摘要:
                                氟化硅(II)不稳定;因此,稳定物种的分离极具挑战性,并且在过去 45 年中并未成功。SiF(2) 通常在非常高的温度 (~1100-1200 °C) 和低压下在气相中生成,并且容易歧化或聚合。我们通过硅 (II) 与过渡金属羰基化合物的配位完成了稳定的氟化硅 (II) 物种的合成。制备了氟化硅 (II) 化合物 L(F)Si·M(CO)(5) {M = Cr (4), Mo (5), W(6)} (L = PhC(NtBu)(2))通过相应氯化物与 Me(3)SnF 的复分解反应。然而,氯化物衍生物 L(Cl)Si·M(CO)(5) {M = Cr (1), Mo (2), W(3)} (L = PhC(NtBu)(2)) 是通过以下方法制备的用 L(Cl)Si 处理过渡金属羰基化合物。L(Cl)Si 与 Me(3)SnF 的直接氟化导致氧化加成产物。化合物4-6在氮气惰性气氛下在环境温