1-ethylcyclopentyl 4-chlorobutyrate | 1379524-50-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: 1-ethylcyclopentyl 4-chlorobutyrate
• 英文别名: (1-ethylcyclopentyl) 4-chlorobutanoate
• CAS: 1379524-50-1
• 化学式: C₁₁H₁₉ClO₂
• 分子量: 218.724
• InChiKey: DIGAQCODAHSETD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.91
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,6-二甲基吡啶 、 1-ethylcyclopentyl 4-chlorobutyrate 在 sodium iodide 、 苯胺 作用下， 以 水 为溶剂， 以76%的产率得到1-ethylcyclopentyl 4-(phenylamino)butyrate
  参考文献：
  名称：

  BASIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  一种化学放大型光刻胶组合物，包括基础聚合物、酸发生剂和胺淬灭剂，后者为β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或5-氨基戊酸的衍生物，具有一个被酸不稳定基团所取代的羧基，这种组合物在曝光前后具有高对比度的碱性溶解速率，并且能够形成高分辨率、最小粗糙度和宽焦深度的良好图案轮廓。

  公开号：

  US20120141938A1
• 作为产物：
  描述：

  环戊醇 、 4-氯丁酰氯 在 吡啶 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 以93%的产率得到1-ethylcyclopentyl 4-chlorobutyrate
  参考文献：
  名称：

  BASIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  一种化学放大型光刻胶组合物，包括基础聚合物、酸发生剂和胺淬灭剂，后者为β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或5-氨基戊酸的衍生物，具有一个被酸不稳定基团所取代的羧基，这种组合物在曝光前后具有高对比度的碱性溶解速率，并且能够形成高分辨率、最小粗糙度和宽焦深度的良好图案轮廓。

  公开号：

  US20120141938A1

文献信息

• Basic compound, chemically amplified resist composition, and patterning process
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US08921026B2

  公开（公告）日：2014-12-30

  A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.

  一种化学增感型光刻胶组合物，包括基础聚合物、酸发生剂和一种β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或5-氨基戊酸衍生物的胺猝灭剂，其具有酸不稳定基取代的羧基，具有高对比度的碱性溶解速率，在曝光前后形成良好轮廓的图案，具有最小的粗糙度和宽的焦点余量。
• Basic compound, chemically amplified resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2463714A1

  公开（公告）日：2012-06-13

  A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.

  一种化学放大抗蚀剂组合物由碱聚合物、酸发生器和胺淬灭剂组成，其形式为具有酸易变基团取代的羧基的β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或 5-氨基戊酸衍生物，曝光前后的碱性溶解率对比度高，形成的图案轮廓清晰，分辨率高，粗糙度小，焦距宽。
• US8921026B2
  申请人：——

  公开号：US8921026B2

  公开（公告）日：2014-12-30