Bis[2-[(3-hydroxy-1-adamantyl)oxy]-2-oxoethyl] 2-hydroxybutanedioate | 1425490-16-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 肽模拟物
• 英文名称: Bis[2-[(3-hydroxy-1-adamantyl)oxy]-2-oxoethyl] 2-hydroxybutanedioate
• 英文别名: bis[2-[(3-hydroxy-1-adamantyl)oxy]-2-oxoethyl] 2-hydroxybutanedioate
• CAS: 1425490-16-9
• 化学式: C₂₈H₃₈O₁₁
• 分子量: 550.603
• InChiKey: GBLNULNJRIGEOQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  39
• 可旋转键数：
  13
• 环数：
  8.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  166
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  11

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Bis[2-[(3-hydroxy-1-adamantyl)oxy]-2-oxoethyl] 2-hydroxybutanedioate 在 sodium tetrahydroborate 、 水 、 N,N'-羰基二咪唑 作用下， 以 氯仿 、 乙腈 为溶剂， 反应 12.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  这是一段专利申请的描述，内容涉及制造具有良好CD均一性（CDU）的光阻图案的目的和解决方案。提供了包含盐和酸发生剂的光阻组成物，其中盐、酸发生剂和光阻组成物由式（I）表示。【式中，Q1和Q2分别为氟原子或全氟烷基；R1和R2分别为氢原子、氟原子等；z为0~6的整数；X1和X2分别为*−CO−O−、*−O−CO−等；L1可以是具有取代基的碳氢基；A1为具有取代基的脂环烃基或由脂环烃基和烷基组成的基；L2和L3分别为单键或*−A2−CO−O−，A2为烷基；R3和R4分别为具有取代基的碳氢基；Z+表示有机阳离子。】

  公开号：

  JP2021147388A
• 作为产物：
  描述：

  苹果酸 、 chloroethanoic acid 3-hydroxyadamantyl ester 在 potassium carbonate 、 potassium iodide 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 6.0h， 生成 Bis[2-[(3-hydroxy-1-adamantyl)oxy]-2-oxoethyl] 2-hydroxybutanedioate
  参考文献：
  名称：

  SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN

  摘要：

  一种光刻胶组合物，包含一种树脂，该树脂几乎不溶解或不溶解，但在酸的作用下可溶解于水性碱溶液中，并且包含由式(I)表示的盐：其中Q1、Q2、L1、W1、W2、R1、R2、t1和t2在规范中定义，Z+代表有机阳离子。

  公开号：

  US20130052588A1

文献信息

• SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20130052588A1

  公开（公告）日：2013-02-28

  A photoresist composition containing a resin that is hardly soluble or insoluble, but which is soluble in an aqueous alkali solution by action of an acid, and a salt represented by formula (I): wherein Q 1 , Q 2 , L 1 , W 1 , W 2 , R 1 , R 2 , t1 and t2 are defined in the specification, and Z + represents an organic cation.

  一种光刻胶组合物，包含一种树脂，该树脂几乎不溶解或不溶解，但在酸的作用下可溶解于水性碱溶液中，并且包含由式(I)表示的盐：其中Q1、Q2、L1、W1、W2、R1、R2、t1和t2在规范中定义，Z+代表有机阳离子。
• US8741544B2
  申请人：——

  公开号：US8741544B2

  公开（公告）日：2014-06-03
• 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2021147388A

  公开（公告）日：2021-09-27

  【課題】良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造することができる塩及びこれを含むレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物。［式中、Ｑ１及びＱ２はそれぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素原子、フッ素原子等；ｚは０〜６の整数；Ｘ1及びＸ２はそれぞれ、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−等；Ｌ1は単結合又は置換基を有してもよい炭化水素基；Ａ１は、置換基を有してもよい脂環式炭化水素基又は置換基を有してもよい脂環式炭化水素基とアルカンジイル基を組み合わせてなる基；Ｌ２及びＬ３はそれぞれ単結合又は＊−Ａ２−ＣＯ−Ｏ−、Ａ２はアルカンジイル基；Ｒ３及びＲ４はそれぞれ置換基を有してもよい炭化水素基；Ｚ＋は有機カチオンを表す。］【選択図】なし

  这是一段专利申请的描述，内容涉及制造具有良好CD均一性（CDU）的光阻图案的目的和解决方案。提供了包含盐和酸发生剂的光阻组成物，其中盐、酸发生剂和光阻组成物由式（I）表示。【式中，Q1和Q2分别为氟原子或全氟烷基；R1和R2分别为氢原子、氟原子等；z为0~6的整数；X1和X2分别为*−CO−O−、*−O−CO−等；L1可以是具有取代基的碳氢基；A1为具有取代基的脂环烃基或由脂环烃基和烷基组成的基；L2和L3分别为单键或*−A2−CO−O−，A2为烷基；R3和R4分别为具有取代基的碳氢基；Z+表示有机阳离子。】