1-(2-Methoxyethoxy)-2-methylpropan | 89851-42-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1-(2-Methoxyethoxy)-2-methylpropan
• 英文别名: 1-(2-methoxy-ethoxy)-2-methyl-propane；1-Methoxy-2-isobutoxyethan；1-(2-Methoxyethoxy)-2-methylpropane
• CAS: 89851-42-3
• 化学式: C₇H₁₆O₂
• 分子量: 132.203
• InChiKey: LFJNVLDOQPOSOJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  134.2±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.841±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.3
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  甲醇 、 乙烯基异丁醚 在 CsAlSi₂O₆ 作用下， 反应 12.0h， 生成 1-(2-Methoxyethoxy)-2-methylpropan
  参考文献：
  名称：

  Catalytic Olefin Hydroalkoxylation by Nano Particles of Pollucite

  摘要：

  本研究采用热和微波辅助方法，研究了α,β-不饱和酯类、腈类和醚类与脂肪族和芳香族醇在沸石上的催化加氢烷氧基化反应。为了研究醇结构对羟基烷氧基化反应机理的影响，使用了不同的醇，如甲醇、丁醇、环己醇、苯酚和 2-乙基己醇。与其他碱性固体相比，波来石的活性几乎不受空气和水分的影响。本文讨论了醇酸度与反应活性之间的相关性。通过 X 射线衍射、体积氮吸附表面积分析和 CO2 温度编程解吸法对制备的波来石进行了表征。扫描电子显微镜分析表明，改性纳米催化剂颗粒的尺寸小于 40 纳米。

  DOI：

  10.1071/ch14492

文献信息

• EFTU INHIBITORS OR AMINOTHIAZOLES AND THEIR USES
  申请人：LaMarche Matthew J.

  公开号：US20080221142A1

  公开（公告）日：2008-09-11

  The present application describes organic compounds that are useful for the treatment, prevention and/or amelioration of diseases.

  本申请描述了对治疗、预防和/或改善疾病有用的有机化合物。
• METHODS OF DOSE ADMINISTRATION FOR TREATING OR PREVENTING COGNITIVE IMPAIRMENT USING INDANE ACETIC ACID DERIVATIVES
  申请人：T3D Therapeutics, Inc.

  公开号：US20180153860A1

  公开（公告）日：2018-06-07

  The present invention provides indane acetic acid and their derivatives and methods for the treating and/or preventing of cognitive disorders.

  本发明提供了茚乙酸及其衍生物，以及用于治疗和/或预防认知障碍的方法。
• METAL ALKOXIDE COMPOUND, THIN-FILM-FORMING MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM, AND ALCOHOL COMPOUND
  申请人：ADEKA CORPORATION

  公开号：US20150175642A1

  公开（公告）日：2015-06-25

  Disclosed is a metal alkoxide compound having physical properties suitable for a material for forming thin films by CVD, and particularly, a metal alkoxide compound having physical properties suitable for a material for forming metallic-copper thin films. A metal alkoxide compound is represented by general formula (I). A thin-film-forming material including the metal alkoxide compound is described as well. (In the formula, R 1 represents a methyl group or an ethyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 3 represents a C 1-3 linear or branched alkyl group, M represents a metal atom or a silicon atom, and n represents the valence of the metal atom or silicon atom.

  揭示了一种具有适合用于CVD形成薄膜材料的物理性质的金属烷氧化物化合物，特别是一种具有适合用于形成金属铜薄膜材料的金属烷氧化物化合物。金属烷氧化物化合物由通式（I）表示。还描述了包括金属烷氧化物化合物的薄膜形成材料。（在公式中，R1代表甲基基团或乙基基团，R2代表氢原子或甲基基团，R3代表C1-3直链或支链烷基基团，M代表金属原子或硅原子，n代表金属原子或硅原子的价。
• Metal Complex Compound Comprising B-Diketonato Ligand
  申请人：Kadota Takumi

  公开号：US20080254216A1

  公开（公告）日：2008-10-16

  [PROBLEMS] To provide a metal complex compound capable of being suitably used for manufacturing a metal-containing thin film by the CVD method and a method for preparing a metal-containing thin film. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A metal complex compound comprising a β-diketonato ligand having an alkoxyalkyl-methyl group, and a method for preparing a metal-containing thin film using the metal complex compound by the CVD method.

  提供一种金属络合物化合物，能够适用于通过CVD方法制备含金属薄膜，并提供一种制备含金属薄膜的方法。采用含有烷氧基烷基甲基基团的β-二酮配体的金属络合物化合物，以及通过CVD方法使用该金属络合物化合物制备含金属薄膜的方法。
• Compound, thin film-forming material, and thin film manufacturing method
  申请人：ADEKA CORPORATION

  公开号：US10253408B2

  公开（公告）日：2019-04-09

  A novel compound represented by the general formula (I) or (II) below: [in the formula, each of R1 and R2 independently represent a C1˜12 hydrocarbon group, and Si(R3)3 is optionally substituted for a hydrogen atom in the hydrocarbon group; however, R1 and R2 are different groups; R3 represents a methyl or ethyl group; M represents a metal atom or silicon atom; and n is an integer from 1 to 4].

  一种新型化合物，其通式为(I)或(II)如下：[在公式中，R1和R2各自独立地代表C1˜12的烃基，且Si(R3)3可选择性地替代烃基中的氢原子；然而，R1和R2是不同的基团；R3代表甲基或乙基；M代表金属原子或硅原子；n是1至4的整数]。