(trimethylsilyl)methylcyclopentadiene | 60322-81-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 碳氢化合物衍生物
• 英文名称: (trimethylsilyl)methylcyclopentadiene
• 英文别名: Cyclopenta-1,4-dien-1-ylmethyl(trimethyl)silane
• CAS: 60322-81-8
• 化学式: C₉H₁₆Si
• 分子量: 152.312
• InChiKey: KIFQINNXBWDSHK-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  172.8±19.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.847±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.21
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.56
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (trimethylsilyl)methylcyclopentadiene 在 正丁基锂 作用下， 以 乙醚 、 正己烷 、 正戊烷 为溶剂， 以99.7%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  [EN] METALLOCENE SYNTHESIS PROCESS
  [FR] PROCÉDÉ DE SYNTHÈSE DE MÉTALLOCÈNE

  摘要：

  一种合成第4族Awra-茂金属环的过程。该过程包括在碱土金属双阴离子二环戊二烯配体-路易斯碱复合物与第4族金属四卤化物在碱金属卤化物存在下反应，并形成高产率和纯度的第4族ansa-茂金属二卤化物。

  公开号：

  WO2020009802A1
• 作为产物：
  描述：

  碘甲基三甲基硅烷 、 Sodium cyclopentadienide 以 四氢呋喃 为溶剂， 以41.9%的产率得到(trimethylsilyl)methylcyclopentadiene
  参考文献：
  名称：

  Chemistry of organosilicon compounds. 131. Substituent effects by deuterium and alkyl groups and carbon-13 hyperfine coupling constants of cyclopentadienyl radicals as studied by electron spin resonance

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja00536a014

文献信息

• CH-Aktivierungsreaktionen an substituierten Zirconocenkomplexen und deren Verwendung in der katalytischen Ethylenpolymerisation
  作者：Andrea I Licht、Helmut G Alt

  DOI：10.1016/s0022-328x(03)00508-4

  日期：2003.11

  Zirconocene dichloride complexes with substituents containing aliphatic end groups at the aromatic ligands react with two equivalents of n-butyllithium to give metallacyclic zirconocene complexes via aliphatic CH-activation reactions. As well as ω-alkenyl substituted zirconocene dichloride complexes with terminal aliphatic groups as zirconocene dichloride complexes with purely aliphatic substituents

  在芳族配体上具有包含脂族端基的取代基的二茂锆二茂合物与二当量的正丁基锂反应，通过脂族CH活化反应生成金属环茂锆茂配合物。具有末端脂族基团的ω-烯基取代的二氧化锆茂金属配合物以及具有纯脂族取代基的二氯化锆茂金属配合物也适用于此类金属环的合成。与甲基铝氧烷（MAO）结合使用时，这些金属环对于乙烯聚合而言是极好的催化剂。它们的活性可以是相应的二茂锆二氯化物离析物的活性的三倍半。催化剂25 / MAO能够生产2640 kg PE g -1 Zr h（60°C，戊烷溶液，10 bar乙烯压力）。
• コバルト錯体及びその製造方法、コバルト含有薄膜及びその製造方法
  申请人：東ソー株式会社

  公开号：JP2018172322A

  公开（公告）日：2018-11-08

  【課題】酸化性ガスを用いない条件下でコバルト含有薄膜を製造するのに有用な、気化特性に優れたコバルト錯体を提供する。【解決手段】一般式（１）【化１】（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｌは炭素数４〜１０のジエンを表す。）で示されるコバルト錯体。【選択図】なし

  【问题】提供一种具有优良气化特性的钴配合物，可在不使用酸性气体的条件下制造含钴薄膜。 【解决方案】提供一种由通式（1）【化学1】表示的钴配合物，其中，R1，R2和R3各自独立地表示氢原子或1-4个碳原子的烷基，L表示4-10个碳原子的二烯基。 【选择图】无
• MIRONOV, V. A.;DOLGAYA, M. E.;YANKOVSKIJ, S. A.;PUXOVA, E. N., IZV. VUZOV. XIMIYA I XIM. TEXNOL., 1983, 26, N 8, 923-928
  作者：MIRONOV, V. A.、DOLGAYA, M. E.、YANKOVSKIJ, S. A.、PUXOVA, E. N.

  DOI：——

  日期：——
• RUDOLF K.; ROBINETTE D.; KOENIG T., J. ORG. CHEM., 52,(1987) N 4, 641-647
  作者：RUDOLF K.、 ROBINETTE D.、 KOENIG T.

  DOI：——

  日期：——