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2,3-dihydro-1-methoxy-1-methyl-1H-indene | 81280-25-3

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2,3-dihydro-1-methoxy-1-methyl-1H-indene
英文别名
3-Methoxy-3-methyl-1,2-dihydroindene
2,3-dihydro-1-methoxy-1-methyl-1H-indene化学式
CAS
81280-25-3
化学式
C11H14O
mdl
——
分子量
162.232
InChiKey
IVCVLEVBLXCQMP-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.2
  • 重原子数:
    12
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.45
  • 拓扑面积:
    9.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    3-methoxy-3a-methyl-3aH-indene 在 palladium on activated charcoal 氢气 作用下, 以 正己烷 为溶剂, 反应 2.5h, 生成 2,3-dihydro-1-methoxy-1-methyl-1H-indene
    参考文献:
    名称:
    3-甲氧基-3a-甲基-3a H-茚的生成及其环加成反应的研究
    摘要:
    通过桦木还原和甲基化,然后引入另外的双键,酮的烯醇化,和O-甲基化,由茚满-1-酮制备标题化合物(1)。四烯醇醚(1)是第一个要分离的3a H-茚衍生物。已显示出它会被空气氧化为Z-肉桂酸酯(5),并容易地重排为1 H-茚(7)。观察到N-苯基三唑啉二酮,偶氮二甲酸二乙酯和乙炔二羧酸二甲酯与四烯的末端环加成。这些正式的[8 + 2]环加成与N所观察到的[4 + 2]环加成相反-苯马来酰亚胺。[4 + 2]加合物在加热时发生重排,得到[8 + 2]加合物的混合物:建议该过程涉及将加合物解离成其组分并重新结合。
    DOI:
    10.1039/p19810003214
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文献信息

  • GILCHRIST, T. L.;REES, C. W.;TUDDENHAM, D., J. CHEM. SOC. PERKIN TRANS., 1981, N 12, 3214-3220
    作者:GILCHRIST, T. L.、REES, C. W.、TUDDENHAM, D.
    DOI:——
    日期:——
  • RESIST UNDERLAYER FILM COMPOSITION, PROCESS FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING PROCESS AND FULLERENE DERIVATIVE
    申请人:Watanabe Takeru
    公开号:US20110195362A1
    公开(公告)日:2011-08-11
    There is disclosed a resist underlayer film composition of a multilayer resist film used in lithography including (A) a fullerene derivative having a carboxyl group protected by a thermally labile group and (B) an organic solvent. There can be a resist underlayer film composition of a multilayer resist film used in lithography for forming a resist underlayer in which generation of wiggling in substrate etching can be highly suppressed and the poisoning problem in forming an upper layer pattern using a chemically amplified resist can be avoided, a process for forming the resist underlayer film, a patterning process and a fullerene derivative.
  • US8835092B2
    申请人:——
    公开号:US8835092B2
    公开(公告)日:2014-09-16
  • Generation of 3-methoxy-3a-methyl-3aH-indene and study of its cycloaddition reactions
    作者:Thomas L. Gilchrist、Charles W. Rees、David Tuddenham
    DOI:10.1039/p19810003214
    日期:——
    The title compound (1) has been prepared form indan-1-one by Birch reduction and methylation followed by the introduction of a further double bond, enolisation of the ketone, and O-methylation. The tetraenol ether (1) is the first 3aH-indene derivative to be isolated. It is shown to be oxidised by air to the Z-cinnamic ester (5), and to undergo ready rearrangement to the 1H-indene (7). Cycloadditions
    通过桦木还原和甲基化,然后引入另外的双键,酮的烯醇化,和O-甲基化,由茚满-1-酮制备标题化合物(1)。四烯醇醚(1)是第一个要分离的3a H-茚衍生物。已显示出它会被空气氧化为Z-肉桂酸酯(5),并容易地重排为1 H-茚(7)。观察到N-苯基三唑啉二酮,偶氮二甲酸二乙酯和乙炔二羧酸二甲酯与四烯的末端环加成。这些正式的[8 + 2]环加成与N所观察到的[4 + 2]环加成相反-苯马来酰亚胺。[4 + 2]加合物在加热时发生重排,得到[8 + 2]加合物的混合物:建议该过程涉及将加合物解离成其组分并重新结合。
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