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1-[2-(Dimethylamino)ethoxy]-2,2,6,6-tetramethylheptane-3,5-dione | 922509-46-4

中文名称
——
中文别名
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英文名称
1-[2-(Dimethylamino)ethoxy]-2,2,6,6-tetramethylheptane-3,5-dione
英文别名
——
1-[2-(Dimethylamino)ethoxy]-2,2,6,6-tetramethylheptane-3,5-dione化学式
CAS
922509-46-4
化学式
C15H29NO3
mdl
——
分子量
271.4
InChiKey
BXWJLGOVIGOKJH-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2
  • 重原子数:
    19
  • 可旋转键数:
    9
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.87
  • 拓扑面积:
    46.6
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

文献信息

  • ORGANOMETALLIC PRECURSORS AND METHODS OF FORMING THIN FILMS INCLUDING THE USE OF THE SAME
    申请人:Cho Kyu-Ho
    公开号:US20070031597A1
    公开(公告)日:2007-02-08
    The present invention provides organometallic precursors and methods of forming thin films including using the same. The organometallic precursors include a metal and a ligand linked to the metal. The ligand can be represented by the following formula (1): wherein R 1 and R 2 are each independently hydrogen or an alkyl group. The thin films may be applied to semiconductor structures such as a gate insulation layer of a gate structure and a dielectric layer of a capacitor.
  • US7722926B2
    申请人:——
    公开号:US7722926B2
    公开(公告)日:2010-05-25
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