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1-acryloyloxy-3-hydroxy-5-(1-hydroxyethoxy)adamantane | 251563-16-3

中文名称
——
中文别名
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英文名称
1-acryloyloxy-3-hydroxy-5-(1-hydroxyethoxy)adamantane
英文别名
[3-Hydroxy-5-(1-hydroxyethoxy)-1-adamantyl] prop-2-enoate
1-acryloyloxy-3-hydroxy-5-(1-hydroxyethoxy)adamantane化学式
CAS
251563-16-3
化学式
C15H22O5
mdl
——
分子量
282.337
InChiKey
BNQILSDBLPLWNH-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.1
  • 重原子数:
    20
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.8
  • 拓扑面积:
    76
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    5

文献信息

  • COMPOUNDS FOR PHOTORESIST AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESIST
    申请人:Daicel Chemical Industries, Ltd.
    公开号:EP0999474A1
    公开(公告)日:2000-05-10
    The photoresist resin composition comprises a polymer having an adamantane skeleton represented by the following formula and a photoactive acid precursor: wherein R1 represents a hydrogen atom or a methyl group; R2, R3, and R4 are the same or different from each other, each representing a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a hydroxyl group, a hydroxylmethyl group, a carboxyl group, a functional group which forms a hydroxyl group, a hydroxymethyl group or a carboxyl group by elimination with an acid; at least one of the substituents R2 to R4 is the functional group defined above; X represents an ester bond or an amide bond; and each of m and n is 0 or 1. The above photoresist resin composition is highly resistant to an etching solution, solubilizable by irradiation with light, and capable of giving minute patterns.
    光致抗蚀剂树脂组合物由具有下式所示金刚烷骨架的聚合物和光活性酸前体组成: 其中 R1 代表氢原子或甲基;R2、R3 和 R4 彼此相同或不同,各自代表氢原子、卤素原子、烷基、羟基、羟甲基、羧基、通过与酸消去形成羟基、羟甲基或羧基的官能团;取代基 R2 至 R4 中至少有一个是上文定义的官能团; X 代表酯键或酰胺键;以及 m 和 n 均为 0 或 1。 上述光刻胶树脂组合物对蚀刻溶液有很强的抵抗力,在光照射下可溶解,并能产生微小的图案。
  • Compounds for photoresist and resin composition for photoresist
    申请人:Daicel Chemical Industries, Ltd.
    公开号:EP1443363A2
    公开(公告)日:2004-08-04
    A photoresist adamantane-series monomer represented by the following formula (1b):    wherein R11 represents a hydrogen atom or a methyl group; R12, R13, and R14 are the same or different from each other, each representing a hydrogen atom, an alkyl group, or a hydroxyl group and at least one of the substituents R12 to R14 is a hydroxyl group; X represents a connecting group; and m and n individually represent 0 or 1.
    由下式(1b)代表的光阻金刚烷系列单体: 其中 R11 代表氢原子或甲基;R12、R13 和 R14 彼此相同或不同,各自代表氢原子、烷基或羟基,且 R12 至 R14 的取代基中至少有一个是羟基;X 代表连接基团;m 和 n 分别代表 0 或 1。
  • Photoresist resin composition and method for forming a pattern
    申请人:Daicel Chemical Industries, Ltd.
    公开号:EP0999474B1
    公开(公告)日:2011-11-23
  • Photoresist composition
    申请人:Daicel Chemical Industries, Ltd.
    公开号:EP1443363B1
    公开(公告)日:2013-07-10
  • UROTENSIN II RECEPTOR ANTAGONISTS
    申请人:Janssen Pharmaceutica N.V.
    公开号:EP1993554B1
    公开(公告)日:2011-11-23
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