ethyl-(2-cyclohex-1-enyl-1-methyl-ethyl)-ether | 99992-11-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: ethyl-(2-cyclohex-1-enyl-1-methyl-ethyl)-ether
• 英文别名: Aethyl-(2-cyclohex-1-enyl-1-methyl-aethyl)-aether；1-(2-Ethoxypropyl)cyclohexene
• CAS: 99992-11-7
• 化学式: C₁₁H₂₀O
• 分子量: 168.279
• InChiKey: OYGFGUNFAGDOSR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.82
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  乙缩醛 、 亚甲基环己烷 在 boron fluoride ether 作用下， 生成 ethyl-(2-cyclohex-1-enyl-1-methyl-ethyl)-ether
  参考文献：
  名称：

  Paul; Tchelitcheff, Bulletin de la Societe Chimique de France, 1951, p. 125,127

  摘要：

  DOI：

文献信息

• [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AUX RADIATIONS, FILM DE RÉSERVE UTILISANT LA COMPOSITION ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2011093520A1

  公开（公告）日：2011-08-04

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having a repeating unit represented by the following formula (1), a resist film using the composition, and a pattern forming method.