2,2,2-trifluoro-1-(4-dodecyloxyphenyl)-ethanone | 175698-47-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2,2,2-trifluoro-1-(4-dodecyloxyphenyl)-ethanone
• 英文别名: 1-(Trifluoroacetyl)-4-(dodecyloxy)benzene；1-(4-dodecoxyphenyl)-2,2,2-trifluoroethanone
• CAS: 175698-47-2
• 化学式: C₂₀H₂₉F₃O₂
• 分子量: 358.444
• InChiKey: LSICXYHIKWCHGQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  412.7±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.045±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  8.4
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  13
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.65
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,2,2-trifluoro-1-(4-dodecyloxyphenyl)-ethanone 、 盐酸羟胺 在 吡啶 、 盐酸 作用下， 以 乙醇 、 二氯甲烷 、 水 、 乙酸乙酯 为溶剂， 生成 2,2,2-trifluoro-1-(4-dodecyloxyphenyl)-ethanone oxime
  参考文献：
  名称：

  Oxime derivatives and the use thereof as latent acids

  摘要：

  式I、II和III的化合物，其中R1例如是氢、C1-C12烷基、C3-C30环烷基、C2-C12烯基、C4-C8环烯基、苯基（未取代或取代）、萘基、蒽基或菲基（未取代或取代）、未取代或取代的杂环芳基；其中除氢外，所有基团R1还可以通过具有—O—C键或—O—Si键的基团取代，该基团在酸的作用下断裂；R′1例如是苯基、萘基、二苯基或氧二苯基，这些基团未取代或取代；R2是卤素或C1-C10卤代烷基；R3例如是C1-C18烷基磺酰基、苯基磺酰基、萘基磺酰基、蒽基磺酰基或菲基磺酰基，这些基团未取代或取代，或者R3例如是C2-C6卤代烷酰基或卤苯甲酰基，R′3例如是苯基二磺酰基、萘基二磺酰基、二苯基二磺酰基或氧二苯基二磺酰基，这些基团未取代或取代，X是卤素；在化学增感胶的配方中，这些化合物特别适用作为光敏酸供体。

  公开号：

  US06512020B1

文献信息

• US6261738B1
  申请人：——

  公开号：US6261738B1

  公开（公告）日：2001-07-17
• US6512020B1
  申请人：——

  公开号：US6512020B1

  公开（公告）日：2003-01-28
• Oxime derivatives and the use thereof as latent acids
  申请人：Ciba Specialty Chemicals Corporation

  公开号：US06512020B1

  公开（公告）日：2003-01-28

  Compounds of formula I, II and III, wherein wherein R1 is for example hydrogen, C1-C12alkyl, C3-C30cycloalkyl, C2-C12alkenyl, C4-C8cycloalkenyl, phenyl, which is unsubstituted or substituted, naphthyl, anthracyl or phenanthryl, unsubstituted or substituted, heteroaryl radical which is unsubstituted or substituted; wherein all radicals R1 with the exception of hydrogen can additionally be substituted by a group having a —O—C-bond or a —O—Si-bond which cleaves upon the action of an acid; R′1 is for example phenylene, naphthylene, diphenylene or oxydiphenylene, wherein these radicals are unsubstituted or substituted; R2 is halogen or C1-C10haloalkyl; R3 is for example C1-C18alkylsulfonyl, phenylsulfonyl, naphthylsulfonyl, anthracylsulfonyl or phenanthrylsulfonyl, wherein the groups are unsubstituted or substituted, or R3 is e.g. C2-C6haloalkanoyl, or halobenzoyl, R′3 is for example phenylenedisulfonyl, naphthylenedisulfonyl, diphenylenedisulfonyl, or oxydiphenylenedisulfonyl, wherein these radicals are unsubstituted or substituted, X is halogen; are especially suitable as photosensitive acid-donors in chemically amplified resist formulations.

  式I、II和III的化合物，其中R1例如是氢、C1-C12烷基、C3-C30环烷基、C2-C12烯基、C4-C8环烯基、苯基（未取代或取代）、萘基、蒽基或菲基（未取代或取代）、未取代或取代的杂环芳基；其中除氢外，所有基团R1还可以通过具有—O—C键或—O—Si键的基团取代，该基团在酸的作用下断裂；R′1例如是苯基、萘基、二苯基或氧二苯基，这些基团未取代或取代；R2是卤素或C1-C10卤代烷基；R3例如是C1-C18烷基磺酰基、苯基磺酰基、萘基磺酰基、蒽基磺酰基或菲基磺酰基，这些基团未取代或取代，或者R3例如是C2-C6卤代烷酰基或卤苯甲酰基，R′3例如是苯基二磺酰基、萘基二磺酰基、二苯基二磺酰基或氧二苯基二磺酰基，这些基团未取代或取代，X是卤素；在化学增感胶的配方中，这些化合物特别适用作为光敏酸供体。