4-硝基-2-(1H-吡唑-3-基)苯酚 | 351003-12-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• 中文名称: 4-硝基-2-(1H-吡唑-3-基)苯酚
• 中文别名: 4-硝基-2-(1H-吡唑)苯酚
• 英文名称: 4-nitro-2-(1H-pyrazol-3-yl)phenol
• 英文别名: 4-nitro-2-(1H-pyrazol-5-yl)phenol
• CAS: 351003-12-8
• 化学式: C₉H₇N₃O₃
• mdl: MFCD03094028
• 分子量: 205.173
• InChiKey: NPTPVROZEGBZIS-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  211-214 °C(lit.)
• 稳定性/保质期：

  在常温常压下保持稳定，应避免与强氧化剂接触。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.4
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  94.7
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-硝基-2-(1H-吡唑-3-基)苯酚 在 palladium diacetate potassium fluoride 、 polymethylhydrosiloxane 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 0.5h， 以89%的产率得到4-amino-2-(1H-pyrazol-3-yl)phenol
  参考文献：
  名称：

  一锅法将硝基化合物转化为胺、羟胺、酰胺、磺胺和氨基甲酸酯的钯催化硅烷/硅氧烷还原

  摘要：

  醋酸钯 (II)、氟化钾水溶液和聚甲基氢硅氧烷 (PMHS) 的组合有助于在室温下将芳香族硝基化合物还原为苯胺。这些反应往往快速（30 分钟）、高产，并且可以耐受一系列其他官能团。用三乙基硅烷代替 PMHS/KF 可以将脂肪族硝基化合物还原为相应的羟胺。根据底物的不同，这两种条件都可以将产物胺原位转化为酰胺、磺酰胺和氨基甲酸酯。

  DOI：

  10.1055/s-2006-950231

文献信息

• Novel compounds that are ERK inhibitors
  申请人：Deng Yongqi

  公开号：US20070232610A1

  公开（公告）日：2007-10-04

  Disclosed are the ERK inhibitors of formula 1.0: and the pharmaceutically acceptable salts and solvates thereof. Q is a piperidine or piperazine ring that can have a bridge or a fused ring. The piperidine ring can have a double bond in the ring. All other substitutents are as defined herein. Also disclosed are methods of treating cancer using the compounds of formula 1.0.

  本发明涉及一种化学式1.0的ERK抑制剂，以及其药学上可接受的盐和溶剂。其中，Q为一个哌啶或哌嗪环，可以有一个桥或一个融合环。哌啶环中可以在环中有一个双键。所有其他取代基如定义所述。本发明还涉及使用化合物1.0治疗癌症的方法。
• INK COMPOSITION AND METHOD OF FABRICATING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME
  申请人：KIM Sung-Hee

  公开号：US20100120181A1

  公开（公告）日：2010-05-13

  Disclosed are an ink composition and a method for fabricating a liquid crystal display (LCD) device using the same, wherein in forming patterns of the LCD device using an imprint lithography and a roll printing, an ink composition with high thermal resistance, consisting of polymer resin and additive both endurable even at a high temperature is used to form fine patterns with constantly maintaining pattern linewidths and line intervals, the ink composition consisting of 5-45% by weight of polymer resin, 5-45% by weight of additive added to retain thermal stability, and 50-90% by weight of organic solvent, wherein the ink composition is endurable even at a high temperature of 90-250° C.
• INK COMPOSITION FOR IMPRINT LITHOGRAPHY AND ROLL PRINTING
  申请人：LG Display Co., Ltd.

  公开号：US20150133582A1

  公开（公告）日：2015-05-14

  Disclosed are an ink composition for an imprint lithography and a roll printing, wherein in forming patterns of the LCD device using the imprint lithography and the roll printing, an ink composition with high thermal resistance, consisting of polymer resin and additive both endurable even at a high temperature is used to form fine patterns with constantly maintaining pattern linewidths and line intervals, and wherein the ink composition is endurable even at a high temperature of 90-250° C.
• US7807672B2
  申请人：——

  公开号：US7807672B2

  公开（公告）日：2010-10-05
• US7935552B2
  申请人：——

  公开号：US7935552B2

  公开（公告）日：2011-05-03