【課題】CD均一性に優れた良好レジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤、レジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩、これを含む酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、Q1及びQ2は夫々、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す;R1及びR2は夫々に、水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す;zは0〜6の整数;X1は、*−CO−O−等を表す;A1及びA2は夫々、単結合又は*−L1−CO−O−(L2−CO−O)g−を表す;L1及びL2は夫々2価炭化水素基を表す;gは0又は1;A3は、単結合又は2価炭化水素基を表す;R3は、脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基中の2つの水素原子が2つの酸素原子に置換され、フッ素原子を含んでもよいケタール構造を形成してもよい;Z+は有機カチオンを表す。]【選択図】なし
这项技术旨在提供能够制造具有优异CD均一性的良好光刻图案的盐类、酸发生剂、光刻胶组成物等。解决方案包括由式(I)表示的盐类,以及包含该盐的酸发生剂和光刻胶组成物。【式中,Q1和Q2分别表示
氟原子或
全氟烷基;R1和R2分别表示氢原子、
氟原子或
全氟烷基;z为0~6的整数;X1表示*−CO−O−等;A1和A2分别表示单键或*−L1−CO−O−(
L2−CO−O)g−;L1和
L2分别表示二价碳氢基;g为0或1;A3表示单键或二价碳氢基;R3表示脂环式碳氢基,其中脂环式碳氢基中的两个氢原子被两个氧原子取代,也可以形成含
氟原子的酮缩结构;Z+表示有机阳离子。】【选择图】无