oxocyclohexyl methacrylate | 210368-97-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: oxocyclohexyl methacrylate
• 英文别名: (2-Oxocyclohexyl) 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 210368-97-1
• 化学式: C₁₀H₁₄O₃
• 分子量: 182.219
• InChiKey: BBDIGFRPESASEK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.6
• 拓扑面积：
  43.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

文献信息

• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20150323865A1

  公开（公告）日：2015-11-12

  A polymer for resist use is obtainable from a monomer having formula (1) wherein R 1 is H, CH 3 or CF 3 , R 2 and R 3 each are H or a monovalent hydrocarbon group, X 1 is a divalent hydrocarbon group, k 1 =0 or 1, and Z forms a 5 or 6-membered alicyclic ring. A resist composition comprising the polymer is shelf stable and displays a high dissolution contrast, controlled acid diffusion and low roughness during both alkaline development and organic solvent development.

  可以从具有式（1）的单体获得用于抗蚀的聚合物，其中R1为H、CH3或CF3，R2和R3各自为H或一价碳氢基团，X1为二价碳氢基团，k1=0或1，Z形成5或6元脂环。包含该聚合物的抗蚀组合物具有货架稳定性，显示高溶解对比度，控制酸扩散和低粗糙度，在碱性显影和有机溶剂显影过程中表现出色。
• Novel polymers and photoresist compositions
  申请人：Shipley Company LLC

  公开号：EP0915382A2

  公开（公告）日：1999-05-12

  The present invention provides novel polymers and chemically-amplified positive-acting photoresist compositions that contain such polymers as a resin binder component. Preferred polymers of the invention include one or more structural groups that are capable of reducing the temperature required for effective deprotection of acid-labile moieties of the polymer.

  本发明提供了新型聚合物和含有此类聚合物作为树脂粘合剂成分的化学放大正作用光刻胶组合物。本发明的优选聚合物包括一个或多个结构基团，这些基团能够降低有效脱保护聚合物中酸基所需的温度。
• US6057083A
  申请人：——

  公开号：US6057083A

  公开（公告）日：2000-05-02
• US6749983B1
  申请人：——

  公开号：US6749983B1

  公开（公告）日：2004-06-15
• US9256127B2
  申请人：——

  公开号：US9256127B2

  公开（公告）日：2016-02-09