3,5-dimethyl-4-oxo-4H-pyran-2-carboxylic acid methyl ester | 220757-71-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡喃
• 英文名称: 3,5-dimethyl-4-oxo-4H-pyran-2-carboxylic acid methyl ester
• 英文别名: 3,5-Dimethyl-2-methoxycarbonyl-4-pyrone；methyl 3,5-dimethyl-4-oxopyran-2-carboxylate
• CAS: 220757-71-1
• 化学式: C₉H₁₀O₄
• 分子量: 182.176
• InChiKey: XNGUYPSTWOITLU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.9
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3,5-dimethyl-4-oxo-4H-pyran-2-carboxylic acid methyl ester 在 palladium 10% on activated carbon 、 氢气 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 反应 12.0h， 以90%的产率得到3,5-dimethyl-4-oxotetrahydropyran-2-carboxylic acid methyl ester
  参考文献：
  名称：

  신규 술폰산염, 광산발생제 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물

  摘要：

  这是一篇科技文献，介绍了一种用于化学扩增型光刻胶材料的新型磺酸盐，以及由此制造的光致发生剂和包含它的光刻胶组合物，以及利用它进行图案形成的方法。上述磺酸盐由化学式1表示。[化学式1] 在上述化学式1中，R和R分别独立地表示氢原子（H），羟基，1至20个碳的烷氧基，羧基，或1至20个线性，支链或环状碳氢基的取代或未取代物，X和X分别独立地表示氟原子（F），羟基，或1至20个线性，支链或环状碳氢基的取代或未取代物，Y表示氧原子（O）或氨基（-NH-），n是1至10的整数，M+表示阳离子。

  公开号：

  KR101763822B1
• 作为产物：
  描述：

  3-戊酮 在 sodium hydride 、 溶剂黄146 作用下， 以 甲醇 、 氯仿 、 mineral oil 、 苯 为溶剂， 反应 9.0h， 生成 3,5-dimethyl-4-oxo-4H-pyran-2-carboxylic acid methyl ester
  参考文献：
  名称：

  신규 술폰산염, 광산발생제 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물

  摘要：

  这是一篇科技文献，介绍了一种用于化学扩增型光刻胶材料的新型磺酸盐，以及由此制造的光致发生剂和包含它的光刻胶组合物，以及利用它进行图案形成的方法。上述磺酸盐由化学式1表示。[化学式1] 在上述化学式1中，R和R分别独立地表示氢原子（H），羟基，1至20个碳的烷氧基，羧基，或1至20个线性，支链或环状碳氢基的取代或未取代物，X和X分别独立地表示氟原子（F），羟基，或1至20个线性，支链或环状碳氢基的取代或未取代物，Y表示氧原子（O）或氨基（-NH-），n是1至10的整数，M+表示阳离子。

  公开号：

  KR101763822B1

文献信息

• Process for the preparation of omeprazole and intermediate compounds
  申请人：Baldwin, Jack Edward

  公开号：EP0899268A2

  公开（公告）日：1999-03-03

  A strategy for synthesising omeprazole 10 starting from compound 1 as shown in the diagram. Individual method steps 1→2, 2→3, 3→4, 4→5, 5→6, 6→7, and intermediate compounds 2, 3, 4, 5, 6 and 9 are also claimed as new.

  从化合物 1 开始合成奥美拉唑 10 的策略，如图所示。个别方法步骤 1→2、2→3、3→4、4→5、5→6、6→7 和中间化合物 2、3、4、5、6 和 9 也是新的。
• US6043371
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• US06043371
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• US6043371A
  申请人：——

  公开号：US6043371A

  公开（公告）日：2000-03-28
• 신규 술폰산염, 광산발생제 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물
  申请人：DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. 주식회사 동진쎄미켐(119981067679) Corp. No ▼ 120111-0003848BRN ▼137-81-07814

  公开号：KR101763822B1

  公开（公告）日：2017-08-02

  화학 증폭형 레지스트(resist) 재료 등에 사용되는 신규 술폰산염, 이로부터 제조되는 광산발생제 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법이 개시된다. 상기 술폰산염은 하기 화학식 1로 표시된다. [화학식 1] 상기 화학식 1에서, R 및 R는 각각 독립적으로 수소 원자(H), 히드록시기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 카르복시기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 선형, 분지형 또는 환형 탄화수소기이고, X 및 X는 각각 독립적으로 불소 원자(F), 히드록시기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 선형, 분지형 또는 환형 탄화수소기이고, Y는 산소 원자(O) 또는 아미노기(-NH-)이고, n은 1 내지 10의 정수이며, M+는 양이온을 나타낸다.

  这是一篇科技文献，介绍了一种用于化学扩增型光刻胶材料的新型磺酸盐，以及由此制造的光致发生剂和包含它的光刻胶组合物，以及利用它进行图案形成的方法。上述磺酸盐由化学式1表示。[化学式1] 在上述化学式1中，R和R分别独立地表示氢原子（H），羟基，1至20个碳的烷氧基，羧基，或1至20个线性，支链或环状碳氢基的取代或未取代物，X和X分别独立地表示氟原子（F），羟基，或1至20个线性，支链或环状碳氢基的取代或未取代物，Y表示氧原子（O）或氨基（-NH-），n是1至10的整数，M+表示阳离子。