人：Seiko Epson Corporation

  公开号：EP1854553B1

  公开（公告）日：2014-11-05
• ELECTRONIC DEVICE SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE, COMPOUND USED FOR SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING COMPOUND AND POLYMERIZATION INITIATOR INCLUDING COMPOUND
  申请人：FUKUSHIMA Hitoshi

  公开号：US20070259187A1

  公开（公告）日：2007-11-08

  An electronic device substrate includes a substrate having at least one of a metal and a metal oxide on a surface thereof and an underlying layer having a compound expressed by a following general formula (1): wherein X presents one of a hydrogen atom and a protecting group; Y 1 represents one of an oxygen atom, an alkylene group and —N(R 1 )—, in which R 1 represents an alkyl group; Z 1 represents a polymerization initiating group; n 1 represents an integer from 1 to 4; and m 1 represents an integer from 1 to 15.
• US7955705B2
  申请人：——

  公开号：US7955705B2

  公开（公告）日：2011-06-07