N-t-butylbicyclo[2.2.1]hepta-5-ene-2-carboxamide | 1273548-33-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: N-t-butylbicyclo[2.2.1]hepta-5-ene-2-carboxamide
• 英文别名: N-tert-butylbicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxamide
• CAS: 1273548-33-6
• 化学式: C₁₂H₁₉NO
• mdl: MFCD24388389
• 分子量: 193.289
• InChiKey: ZTZDRETZGDACRA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.9
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  29.1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-t-butylbicyclo[2.2.1]hepta-5-ene-2-carboxamide 在 potassium tert-butylate 、 potassium carbonate 、 三乙胺 、 间氯过氧苯甲酸 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 、 叔丁醇 为溶剂， 反应 2.5h， 生成 N-t-butyl-6-hydroxyhexahydro-2(4H)-oxo-3,5-methanocyclopenta[2,3-b]pyrrol-6-yl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  ACRYLATE DERIVATIVES, ALCOHOL DERIVATIVES, AND METHOD FOR PRODUCING THEM

  摘要：

  提供一种丙烯酸酯衍生物，作为聚合物化合物的原材料，用于制备抗蚀组分，能够产生卓越的光刻性能和良好形状的抗蚀图案，其中包括其中间体（醇衍生物）和其生产工艺。具体来说，它是一种由下式表示的丙烯酸酯衍生物：（其中R1代表氢原子、甲基或三氟甲基；R2、R3、R5、R7、R8、R9和R10各自独立地代表氢原子、具有1至6个碳原子的烷基、具有3至6个碳原子的环烷基或具有1至6个碳原子的烷氧基；R4和R6各自独立地代表氢原子、具有1至6个碳原子的烷基、具有3至6个碳原子的环烷基或具有1至6个碳原子的烷氧基，或R4和R6中的两个都组合起来表示具有1至3个碳原子的烷基、-O-或-S-；R11代表氢原子、具有1至6个碳原子的烷基或具有3至10个碳原子的环烃基）。

  公开号：

  US20120071667A1
• 作为产物：
  描述：

  环戊二烯 、 叔丁胺 、 丙烯酰氯 以 甲苯 为溶剂， 反应 2.0h， 以26.8%的产率得到N-t-butylbicyclo[2.2.1]hepta-5-ene-2-carboxamide
  参考文献：
  名称：

  ACRYLATE DERIVATIVES, ALCOHOL DERIVATIVES, AND METHOD FOR PRODUCING THEM

  摘要：

  提供一种丙烯酸酯衍生物，作为聚合物化合物的原材料，用于制备抗蚀组分，能够产生卓越的光刻性能和良好形状的抗蚀图案，其中包括其中间体（醇衍生物）和其生产工艺。具体来说，它是一种由下式表示的丙烯酸酯衍生物：（其中R1代表氢原子、甲基或三氟甲基；R2、R3、R5、R7、R8、R9和R10各自独立地代表氢原子、具有1至6个碳原子的烷基、具有3至6个碳原子的环烷基或具有1至6个碳原子的烷氧基；R4和R6各自独立地代表氢原子、具有1至6个碳原子的烷基、具有3至6个碳原子的环烷基或具有1至6个碳原子的烷氧基，或R4和R6中的两个都组合起来表示具有1至3个碳原子的烷基、-O-或-S-；R11代表氢原子、具有1至6个碳原子的烷基或具有3至10个碳原子的环烃基）。

  公开号：

  US20120071667A1

文献信息

• HYBRID BLOCK COPOLYMER MICELLES WITH MIXED STEREOCHEMISTRY FOR ENCAPSULATION OF HYDROPHOBIC AGENTS
  申请人：SILL Kevin N.

  公开号：US20080274173A1

  公开（公告）日：2008-11-06

  The present invention relates to the field of polymer chemistry and more particularly to multiblock copolymers and micelles comprising the same.

  本发明涉及聚合物化学领域，更具体地说是涉及多嵌段共聚物以及包含该共聚物的胶束。
• RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
  申请人：UTSUMI Yoshiyuki

  公开号：US20110117491A1

  公开（公告）日：2011-05-19

  A resist composition including a base material component (A) that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid, an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, and an nitrogen-containing organic compound (D), wherein the nitrogen-containing organic compound (D) includes a compound represented by general formula (d1) shown below: wherein R 20 represents a methylene group, an ethylene group, an oxygen atom or —C(CH 3 ) 2 —; R 21 represents a hydrogen atom or an organic group; and R 22 represents an alkoxy group, an alkoxycarbonyloxy group, a hydroxyl group, a halogen atom, —C(═O)—O—R 23 , —C(═O)—NH—R 23 or a carboxyl group, wherein R 23 represents a linear or branched alkyl group of 1 to 15 carbon atoms, an unsaturated hydrocarbon group, an aliphatic cyclic group, or an aromatic hydrocarbon group, and a represents an integer of 0 to 2.

