3-Acetoxy-3-methyl-butanolid | 1424-34-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 内酯类
• 英文名称: 3-Acetoxy-3-methyl-butanolid
• 英文别名: 3-Acetoxy-3-methylbutyrolacton；4-acetoxy-4-methyl-dihydro-furan-2-one；4-Acetoxy-4-methyl-dihydro-furan-2-on；(3-Methyl-5-oxooxolan-3-yl) acetate
• CAS: 1424-34-6
• 化学式: C₇H₁₀O₄
• 分子量: 158.154
• InChiKey: QOFGRIXBDVSKAI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.26
• 重原子数：
  11.0
• 可旋转键数：
  1.0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  4.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  过氧化乙酰丙酮 、 溴乙酸乙酯 在 锌 作用下， 生成 3-Acetoxy-3-methyl-butanolid
  参考文献：
  名称：

  GegenseitigeÜberführungvonα-酮基-γ-内酯与Δα ，β-丁烯

  摘要：

  A. Das durch Hydrieren vonα-酮基-β-甲基-γ-内酯erhältlicheα-Oxy-β-甲基-γ-内酯在αα ，β-甲基中的α-氯-β-甲基-γ-内酯-butenolidübergeführt。

  DOI：

  10.1002/hlca.19500330123

文献信息

• HIGHLY SEQUENCED COPOLYMER FOR DUAL-TONE PHOTORESISTS, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS THEREOF
  申请人：Canton Litho Material Technology Inc.

  公开号：US20220252981A1

  公开（公告）日：2022-08-11

  A resin including a highly sequenced copolymer is presented, and the preparation and application of its resist composition is presented. The resist has excellent performance and can promote the development of integrated circuits.