2,3-dihydronaphtho[1,2-b]furan-2-carboxylic acid | 24758-32-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 萘并呋喃类
• 英文名称: 2,3-dihydronaphtho[1,2-b]furan-2-carboxylic acid
• 英文别名: 2,3-dihydro-naphtho[1,2-b]furan-2-carboxylic acid；2,3-dihydrobenzo[g][1]benzofuran-2-carboxylic acid
• CAS: 24758-32-5
• 化学式: C₁₃H₁₀O₃
• 分子量: 214.221
• InChiKey: DCYONWZKMMCULN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.15
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,3-dihydronaphtho[1,2-b]furan-2-carboxylic acid 、 邻氨基三氟甲苯 在 N,N'-羰基二咪唑 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 1.0h， 以17.9%的产率得到2,3-dihydronaphtho[1,2-b]furan-2-carboxylic acid N-(2-trifluoromethylphenyl)amide
  参考文献：
  名称：

  2,3-二氢-和5-氯-2,3-二氢-萘并-[1,2-b]呋喃-2-羧酸N-(取代苯基)酰胺类似物的设计和合成及其作为抑制剂的生物活性NF-κB 活性和抗癌剂

  摘要：

  一系列 2,3-二氢-和 5-氯-2,3-二氢-萘并-[1,2-b]呋喃-2-羧酸 N-（取代苯基）酰胺类似物（1a-k 和 2a-i ) 被设计和合成用于开发作为抗癌剂和 NF-κB 活性抑制剂的新型萘并呋喃支架。在N-苯环上具有4'-氯基团的化合物1d表现出对NF-κB的抑制活性。化合物2g，在萘并呋喃环上有5'-氯基团，在N-苯环上有3',5'-双三氟甲烷基团，对NF-κB的抑制活性最好。此外，新型类似物在低浓度下对 HCT-116、NCI-H23 和 PC-3 细胞系表现出有效的细胞毒性。两个吸电子基团，尤其是在 N-苯环上的 3',5'-位，增加了抗癌活性和 NF-κB 抑制活性。然而，只有 5-chloro-2，3-dihydronaphtho[1,2-b]furan-2-carbo N-(3',5'-bis(trifluoromethyl)phenyl)amide (2g) 表现出突出的细胞毒性和

  DOI：

  10.1007/s12272-016-0737-5
• 作为产物：
  描述：

  2-((1-(苄氧基)萘-2-基)甲基)环氧乙烷 在 2,2,6,6-四甲基哌啶氧化物 、 碘苯二乙酸 、 palladium 10% on activated carbon 、 potassium carbonate 、 三乙胺 作用下， 以 甲醇 、 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 14.0h， 生成 2,3-dihydronaphtho[1,2-b]furan-2-carboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  2,3-二氢-和5-氯-2,3-二氢-萘并-[1,2-b]呋喃-2-羧酸N-(取代苯基)酰胺类似物的设计和合成及其作为抑制剂的生物活性NF-κB 活性和抗癌剂

  摘要：

  一系列 2,3-二氢-和 5-氯-2,3-二氢-萘并-[1,2-b]呋喃-2-羧酸 N-（取代苯基）酰胺类似物（1a-k 和 2a-i ) 被设计和合成用于开发作为抗癌剂和 NF-κB 活性抑制剂的新型萘并呋喃支架。在N-苯环上具有4'-氯基团的化合物1d表现出对NF-κB的抑制活性。化合物2g，在萘并呋喃环上有5'-氯基团，在N-苯环上有3',5'-双三氟甲烷基团，对NF-κB的抑制活性最好。此外，新型类似物在低浓度下对 HCT-116、NCI-H23 和 PC-3 细胞系表现出有效的细胞毒性。两个吸电子基团，尤其是在 N-苯环上的 3',5'-位，增加了抗癌活性和 NF-κB 抑制活性。然而，只有 5-chloro-2，3-dihydronaphtho[1,2-b]furan-2-carbo N-(3',5'-bis(trifluoromethyl)phenyl)amide (2g) 表现出突出的细胞毒性和

  DOI：

  10.1007/s12272-016-0737-5

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND, AND ACID DIFFUSION-CONTROLLING AGENT
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20220011665A1

  公开（公告）日：2022-01-13

  A resist composition that contains a base material component exhibiting changed solubility in a developing solution under action of acid and a compound (D0) represented by General Formula (d0), in which R 01 , R 02 , R 03 , and R 04 each independently represents a hydrogen atom, a hydroxy group, a halogen atom, or an alkyl group; alternatively, R 01 and R 02 , R 02 and R 03 , or R 03 and R 04 are bonded to each other to form an aromatic ring; R 05 represents a hydrogen atom or an alkyl group; Y represents a group that forms an alicyclic group together with a carbon atom *C; provided that at least one of the carbon atoms that form the alicyclic group is substituted with an ether bond, a thioether bond, a carbonyl group, a sulfinyl group, or a sulfonyl group; m represents an integer of 1 or more, and M m+ represents an m-valent organic cation

  一种抗蚀组合物，包含一种基础材料组分，在酸的作用下在显影溶液中表现出改变的溶解度，以及一种化合物（D0），其通式为（d0），其中R01、R02、R03和R04各自独立地代表氢原子、羟基、卤素原子或烷基；或者，R01和R02、R02和R03、或R03和R04彼此连接形成芳香环；R05代表氢原子或烷基；Y代表与碳原子*C一起形成脂环基的基团；前提是至少有一个形成脂环基的碳原子被醚键、硫醚键、羰基、亚磺酰基或磺酰基取代；m表示1或更多的整数，Mm+表示m价有机阳离子。