苯亚磺酸钠 | 25932-11-0

• 物质功能分类: 化学农药原药 - 杀虫剂中间体
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 苯亚磺酸钠
• 中文别名: 苯亚磺酸钠二水合物
• 英文名称: SodiuM Benzenesulfinate Dihydrate
• 英文别名: sodium;benzenesulfinate;dihydrate
• CAS: 25932-11-0
• 化学式: C6H9NaO4S
• 分子量: 200.19
• InChiKey: MYXJYAIKMQJHIB-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 熔点：
  >300 °C(lit.)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -3.72
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  61.3
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  5

安全信息

• 危险品标志：
  Xi
• 安全说明：
  S26,S37/39
• 危险类别码：
  R36/37/38
• WGK Germany：
  1
• RTECS号：
  DA9135000
• 海关编码：
  2930909090
• 危险性防范说明：
  P261,P305+P351+P338
• 危险性描述：
  H302,H315,H319,H335

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  苯亚磺酸钠 、 1,4-dibromo-2-methylbut-2-ene 在 乙酸乙酯 、 Brine 、 Sodium sulfate-III 作用下， 以 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 10.0h， 以to give 1 -(phenylsulfonyl)-3-methyl-4-bromo-2-butene的产率得到1-(Phenylsulfonyl)-3-methyl-4-bromo-2-butene
  参考文献：
  名称：

  Process for producing allyl halide compound

  摘要：

  本文公开了一种组分，包括(E)-1,4-二溴-2-甲基-2-丁烯和(Z)-1,4-二溴-2-甲基-2-丁烯，其中E异构体与E和Z异构体的总量之比为0.9或更高；一种生产该组分的方法以及一种使用该组分生产化合物的方法，该化合物的化学式为(1)： 1其中X表示溴原子，Y表示ArS（O）2基团或RCOO基团，其中Ar表示可能被取代的芳基基团，R表示氢原子，低碳烷基或可能被取代的芳基基团，波浪线表示衍生物是E或Z几何异构体的混合物。

  公开号：

  US20020107422A1
• 作为试剂：
  描述：

  4-Ethoxy-2,3-difluorobenzyltriphenylphosphonium chloride 、 potassium tert-butylate 、 1-(4-Ethoxy-2,3-difluorophenyl)-cyclohexanecarboaldehyde 、 盐酸 在 氮 、 水 、 magnesium sulfate 、 silica gel 、 甲苯 、 苯亚磺酸钠 、 sodium hydroxide 、 碳酸氢钠 、 正庚烷 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲苯 、 水 为溶剂， 反应 6.5h， 以to obtained light yellow crystals in Solmix A-11 (20 ml)的产率得到
  参考文献：
  名称：

  THREE-RING LIQUID CRYSTAL COMPOUND HAVING LATERAL FLUORINE, LIQUID CRYSTAL COMPOSITION, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

  摘要：

  该发明提供了一种液晶化合物，其由以下公式表示，具有耐热、耐光等稳定性，具有向列相的宽温度范围、小粘度、大光学各向异性和适当的弹性常数K33（K33：弯曲弹性常数），并且具有适当的负电介质各向异性和与其他液晶化合物良好的相容性，并提供了包括该化合物的液晶组合物，其中R1和R2是氢、烷基或类似物，环A1是反式-1,4-环己基、1,4-苯基或类似物，L1到L4是氢或氟，其中至少三个是氟；当环A1为反式-1,4-环己基或类似物时，Z1是单键，-(CH2)2-或类似物，当环A1为1,4-苯基时，Z1是-(CH2)2-或类似物。

  公开号：

  US20110037024A1

文献信息

• Isothiazolecarboxylic acid derivatives and their use as microbicides
  申请人：——

  公开号：US20030176477A1

  公开（公告）日：2003-09-18

  Novel isothiazolecarboxylic acid derivatives of the formula (I), in which A, Q, Z and k have the meanings mentioned in the specification, processes for the preparation of the new compounds and their use as microbicides.

  小说异噻唑羧酸衍生物的公式（I），其中A，Q，Z和k具有规范中提到的含义，制备新化合物的过程以及它们作为微生物杀菌剂的用途。
• Tricyclic compounds as TXA.sub.2 antagonists
  申请人：Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd.

  公开号：US05242931A1

  公开（公告）日：1993-09-07

  Novel Tricyclic compound represented by formula ##STR1## possess a TXA.sub.2 biosynthesis inhibiting act and/or a TXA.sub.2 receptor antagonizing activity, and are expected to have preventive and therapeutic effects on ischemic diseases, cerebro-vascular diseases, etc.

  新型三环化合物的化学式为##STR1##，具有TXA.sub.2生物合成抑制和/或TXA.sub.2受体拮抗活性，预期具有预防和治疗缺血性疾病、脑血管疾病等方面的作用。
• Tricyclic compounds
  申请人：Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd.

  公开号：US04999363A1

  公开（公告）日：1991-03-12

  Novel tricyclic compound represented by formula ##STR1## possess a TXA.sub.2 biosynthesis inhibiting activity and/or a TXA.sub.2 receptor antagonizing activity, and are expected to have preventive and therapeutic effects on ischemic diseases, cerebro-vascular diseases, etc.

  这段话的意思是：由公式##STR1##所代表的新型三环化合物具有TXA.sub.2生物合成抑制活性和/或TXA.sub.2受体拮抗活性，预计具有对缺血性疾病、脑血管疾病等的预防和治疗作用。
• Resist material and pattern formation process
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05468589A1

  公开（公告）日：1995-11-21

  A resist composition comprising (a) a polymer having at least repeating units of the formulae: ##STR1## (b) a photoacid generator and (c) a solvent, has high sensitivity to light, excellent heat resistance, adhesiveness to a substrate and suitable for pattern formation with high resolution.

  一种电阻抗成分，包括(a)至少具有如下重复单元的聚合物：##STR1## (b) 光酸发生剂和(c) 溶剂，具有高光敏度，优异的耐热性，对基板的粘附性，并适用于高分辨率的图案形成。
• Pattern formation process
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05670299A1

  公开（公告）日：1997-09-23

  A resist composition comprising (a) a polymer having at least repeating units of the formulae: ##STR1## (b) a photoacid generator and (c) a solvent, has high sensitivity to light, excellent heat resistance, adhesiveness to a substrate and suitable for pattern formation with high resolution.

  一种抗阻剂组合物，包括（a）至少具有以下重复单元式的聚合物：##STR1##（b）光酸发生剂和（c）溶剂，具有对光的高灵敏度，优异的耐热性，对基底的粘附性，并适用于高分辨率的图案形成。