| 1264173-48-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• CAS: 1264173-48-9
• 化学式: C₂HF₂O₅S*C₁₂H₁₅OS
• 分子量: 382.406
• InChiKey: CNYSFJYMLDXFHF-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.49
• 重原子数：
  24.0
• 可旋转键数：
  5.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.43
• 拓扑面积：
  111.57
• 氢给体数：
  1.0
• 氢受体数：
  5.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  以 乙腈 为溶剂， 反应 1.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  TWI516466

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  difluorosulfoacetic acid sodium salt 、 Tetramethylenphenacylsulfoniumchlorid 以 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 15.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  SALT, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN

  摘要：

  一种用化学式(I)表示的盐：其中Q1和Q2分别表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，Ll表示单键或C1-C10脂肪二基团，其中一个亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，Ll不是单键，环W表示C3-C36脂肪环，其中一个亚甲基基团可被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基取代，氢原子可被氢氧基、C1-C12烷基基团或C1-C12烷氧基取代，Rl表示氢氧基或受保护的氢氧基，Z+表示有机阳离子。

  公开号：

  US20120328986A1

文献信息

• SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20110201823A1

  公开（公告）日：2011-08-18

  A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.

  根据您提供的化学公式(I0)，其翻译成中文为： 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团，L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团，在该基团中，一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换，m代表1或2，而Zm+代表m价有机或无机阳离子。
• PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20120270153A1

  公开（公告）日：2012-10-25

  A photoresist composition comprising (A) a resin which has an acid-labile group-containing structural unit and a lactone ring-containing structural unit, and (B) a salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, n represents 0 or 1, L 1 represents a single bond or a C1-C10 alkanediyl group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, provided that L 1 is not a single bond when n is 0, R 1 represents a hydroxy group or a hydroxy group protected by a protecting group, and Z + represents an organic cation.

  一种包括(A)具有含酸敏感基团结构单元和含内酯环结构单元的树脂，以及(B)由式(I)表示的盐的光刻胶组合物：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，L1表示单键或C1-C10脂肪二基基团，其中亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，L1不是单键，R1表示羟基或被保护基团保护的羟基，Z+表示有机阳离子。
• Salt and photoresist composition containing the same
  申请人：Ichikawa Koji

  公开号：US09346750B2

  公开（公告）日：2016-05-24

  A salt represented by the formula (X): wherein Q1 and Q2 each independently represent a fluorine atom etc., L1 and L2 independently each represent a C1-C17 divalent saturated hydrocarbon group, ring W1 represents a C3-C36 saturated hydrocarbon ring, R2 is independently in each occurrence a hydroxyl group etc., s represents an integer of 0 to 2, Z+ represents an organic counter ion, and W10 represents a group represented by the formula (X-1): wherein ring W2 represents a C4-C36 saturated hydrocarbon ring in which one or more —CH2— can be replaced by —O— or —CO—, with the proviso that at least one —CH2— in the C4-C36 saturated hydrocarbon ring is replaced by —CO—, R3 is independently in each occurrence a C1-C6 alkyl group etc., and t represents an integer of 0 to 2, or a group represented by the formula (X-2): wherein ring W3 represents a C3-C36 saturated hydrocarbon ring, R4 is independently in each occurrence a hydroxyl group etc., R5 is independently in each occurrence a C1-C6 alkyl group etc., v represents an integer of 1 to 3, and w represents an integer of 0 to 2.

  一种由化学式（X）表示的盐：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子等，L1和L2分别独立表示C1-C17二价饱和碳氢化合物基团，环W1表示C3-C36饱和碳氢化合物环，R2在每次出现时独立表示一个羟基等，s表示0到2的整数，Z+表示有机对离子，W10表示由化学式（X-1）表示的基团：其中环W2表示一个C4-C36饱和碳氢化合物环，其中一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-替代，但至少一个C4-C36饱和碳氢化合物环中的- -被-CO-替代，R3在每次出现时独立表示C1-C6烷基基团等，t表示0到2的整数，或由化学式（X-2）表示的基团：其中环W3表示一个C3-C36饱和碳氢化合物环，R4在每次出现时独立表示一个羟基等，R5在每次出现时独立表示一个C1-C6烷基基团等，v表示1到3的整数，w表示0到2的整数。
• JP5808902
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• JP5844674
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——