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3-bromo-2-(trimethylsilylethynyl)thieno[3,2-b]thiophene
3-bromo-2-(trimethylsilylethynyl)thieno[3,2-b]thiophene | 928827-22-9
分子结构分类
有机化合物
-
有机杂环化合物
-
噻吩并噻吩类
中文名称
——
中文别名
——
英文名称
3-bromo-2-(trimethylsilylethynyl)thieno[3,2-b]thiophene
英文别名
2-(6-Bromothieno[3,2-b]thiophen-5-yl)ethynyl-trimethylsilane
CAS
928827-22-9
化学式
C
11
H
11
BrS
2
Si
mdl
——
分子量
315.33
InChiKey
UYAJNUMGHZZMLT-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
物化性质
计算性质
ADMET
安全信息
SDS
制备方法与用途
上下游信息
反应信息
文献信息
表征谱图
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计算性质
辛醇/水分配系数(LogP):
4.95
重原子数:
15
可旋转键数:
2
环数:
2.0
sp3杂化的碳原子比例:
0.27
拓扑面积:
56.5
氢给体数:
0
氢受体数:
2
反应信息
作为反应物:
描述:
3-bromo-2-(trimethylsilylethynyl)thieno[3,2-b]thiophene
在 bis-triphenylphosphine-palladium(II) chloride 、
copper(l) iodide
potassium carbonate
、
二异丙胺
、
lithium diisopropyl amide
作用下, 以
四氢呋喃
、
甲醇
、
正己烷
、
甲苯
为溶剂, 反应 16.0h, 生成
[3-bromo-5-(triisopropylsilyl)-2-thieno[3,2-b]thienyl](3-bromo-2-thieno[3,2-b]thienyl)acetylene
参考文献:
名称:
由偶数个噻吩环组成的延伸稠合寡聚噻吩的一般合成。
摘要:
双(3-溴-2-噻吩基)乙炔的分子内双环化反应通过与tBuLi的锂-卤素交换反应,然后用元素硫处理产生两个噻吩稠合的噻吩并[3,2-c](1,2-二硫代)s。随后用铜纳米粉从1,2-二硫精脱硫,得到四硫杂蒽并。在此两步方法的基础上,合成了一系列三烷基甲硅烷基封端的稠合低聚噻吩,包括六噻吩并苯(六噻吩稠合的系统)和八硫并苯(八噻吩稠合的系统)。在熔融的寡聚噻吩的UV / Vis吸收和荧光光谱中,随着π共轭长度的增加,吸收和发射最大值移至更长的波长。它们的最大波数与由π-共轭骨架组成的噻吩环的倒数具有线性关系。在循环伏安图中,所有化合物均显示出可逆的氧化波,随着共轭长度的增加,其第一个氧化电势向正性转移。在它们之中,八硫并苯还显示出可逆的第二氧化过程。的确,它的化学氧化与过量的NO(+)SbF(6)(-)一起产生金黄色结晶。通过X射线晶体学测定中性八硫并八苯的晶体结构及其指示。在中性状态下,八硫并苯具有苯环结构,其大的键交替约为0
DOI:
10.1002/chem.200601064
作为产物:
描述:
3-bromo-2-iodothieno[3,2-b]thiophene 、
三甲基乙炔基硅
在
copper(l) iodide
、 bis(triphenylphosphine)palladium(II) dichloride
三乙胺
作用下, 生成
3-bromo-2-(trimethylsilylethynyl)thieno[3,2-b]thiophene
参考文献:
名称:
由偶数个噻吩环组成的延伸稠合寡聚噻吩的一般合成。
摘要:
双(3-溴-2-噻吩基)乙炔的分子内双环化反应通过与tBuLi的锂-卤素交换反应,然后用元素硫处理产生两个噻吩稠合的噻吩并[3,2-c](1,2-二硫代)s。随后用铜纳米粉从1,2-二硫精脱硫,得到四硫杂蒽并。在此两步方法的基础上,合成了一系列三烷基甲硅烷基封端的稠合低聚噻吩,包括六噻吩并苯(六噻吩稠合的系统)和八硫并苯(八噻吩稠合的系统)。在熔融的寡聚噻吩的UV / Vis吸收和荧光光谱中,随着π共轭长度的增加,吸收和发射最大值移至更长的波长。它们的最大波数与由π-共轭骨架组成的噻吩环的倒数具有线性关系。在循环伏安图中,所有化合物均显示出可逆的氧化波,随着共轭长度的增加,其第一个氧化电势向正性转移。在它们之中,八硫并苯还显示出可逆的第二氧化过程。的确,它的化学氧化与过量的NO(+)SbF(6)(-)一起产生金黄色结晶。通过X射线晶体学测定中性八硫并八苯的晶体结构及其指示。在中性状态下,八硫并苯具有苯环结构,其大的键交替约为0
DOI:
10.1002/chem.200601064
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