(Bis-vinyloxy-methyl)-cyclohexane | 131861-89-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: (Bis-vinyloxy-methyl)-cyclohexane
• 英文别名: Bis(ethenoxy)methylcyclohexane
• CAS: 131861-89-7
• 化学式: C₁₁H₁₈O₂
• 分子量: 182.263
• InChiKey: VPSCWTDUSBRHFI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.64
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

文献信息

• COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Echigo Masatoshi

  公开号：US20130122423A1

  公开（公告）日：2013-05-16

  The object is to provide a compound having high dissolvability in a safe solvent and high sensitivity, and also capable of obtaining a good resist pattern shape, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition. For this purpose, a compound (B) obtained by reaction between a polyphenol based cyclic compound (A) and a compound (C) having a particular structure, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition are provided.

  本发明的目的是提供一种在安全溶剂中具有高溶解度和高灵敏度的化合物，同时还能获得良好的抗蚀图案形状，包含该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。为此，提供了通过多酚基环状化合物（A）和具有特定结构的化合物（C）反应得到的化合物（B），包含该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。
• Fibres revêtues d'une matière hydrophobe
  申请人：ELF ATOCHEM S.A.

  公开号：EP0859038A1

  公开（公告）日：1998-08-19

  L'invention concerne des fibres revêtues d'une matière hydrophobe à base d'un oligomère de polydiène époxydé. Ce revêtement résulte de la photopolymérisation d'une composition comprenant au moins un oligomère de polydiène époxydé, au moins un sel photoamorceur et éventuellement un diluant réactif. L'invention concerne particulièrement les fibres optiques.

  本发明涉及一种涂有基于环氧化聚二烯低聚物的疏水材料的纤维。这种涂层是由至少一种环氧化聚二烯酸低聚物、至少一种光引发剂盐和可选的活性稀释剂组成的组合物经光聚合而成。 本发明尤其涉及光纤。
• COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2599814A1

  公开（公告）日：2013-06-05

  The object is to provide a compound having high dissolvability in a safe solvent and high sensitivity, and also capable of obtaining a good resist pattern shape, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition. The solving means are a compound (B) obtained by reaction between a polyphenol based cyclic compound (A) and a compound (C) having a particular structure, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition.

  本发明的目的是提供一种在安全溶剂中具有高溶解性和高灵敏度并能获得良好抗蚀剂图案形状的化合物、一种含有该化合物的辐射敏感组合物以及一种使用该组合物的抗蚀剂图案形成方法。 解决方法是由基于多酚的环状化合物（A）和具有特定结构的化合物（C）反应得到的化合物（B），含有该化合物的辐射敏感性组合物，以及使用该组合物的抗蚀剂图案形成方法。
• US9239517B2
  申请人：——

  公开号：US9239517B2

  公开（公告）日：2016-01-19