| 1329674-59-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• CAS: 1329674-59-0
• 化学式: C₅H₃F₂N₂O₄S*C₂₁H₂₁S
• 分子量: 530.616
• InChiKey: XZTRLCFJLGHTFM-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.37
• 重原子数：
  36.0
• 可旋转键数：
  5.0
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.15
• 拓扑面积：
  92.09
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  6.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  、 5-(羟甲基)金刚烷-2-酮 以 氯仿 、 乙腈 为溶剂， 反应 1.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN

  摘要：

  一种包括(A)具有含酸敏感基团结构单元和含内酯环结构单元的树脂，以及(B)由式(I)表示的盐的光刻胶组合物：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，L1表示单键或C1-C10脂肪二基基团，其中亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，L1不是单键，R1表示羟基或被保护基团保护的羟基，Z+表示有机阳离子。

  公开号：

  US20120270153A1
• 作为产物：
  描述：

  tri-p-tolylsulfonium chloride 以 氯仿 、 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 15.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  JP5909875

  摘要：

  公开号：

文献信息

• SALT, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：ANRYU Yukako

  公开号：US20120328986A1

  公开（公告）日：2012-12-27

  A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 independently each represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, n represents 0 or 1, L l represents a single bond or a C1-C10 alkanediyl group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or carbonyl group, provided that L l is not a single bond when n is 0, ring W represents a C3-C36 aliphatic ring in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group and in which a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group, a C1-C12 alkyl group or a C1-C12 alkoxy group, R l represents a hydroxyl group or a hydroxyl group protected by a protecting group, and Z + represents an organic cation.

  一种用化学式(I)表示的盐：其中Q1和Q2分别表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，Ll表示单键或C1-C10脂肪二基团，其中一个亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，Ll不是单键，环W表示C3-C36脂肪环，其中一个亚甲基基团可被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基取代，氢原子可被氢氧基、C1-C12烷基基团或C1-C12烷氧基取代，Rl表示氢氧基或受保护的氢氧基，Z+表示有机阳离子。
• JP6266871
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• JP5891993
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• JP5856414
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• JP5960991
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——