2-trifluoromethyl-1,1,1,3,3,5,5,5-octafluoropentane-2,4-diol | 852299-67-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2-trifluoromethyl-1,1,1,3,3,5,5,5-octafluoropentane-2,4-diol
• 英文别名: 1,1,1,3,3,5,5,5-Octafluoro-2-(trifluoromethyl)pentane-2,4-diol
• CAS: 852299-67-3
• 化学式: C₆H₃F₁₁O₂
• 分子量: 316.071
• InChiKey: BMSNGLXBEUEIMI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  13

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-trifluoromethyl-1,1,1,3,3,5,5,5-octafluoropentane-2,4-diol 、 三乙胺 、 甲苯 、 甲基丙烯酰氯 、 在 ice 、 crude product 、 silica gel 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 2.0h， 以yielding 119 g (yield 71%) of the end compound, fluorinated ester的产率得到1,3-di(trifluoromethyl)-3-hydroxy-2,2,4,4,4-pentafluorobutyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  Polymer, resist composition and patterning process

  摘要：

  一种聚合物，在酸的作用下，其在碱性显影剂中的溶解速率增加，包括具有式（1）和（2）的重复单元，其中R1、R2和R4为H或甲基，R3为二氟甲基或三氟甲基，X为三级烷基。包含该聚合物的抗蚀剂组合物具有高灵敏度和分辨率，在显影期间图案坍塌减少，并且最小化了MEF，并且最适合作为VLSI制造的微细图案化材料。

  公开号：

  US20070099114A1

文献信息

• POLYMERIZABLE FLUORINATED ESTER COMPOUNDS AND THEIR PREPARING PROCESSES
  申请人：Kinsho Takeshi

  公开号：US20070249858A1

  公开（公告）日：2007-10-25

  Polymerizable fluorinated ester compounds having formulae (1) and (2) are novel wherein R 1 is H, methyl or trifluoromethyl, R 2 and R 3 are H or a monovalent hydrocarbon group, R 2 and R 3 may form a ring, R 4 is H, OH or a monovalent hydrocarbon group, and R 5 is an acid labile group. They are useful as monomers to produce polymers for the manufacture of radiation-sensitive resist compositions which have high transparency to radiation having a wavelength of up to 500 nm and exhibit good development properties due to the presence of phenol-like acidic hydroxyl groups.

  具有以下化学式（1）和（2）的可聚合氟化酯化合物是一种新颖化合物，其中R1为H、甲基或三氟甲基，R2和R3为H或一价碳氢基团，R2和R3可能形成环，R4为H、OH或一价碳氢基团，R5为酸不稳定基团。它们可用作单体，用于生产用于制造对波长高达500纳米的辐射具有高透明度并由于存在酚类酸性羟基团而表现出良好的显影性能的辐射敏感型抗蚀组合物的聚合物。
• US7312288B2
  申请人：——

  公开号：US7312288B2

  公开（公告）日：2007-12-25
• US7666571B2
  申请人：——

  公开号：US7666571B2

  公开（公告）日：2010-02-23