摘要:
在 3'- O 上含有保护基团的荧光 2'-脱氧核苷酸-位置是可逆终止子,可实现基于阵列的 DNA 合成测序 (SBS) 方法。在此,我们描述了四个可逆终止子的合成和完整表征,这些终止子带有一个 3' 封闭部分和一个接头染料系统,该系统在相同的氟化物处理下可去除。每个核苷酸类似物都有一个不同的荧光团,通过氟化物可裂解的接头和 2-氰乙基部分作为 3'-封闭基团连接到碱基上,也可以通过使用氟化物处理来去除。此外,我们鉴定了一种 DNA 聚合酶,即 RevertAid M-MuLV 逆转录酶,它可以整合四种修饰的可逆终止子。