5-(二甲氨基)-2-甲基戊烷-2-醇 | 43078-29-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 5-(二甲氨基)-2-甲基戊烷-2-醇
• 英文名称: 5-dimethylamino-2-methyl-pentan-2-ol
• 英文别名: 5-dimethylamino-2-methylpentan-2-ol；5-(Dimethylamino)-2-methylpentan-2-OL
• CAS: 43078-29-1
• 化学式: C₈H₁₉NO
• 分子量: 145.245
• InChiKey: JAQNKHZRFYKAPJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  99 °C(Press: 30 Torr)
• 密度：
  0.8644 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.9
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  23.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-(二甲氨基)-2-甲基戊烷-2-醇 生成 2-甲-4-戊烯-2-醇
  参考文献：
  名称：

  Sucrow,W. et al., Chemische Berichte, 1972, vol. 105, p. 1621 - 1633

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  5-二甲基胺-2-甲基-3-戊炔-2-醇 生成 5-(二甲氨基)-2-甲基戊烷-2-醇
  参考文献：
  名称：

  POPLAVSKAYA I. A.; SHIPUNOVA L. K., KAZ. CCP GYLYM AKAD. XABARLARY, IZV. AN KAZSSR. CEP. XIM., 1979, HO 4, 74+

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Die Solvoyse von 4-substituierten 2-Chlor-2-methylbutanen
  作者：Cyril A. Grob、Adrian Waldner

  DOI：10.1002/hlca.19790620614

  日期：1979.9.19

  The solvolysis of sixteen 4-substituted 2-chloro-2-methylbutanes in aqueous dioxane has been studied.

  已经研究了十六种4-取代的2-氯-2-甲基丁烷在二恶烷水溶液中的溶剂化作用。
• METAL ALKOXIDE COMPOUND, THIN-FILM-FORMING MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM, AND ALCOHOL COMPOUND
  申请人：ADEKA CORPORATION

  公开号：US20150175642A1

  公开（公告）日：2015-06-25

  Disclosed is a metal alkoxide compound having physical properties suitable for a material for forming thin films by CVD, and particularly, a metal alkoxide compound having physical properties suitable for a material for forming metallic-copper thin films. A metal alkoxide compound is represented by general formula (I). A thin-film-forming material including the metal alkoxide compound is described as well. (In the formula, R 1 represents a methyl group or an ethyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 3 represents a C 1-3 linear or branched alkyl group, M represents a metal atom or a silicon atom, and n represents the valence of the metal atom or silicon atom.

  揭示了一种具有适合用于CVD形成薄膜材料的物理性质的金属烷氧化物化合物，特别是一种具有适合用于形成金属铜薄膜材料的金属烷氧化物化合物。金属烷氧化物化合物由通式（I）表示。还描述了包括金属烷氧化物化合物的薄膜形成材料。（在公式中，R1代表甲基基团或乙基基团，R2代表氢原子或甲基基团，R3代表C1-3直链或支链烷基基团，M代表金属原子或硅原子，n代表金属原子或硅原子的价。
• THIN-FILM FORMING RAW MATERIAL FOR USE IN ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD, THIN-FILM FORMING RAW MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THIN-FILM, AND COMPOUND
  申请人：ADEKA CORPORATION

  公开号：US20210340162A1

  公开（公告）日：2021-11-04

  The present invention provides a thin-film forming raw material, which is used in an atomic layer deposition method, including a compound represented by the following general formula (1): where R 1 to R 4 each independently represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and A 1 represents an alkanediyl group having 1 to 5 carbon atoms.

  本发明提供了一种薄膜形成原料，用于原子层沉积方法，包括由以下一般式（1）表示的化合物：其中R1至R4分别独立表示具有1至5个碳原子的烷基基团，A1表示具有1至5个碳原子的烷二基基团。
• Use of Functionalized Onium Salts for Peptide Synthesis
  申请人：Vaultier Michel

  公开号：US20100292439A1

  公开（公告）日：2010-11-18

  A subject of the invention is the use of a salt with a dedicated task of formula (I): A + -L-R—OY, X − as soluble support for peptide synthesis, in which: X − represents a functional or non-functional anion, Y represents either a hydrogen atom, or a —COOR 1 group, R 1 representing in particular an alkyl group comprising 1 to 20 carbon atoms, A + represents a cationic entity, L represents an arm, in particular an alkyl group of 3 to 20 carbon atoms, R represents in particular a group of formula —C(R a )(R b )—, R a and R b representing independently of one another in particular a hydrogen or an alkyl group, comprising 1 to 20 carbon atoms.

  本发明涉及使用具有专用任务的盐的一种，其化学式为(I): A+-L-R—OY，X−作为肽合成的可溶性支持，其中：X−代表功能性或非功能性阴离子，Y代表氢原子或—COOR1基团，其中R1特指含有1至20个碳原子的烷基基团，A+代表阳离子实体，L代表一个臂，特指含有3至20个碳原子的烷基基团，R特指特定的—C(Ra)(Rb)—基团，Ra和Rb分别独立地代表氢或烷基基团，包括1至20个碳原子。
• RAW MATERIAL FOR FORMING THIN FILM BY ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD AND METHOD FOR PRODUCING THIN FILM
  申请人：ADEKA CORPORATION

  公开号：US20210155638A1

  公开（公告）日：2021-05-27

  Provided is a thin-film forming raw material, which is used in an atomic layer deposition method, including a magnesium compound represented by the following general formula (1): where R 1 represents an isopropyl group, a sec-butyl group, or a tert-butyl group. A thin-film containing a magnesium atom is produced on a surface of a substrate with high productivity through use of the raw material.

  提供了一种用于原子层沉积方法的薄膜形成原料，包括由以下一般式（1）表示的镁化合物： 其中，R1代表异丙基基团、仲丁基团或叔丁基团。通过使用该原料，在基板表面上高效地生产含有镁原子的薄膜。