  一种抗蚀组合物，包括基材料组分（A），在酸的作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解度，酸发生剂组分（B），在曝光下生成酸，以及含氮有机化合物（D），其中含氮有机化合物（D）包括下面表示通式（d1）的化合物： 其中，R20代表亚甲基基团、乙烯基团、氧原子或—C（CH3）2—；R21代表氢原子或有机基团；R22代表烷氧基、烷氧羰酰氧基、羟基、卤素原子、—C（═O）—O—R23、—C（═O）—NH—R23或羧基，其中R23代表1到15个碳原子的线性或支链烷基、不饱和碳氢基团、脂环基或芳香烃基，a代表0到2的整数。
• ACRYLIC ESTER DERIVATIVE, HIGH-MOLECULAR COMPOUND AND PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：Nakayama Osamu

  公开号：US20130164675A1

  公开（公告）日：2013-06-27

  The invention provides a novel acrylic ester derivative which can form a structural unit of a polymer to be incorporated into a photoresist composition; a polymer produced through polymerization of a raw material containing the acrylic ester derivative; and a photoresist composition which contains the polymer and which, as compared with the case of conventional ones, realizes formation of a high-resolution resist pattern having improved LWR. Specifically, the present invention provides, for example, an acrylic ester derivative represented by the following formula (1): wherein R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group; each of R 2 , R 3 , R 5 , R 7 , R 8 , and R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an alkoxy group; each of R 4 and R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an alkoxy group, or R 4 and R 6 are linked together to form an alkylene group, —O—, or —S—; R 9 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, or —COOR 11 ; R 11 represents an alkyl group; X represents —O— or >N—R 12 ; R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group; Y represents >C═O or >S(═O) n ; n is an integer of 0 to 2; and the wavy lines represent that either R 8 or R 9 may be in an endo or exo position.

  本发明提供了一种新型的丙烯酸酯衍生物，可形成聚合物的结构单元，用于纳入到光刻胶组合物中；一种通过含有丙烯酸酯衍生物的原料聚合而成的聚合物；以及一种包含该聚合物的光刻胶组合物，与传统光刻胶相比，实现了形成具有改善LWR的高分辨率抗蚀图案。具体而言，本发明提供了例如下式（1）所表示的丙烯酸酯衍生物：其中，R1表示氢原子，甲基或三氟甲基；R2、R3、R5、R7、R8和R10中的每一个表示氢原子，烷基，环烷基或烷氧基；R4和R6中的每一个表示氢原子，烷基，环烷基或烷氧基，或者R4和R6连接在一起形成烷基，-O-或-S-；R9表示氢原子，烷基，环烷基，烷氧基或-COOR11；R11表示烷基；X表示-O-或>N-R12；R12表示氢原子或烷基；Y表示>C═O或>S(═O)n；n为0到2的整数；波浪线表示R8或R9中的任意一个可以处于内部或外部位置。
• Resist composition and method of forming resist pattern
  申请人：Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.

  公开号：US08252509B2

  公开（公告）日：2012-08-28

  A resist composition including a base material component (A) that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid, an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, and an nitrogen-containing organic compound (D), wherein the nitrogen-containing organic compound (D) includes a compound represented by general formula (d1) shown below: wherein R20 represents a methylene group, an ethylene group, an oxygen atom or —C(CH3)2—; R21 represents a hydrogen atom or an organic group; and R22 represents an alkoxy group, an alkoxycarbonyloxy group, a hydroxyl group, a halogen atom, —C(═O)—O—R23, —C(═O)—NH—R23 or a carboxyl group, wherein R23 represents a linear or branched alkyl group of 1 to 15 carbon atoms, an unsaturated hydrocarbon group, an aliphatic cyclic group, or an aromatic hydrocarbon group, and a represents an integer of 0 to 2.

  一种电阻成分的组合物，包括以下组分：(A)一种基础材料组分，该组分在酸的作用下在碱性显影溶液中表现出改变的溶解度；(B)一种酸发生剂组分，该组分在暴露后生成酸；以及(D)一种含氮有机化合物，其中所述的含氮有机化合物(D)包括以下化合物，该化合物由下式(d1)表示：其中R20代表亚甲基基团、乙烯基团、氧原子或—C(CH3)2—；R21代表氢原子或有机基团；R22代表烷氧基、烷氧羰酰氧基、羟基、卤素原子、—C(═O)—O—R23、—C(═O)—NH—R23或羧基，其中R23代表1至15个碳原子的直链或支链烷基、不饱和烃基、脂环烷基或芳香族烃基；a表示0至2的整数。
• Magnetic Labeling of Bacteria
  申请人：The General Hospital Corporation

  公开号：US20150125884A1

  公开（公告）日：2015-05-07

  The present invention provides novel methods of magnetically labeling a bacterial cell by contacting the call with an affinity ligand and subsequently contacting the cell with a magnetic agent, where the affinity ligand and magnetic agent include bioorthogonally reactive groups that can react with each other to form a covalent bond. Compounds, compositions, kits and applications of the method are also described.

  本发明提供了一种新的细菌细胞磁性标记方法，通过将亲和配体与细胞接触，然后将细胞与磁性试剂接触，其中亲和配体和磁性试剂包括可以相互反应形成共价键的生物正交反应基团。同时还描述了该方法的化合物、组合物、试剂盒和应用。