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N,N'-bis(2,6-diisopropylphenyl)-1,7-bis(triazol-1-yl)perylene-3,4:9,10-tetracarboxylic acid diimide | 919293-71-3

中文名称
——
中文别名
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英文名称
N,N'-bis(2,6-diisopropylphenyl)-1,7-bis(triazol-1-yl)perylene-3,4:9,10-tetracarboxylic acid diimide
英文别名
——
N,N'-bis(2,6-diisopropylphenyl)-1,7-bis(triazol-1-yl)perylene-3,4:9,10-tetracarboxylic acid diimide化学式
CAS
919293-71-3
化学式
C52H44N8O4
mdl
——
分子量
844.973
InChiKey
WZIAPLCPTCADBM-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    10.99
  • 重原子数:
    64.0
  • 可旋转键数:
    8.0
  • 环数:
    11.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.23
  • 拓扑面积:
    136.18
  • 氢给体数:
    0.0
  • 氢受体数:
    10.0

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    N,N'-bis(2,6-diisopropylphenyl)-1,7-bis(triazol-1-yl)perylene-3,4:9,10-tetracarboxylic acid diimide二氯甲烷 为溶剂, 反应 144.0h, 以40%的产率得到8,22-Bis[2,6-di(propan-2-yl)phenyl]-8,13,14,16,22,27,28,30-octazaundecacyclo[18.14.1.16,32.02,18.03,12.04,33.05,10.013,17.024,35.026,34.027,31]hexatriaconta-1,3(12),4(33),5,10,14,16,18,20(35),24,26(34),28,30,32(36)-tetradecaene-7,9,21,23-tetrone
    参考文献:
    名称:
    含氮杂四茂铁四羧酸二酰亚胺类似物的合成,表征和自组装:N-杂环取代的per双酰亚胺的光环化。
    摘要:
    合成了新的二苯并并四氢呋喃四羧酸二酰亚胺类似物和萘咪唑四甲酸二酰亚胺类似物,它们含有咪唑,1,2,4-三唑和吡唑环作为母体烃骨架内的功能成分嵌入。富含pi的和缺乏pi的杂环对母体苯并四氢呋喃四甲酸二酰亚胺和萘四亚甲基四羧酸二酰亚胺体系的物理性质有不同的影响。富含pi的3通过强力的pi-pi堆叠能够自组装成一维纳米结构,而pi-poor 8缺乏一维自组装能力,因此提供了控制自组装能力的潜力N杂环修饰π缀合的π共轭per芯。
    DOI:
    10.1002/chem.200600605
  • 作为产物:
    描述:
    1H-1,2,4-三唑1,7-二溴代苝二酰亚胺18-冠醚-6potassium carbonate 作用下, 以 甲苯 为溶剂, 反应 12.0h, 以90%的产率得到N,N'-bis(2,6-diisopropylphenyl)-1,7-bis(triazol-1-yl)perylene-3,4:9,10-tetracarboxylic acid diimide
    参考文献:
    名称:
    含氮杂四茂铁四羧酸二酰亚胺类似物的合成,表征和自组装:N-杂环取代的per双酰亚胺的光环化。
    摘要:
    合成了新的二苯并并四氢呋喃四羧酸二酰亚胺类似物和萘咪唑四甲酸二酰亚胺类似物,它们含有咪唑,1,2,4-三唑和吡唑环作为母体烃骨架内的功能成分嵌入。富含pi的和缺乏pi的杂环对母体苯并四氢呋喃四甲酸二酰亚胺和萘四亚甲基四羧酸二酰亚胺体系的物理性质有不同的影响。富含pi的3通过强力的pi-pi堆叠能够自组装成一维纳米结构,而pi-poor 8缺乏一维自组装能力,因此提供了控制自组装能力的潜力N杂环修饰π缀合的π共轭per芯。
    DOI:
    10.1002/chem.200600605
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