2,2,2-trifluoroethyl 2-(acetoxy)acrylate | 952600-30-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2,2,2-trifluoroethyl 2-(acetoxy)acrylate
• 英文别名: 2-Acetoxypropenoic acid 2,2,2-trifluoroethyl ester；2,2,2-trifluoroethyl 2-acetyloxyprop-2-enoate
• CAS: 952600-30-5
• 化学式: C₇H₇F₃O₄
• 分子量: 212.125
• InChiKey: LKCNGXAPYNXYJZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.43
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,2,2-trifluoroethyl 2-(acetoxy)acrylate 、 4-碘藜芦醚 在 palladium diacetate 、 3 A molecular sieve sodium acetate 、 四正丁基溴化膦 、 对苯二酚 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 60.0h， 以75%的产率得到2,2,2-trifluoroethyl (Z)-2-acetoxy-3-(3,4-dimethoxyphenyl)acrylate
  参考文献：
  名称：

  天然存在的普维酮的新型合成：Heck 偶联、酯交换和 Dieckmann 缩合策略

  摘要：

  碘芳烃与 2-乙酰氧基丙烯酸三氟乙酯 (19) 的无膦 Heck 烯基化反应立体选择性地生成三氟乙基 (Z)-2-乙酰氧基肉桂酸酯 31-34、42、44 和 51。脱乙酰化后用 N,N'-二环己基碳二亚胺酰化活化的芳基乙酸产生异构纯的三氟乙基 (Z)-2-(芳基乙酰氧基)肉桂酸酯 38A-O。这些是叔丁醇钾介导的 Dieckmann 缩合的优良底物，并且明显优于无氟类似物，提供 Z 构型pulvinones 1A-O (1I = aspulvinone A)。pulvinones 1D、E、H、N、O 的芳基醚部分的裂解提供 aspulvinone E (1R)、aspulvinone G (1S)、3',4,4'-trihydroxypulvinone (1V) 和 aspulvinones B (1X) 和H (1Y)，分别。2的转换，

  DOI：

  10.1055/s-2007-983803
• 作为产物：
  描述：

  2,2,2-trifluoroethyl pyruvate 、 乙酸酐 在 对甲苯磺酸 、 对苯二酚 作用下， 反应 30.0h， 以69%的产率得到2,2,2-trifluoroethyl 2-(acetoxy)acrylate
  参考文献：
  名称：

  天然存在的普维酮的新型合成：Heck 偶联、酯交换和 Dieckmann 缩合策略

  摘要：

  碘芳烃与 2-乙酰氧基丙烯酸三氟乙酯 (19) 的无膦 Heck 烯基化反应立体选择性地生成三氟乙基 (Z)-2-乙酰氧基肉桂酸酯 31-34、42、44 和 51。脱乙酰化后用 N,N'-二环己基碳二亚胺酰化活化的芳基乙酸产生异构纯的三氟乙基 (Z)-2-(芳基乙酰氧基)肉桂酸酯 38A-O。这些是叔丁醇钾介导的 Dieckmann 缩合的优良底物，并且明显优于无氟类似物，提供 Z 构型pulvinones 1A-O (1I = aspulvinone A)。pulvinones 1D、E、H、N、O 的芳基醚部分的裂解提供 aspulvinone E (1R)、aspulvinone G (1S)、3',4,4'-trihydroxypulvinone (1V) 和 aspulvinones B (1X) 和H (1Y)，分别。2的转换，

  DOI：

  10.1055/s-2007-983803

文献信息

• Upper layer film forming composition for liquid immersion and method of forming photoresist pattern
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP2315078A1

  公开（公告）日：2011-04-27

  An immersion upper layer film composition is provided which exhibits sufficient transparency for the exposure wavelength 248 nm(KrF) and 193 nm(ArF), can form a protective film on the photoresist film without being intermixed with the photoresist film, is not eluted into water used during immersion exposure to maintain a stable film, and can be easily dissolved in an alkaline developer. The composition applied to coat on the photoresist film when using an immersion exposure device which is irradiated through water provided between a lens and the photoresist film, the composition comprises a resin forming a water-stable film during irradiation and being dissolved in a subsequent developer, and a solvent containing a monovalent alcohol having 6 or less carbon atoms, and the resin contains a resin component having an alcoholic hydroxyl group on the side chain containing a fluoroalkyl group on at least the carbon atom of α-position.

  本发明提供了一种浸入式上层膜组合物，该组合物在曝光波长为 248 nm（KrF）和 193 nm（ArF）时具有足够的透明度，可以在光刻胶膜上形成保护膜，而不会与光刻胶膜混合，在浸入式曝光过程中不会被洗脱到水中以保持稳定的膜，并且可以很容易地溶解在碱性显影液中。在使用浸入式曝光装置时，通过透镜和光刻胶膜之间的水照射光刻胶膜，涂覆在光刻胶膜上的组合物，该组合物包括在照射过程中形成水稳定膜并能溶解在后续显影剂中的树脂，以及含有 6 个或更少碳原子的一价醇的溶剂，树脂含有侧链上具有醇羟基的树脂成分，侧链至少在 α 位碳原子上含有氟烷基。
• COPOLYMER AND UPPER FILM-FORMING COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1806370B1

  公开（公告）日：2013-05-22
• EP2277929A1
  申请人：——

  公开号：EP2277929A1

  公开（公告）日：2011-01-26
• Copolymer and top coating composition
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP2277929B1

  公开（公告）日：2012-11-21
• Uper Layer Film Forming Composition for Liquid Immersion and Method of Forming Photoresist Pattern
  申请人：Kimura Toru

  公开号：US20070269734A1

  公开（公告）日：2007-11-22

  An immersion upper layer film composition is provided which exhibits sufficient transparency for the exposure wavelength 248 nm(KrF) and 193 nm(ArF), can form a protective film on the photoresist film without being intermixed with the photoresist film, is not eluted into water used during immersion exposure to maintain a stable film, and can be easily dissolved in an alkaline developer. The composition applied to coat on the photoresist film when using an immersion exposure device which is irradiated through water provided between a lens and the photoresist film, the composition comprises a resin forming a water-stable film during irradiation and being dissolved in a subsequent developer, and a solvent containing a monovalent alcohol having 6 or less carbon atoms, and the resin contains a resin component having an alcoholic hydroxyl group on the side chain containing a fluoroalkyl group on at least the carbon atom of α-position.