采用 MALDI-TOF 质谱、XPS 和循环伏安法。在 0.1 M HClO4
水溶液中,Ru 复合单层在 +0.66 V vs SCE 下表现出准可逆的 Ru(III/II) 氧化。Ru(III/II) 对的循环伏安图的形状强烈依赖于表面覆盖率,并且当 Ru 纯单分子层被辛
硫醇稀释时接近理想的伏安图。Ru配合物与辛
硫醇混合的单分子层的氧化电位与溶液pH呈线性相关,表明质子耦合的氧化反应发生在
金表面。从 E1/2-pH 图中,获得了
金表面上 Ru 混合单层的 pKa 值:对于 Ru(II) 状态的 pKa1 = 6.0 和 pKa2 = 7.8,对于 Ru(III) 状态的~1.5 和 3.4。Ru的pKa值...