(4,4,4-trifluoro-3-hydroxy-2-methyl-3-trifluoromethylbutan-2-yloxycarbonyl)methyl methacrylate | 1109285-53-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: (4,4,4-trifluoro-3-hydroxy-2-methyl-3-trifluoromethylbutan-2-yloxycarbonyl)methyl methacrylate
• 英文别名: [2-Oxo-2-[4,4,4-trifluoro-3-hydroxy-2-methyl-3-(trifluoromethyl)butan-2-yl]oxyethyl] 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 1109285-53-1
• 化学式: C₁₂H₁₄F₆O₅
• 分子量: 352.231
• InChiKey: JKLLUWWFWZQQHL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  72.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  11

文献信息

• FLUORINATED MONOMER, FLUORINATED POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：HASEGAWA Koji

  公开号：US20090035699A1

  公开（公告）日：2009-02-05

  Fluorinated monomers of formula (1) are useful in producing polymers for the formulation of radiation-sensitive resist compositions. R 1 is H or monovalent C 1 -C 20 hydrocarbon group, R 2 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R 3 and R 4 are H or a monovalent C 1 -C 8 hydrocarbon group, or R 3 and R 4 may form an aliphatic hydrocarbon ring, and A is a divalent C 1 -C 6 hydrocarbon group.

  式（1）的氟化单体在制备用于辐射敏感抗蚀组合物的聚合物方面很有用。 R1是H或一价的C1-C20碳氢基团，R2是H，F，甲基或三氟甲基，R3和R4是H或一价的C1-C8碳氢基团，或R3和R4可以形成脂肪烃环，A是二价的C1-C6碳氢基团。
• Polymer, resist protective coating material, and patterning process
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20070178407A1

  公开（公告）日：2007-08-02

  A polymer comprising repeat units having formula (1) wherein R 1 and R 2 are hydrogen or C 1 -C 12 alkyl, or R 1 and R 2 may bond together to form a ring, and R 30 is hydrogen or methyl is used to formulate a resist protective coating material. A protective coating formed therefrom on a resist film is water-insoluble, dissolvable in alkali aqueous solution or alkaline developer, and immiscible with the resist film so that the immersion lithography can be conducted in a satisfactory manner. During alkali development, development of the resist film and removal of the protective coating can be simultaneously achieved.
• US7642034B2
  申请人：——

  公开号：US7642034B2

  公开（公告）日：2010-01-05
• US7981589B2
  申请人：——

  公开号：US7981589B2

  公开（公告）日：2011-07-19
• [EN] RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER, AND COMPOUND<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE, POLYMÈRE, ET COMPOSÉ<br/>[JA] 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
  申请人：JSR CORP

  公开号：WO2021111913A1

  公开（公告）日：2021-06-10

  露光光に対する感度が良好であり、高撥水性で欠陥の少ないレジストパターンを形成し得る感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体、及びこれらに用いることができる化合物の提供を目的とする。本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する第１重合体と、下記式（１）で表される構造単位を有する第２重合体と、感放射線性酸発生体とを含有する感放射線性樹脂組成物である。下記式（１）中、Ａは、酸素原子又は硫黄原子である。ｍ＋ｎは２又は３であり、ｍは１又は２であり、ｎは１又は２である。Ｘは、単結合又は炭素数１～２０の２価の有機基である。Ｒ１は、フッ素原子を有する１価の有機基である。