4-methanesulfonyloxybenzenesulfonic acid | 118795-67-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-methanesulfonyloxybenzenesulfonic acid
• 英文别名: 4-Methylsulfonyloxybenzenesulfonic acid
• CAS: 118795-67-8
• 化学式: C₇H₈O₆S₂
• 分子量: 252.269
• InChiKey: IMYOTJFDNDRYRE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.604±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.2
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  115
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-methanesulfonyloxybenzenesulfonic acid 在 氯化亚砜 、 N,N-二甲基甲酰胺 作用下， 反应 4.0h， 以100%的产率得到methanesulfonic acid 4-chlorosulfonylphenyl ester
  参考文献：
  名称：

  [EN] NTCP INHIBITORS
  [FR] INHIBITEURS DE NTCP

  摘要：

  提供的环孢霉素A类似物是NTCP抑制剂，可用于治疗HBV和/或HDV感染，肝脏保护和改善高胆固醇血症、糖尿病以及抑制癌症。

  公开号：

  WO2019196953A1
• 作为产物：
  描述：

  甲磺酸苯酯 在 三氧化硫 作用下， 以 硝基甲烷 为溶剂， 反应 0.5h， 生成 4-methanesulfonyloxybenzenesulfonic acid
  参考文献：
  名称：

  C-甲基化苯酚和茴香醚与三氧化硫的反应中的磺化和硫酸化作用。4-取代的苯基硫酸氢盐：进行磺化反应的有效试剂† ‡

  摘要：

  甲基苯酚和二甲基苯酚的当量和当量为0.9和4.0的硫酸化和磺化。已经研究了0°C下硝基甲烷中的SO 3含量。在使用0.9当量时 对于SO 3而言，磺酸产物的分布取决于活化羟基取代基的邻位和对位作用。在与4.0当量的反应中。在SO 3中，磺酸产物的分布受相应的苯基硫酸氢盐的主要初始形成和随后的磺化作用的影响，其中大部分的OSO 3 H取代基被电子钝化，并且（主要）对位-指挥。为了进行比较，还研究了甲基茴香醚，甲磺酸苯基酯和2，3-二氢苯并呋喃的磺化作用。

  DOI：

  10.1002/recl.19881070606

文献信息

• Phenyl-sulfamates as aromatase inhibitors
  申请人：Lawrence Woo Wai Lok

  公开号：US20070117855A1

  公开（公告）日：2007-05-24

  There is provided a compound of Formula I wherein X, Y and Z are each independently of each other an optional linker group; R 1 is a ring system; R 2 is selected from hydrocarbyl groups, oxyhydrocarbyl groups, cyano (—CN), nitro (—NO 2 ) and halogens; R 3 and R 4 are independently selected from H and hydrocarbyl, ring A and B are independently optionally further substituted.

  提供了一种化合物I，其中X、Y和Z各自独立地是可选的连接基团；R1是一个环系统；R2从烃基，氧烃基，氰基（-CN），硝基（-NO2）和卤素中选择；R3和R4独立地选择自H和烃基，环A和B独立地可选地进一步取代。
• PHENYL-SULFAMATES AS AROMATASE INHIBITORS
  申请人：Woo Lok Wai Lawrence

  公开号：US20110021586A1

  公开（公告）日：2011-01-27

  There is provided a compound of Formula I wherein X, Y and Z are each independently of each other an optional linker group; R 1 is a ring system; R 2 is selected from hydrocarbyl groups, oxyhydrocarbyl groups, cyano (—CN), nitro (—NO 2 ) and halogens; R 3 and R 4 are independently selected from H and hydrocarbyl, ring A and B are independently optionally further substituted.

  提供一种公式为I的化合物，其中X、Y和Z各自独立地为可选的连接基团；R1是一个环系；R2选择自烃基团、氧烃基团、氰基（—CN）、硝基（—NO2）和卤素；R3和R4独立地选择自H和烃基团，环A和B独立地可选地进一步取代。
• Onium salts, photoacid generators for resist compositions, and patterning process
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：EP1077391A1

  公开（公告）日：2001-02-21

  Onium salts of the formula (1) are novel. R1 is C1-10 alkyl or C6-14 aryl, R2 is H or C1-6 alkyl, p is an integer of 1 to 5, q is an integer of 0 to 4, p+q = 5, R3 is C1-10 alkyl or C6-14 aryl, M is a sulfur or iodine atom, and "a" is equal to 3 or 2. A chemical amplification type resist composition comprising the onium salt as a photoacid generator is suited for microfabrication, especially by deep UV lithography because of many advantages including improved resolution, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized defect after coating, development and stripping, and improved pattern profile after development.

  式（1）的铌盐是新颖的。 R1是C1-10烷基或C6-14芳基，R2是H或C1-6烷基，p是1至5的整数，q是0至4的整数，p+q=5，R3是C1-10烷基或C6-14芳基，M是硫或碘原子，"a "等于3或2。由作为光酸发生器的鎓盐组成的化学放大型抗蚀剂组合物适用于微细加工，特别是深紫外光刻，因为它具有许多优点，包括提高了分辨率，即使在长期的 PED 上也能最大限度地减少线宽变化或形状退化，最大限度地减少涂布、显影和剥离后的缺陷，以及改善显影后的图案轮廓。
• Cerfontain, Hans; Lambrechts, Hans J. A.; Schaasberg-Nienhuis, Zwaan R. H., Journal of the Chemical Society. Perkin transactions II, 1985, p. 659 - 668
  作者：Cerfontain, Hans、Lambrechts, Hans J. A.、Schaasberg-Nienhuis, Zwaan R. H.、Coombes, Robert G.、Hadjigeorgiou, Panicos、Tucker, Geoffrey

  DOI：——

  日期：——
• WIT, PETER DE;WOLDHUIS, ALEX F.;CERFONTAIN, HANS, REC. TRAV. CHIM. PAYS-BAS, 107,(1988) N2, C. 668-675
  作者：WIT, PETER DE、WOLDHUIS, ALEX F.、CERFONTAIN, HANS

  DOI：——

  日期：——