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Bicyclo<2.2.2>oct-5-ene-2-exo-carboxylic-2-endo-acetic anhydride | 84258-02-6

中文名称
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中文别名
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英文名称
Bicyclo<2.2.2>oct-5-ene-2-exo-carboxylic-2-endo-acetic anhydride
英文别名
Bicyclo[2.2.2]oct-5-ene-2-exo-carboxylic-2-endo-acetic anhydride;Spiro[bicyclo[2.2.2]oct-2-ene-5,3'-oxolane]-2',5'-dione
Bicyclo<2.2.2>oct-5-ene-2-exo-carboxylic-2-endo-acetic anhydride化学式
CAS
84258-02-6
化学式
C11H12O3
mdl
——
分子量
192.214
InChiKey
VPCQHFDRAOEETP-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.3
  • 重原子数:
    14
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.64
  • 拓扑面积:
    43.4
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

反应信息

  • 作为反应物:
    参考文献:
    名称:
    N-取代的环状酰亚胺(1R *,2S *,3R *,4S *)-N- [4- [4-(2-嘧啶基)-1-哌嗪基]丁基] -2,3-双环的合成及抗焦虑活性[2.2.1]庚烷二甲酰亚胺(tandospirone)和相关化合物。
    摘要:
    合成了一系列带有ω-(4-芳基和4-杂芳基-1-哌嗪基)烷基的环状酰亚胺,并在体内测试其抗焦虑活性。还检查了这些化合物的体外结合亲和力的5-HT1A受体位点。讨论了这些系列中的构效关系。这些化合物之一,(1R *,2S *,-3R *,4S *)-N- [4- [4-(4-嘧啶基)-1-哌嗪基]丁基] -2,3-双环[2.2.1已发现]庚烷二甲酰亚胺(1:tandospirone)与丁螺环酮具有相同的抗焦虑活性,并且比丁螺环酮和地西epa具有更高的选择性。Tandospirone(1)目前正在作为一种选择性抗焦虑药进行临床评估。
    DOI:
    10.1248/cpb.39.2288
  • 作为产物:
    描述:
    衣康酸酐1,3-环己二烯 为溶剂, 反应 8.0h, 以73.7%的产率得到Bicyclo<2.2.2>oct-5-ene-2-exo-carboxylic-2-endo-acetic anhydride
    参考文献:
    名称:
    N-取代的环状酰亚胺(1R *,2S *,3R *,4S *)-N- [4- [4-(2-嘧啶基)-1-哌嗪基]丁基] -2,3-双环的合成及抗焦虑活性[2.2.1]庚烷二甲酰亚胺(tandospirone)和相关化合物。
    摘要:
    合成了一系列带有ω-(4-芳基和4-杂芳基-1-哌嗪基)烷基的环状酰亚胺,并在体内测试其抗焦虑活性。还检查了这些化合物的体外结合亲和力的5-HT1A受体位点。讨论了这些系列中的构效关系。这些化合物之一,(1R *,2S *,-3R *,4S *)-N- [4- [4-(4-嘧啶基)-1-哌嗪基]丁基] -2,3-双环[2.2.1已发现]庚烷二甲酰亚胺(1:tandospirone)与丁螺环酮具有相同的抗焦虑活性,并且比丁螺环酮和地西epa具有更高的选择性。Tandospirone(1)目前正在作为一种选择性抗焦虑药进行临床评估。
    DOI:
    10.1248/cpb.39.2288
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文献信息

  • RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING PROCESS, POLYMER, AND MONOMER
    申请人:SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
    公开号:US20170184967A1
    公开(公告)日:2017-06-29
    A polymer comprising recurring units containing a specific lactone ring and having an alkyl group on γ-butyrolactone skeleton of fused ring lactone and an alkyl ester substituent group intervening between the lactone structure and the polymer backbone is provided. A resist composition comprising the polymer as base resin is improved in such properties as DOF margin and MEF and quite effective for precise micropatterning.
    提供一种聚合物,其中包含含有特定内酯环的重复单元,并且在融合环内酯的γ-丁内酯骨架上具有烷基基团,以及在内酯结构和聚合物主链之间具有烷基酯取代基团。以该聚合物为基础树脂的抗蚀组合物在DOF边缘和MEF等性能方面得到改善,并且非常有效用于精确微图案化。
  • Resist composition, pattern forming process, polymer, and monomer
    申请人:SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
    公开号:US10310376B2
    公开(公告)日:2019-06-04
    A polymer comprising recurring units containing a specific lactone ring and having an alkyl group on γ-butyrolactone skeleton of fused ring lactone and an alkyl ester substituent group intervening between the lactone structure and the polymer backbone is provided. A resist composition comprising the polymer as base resin is improved in such properties as DOF margin and MEF and quite effective for precise micropatterning.
    本发明提供了一种聚合物,它由含有特定内酯环的递归单元组成,在融合环内酯的 γ-丁内酯骨架上有一个烷基,在内酯结构和聚合物骨架之间有一个烷基酯取代基。以这种聚合物为基体树脂的抗蚀剂组合物在 DOF 余量和 MEF 等性能方面都有所改进,对精确微图案化非常有效。
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