Triethylborane Induced Stereoselective Radical Addition of R<sub>3</sub>SiH to Acetylenes and Stereoselective Reduction of Alkenyl Iodides with Tris(trimethylsilyl)silane
作者:Katsukiyo Miura、Koichiro Oshima、Kiitiro Utimoto
DOI:10.1246/bcsj.66.2356
日期:1993.8
Triethylborane induced radical addition of various organosilanes (R3SiH) to acetylenes has been studied. Among them, tris(trimethylsilyl)silane (TTMSS) proved to be the best reagent for the hydrosilylation of acetylenic compounds in terms of yield and stereoselectivity. For instance, reaction of 1-dodecyne with TTMSS at room temperature for 3 h under Et3B catalyst provided (Z)-1-tris(trimethylsilyl)silyl-1-dodecene
已经研究了三乙基硼烷引发的各种有机硅烷 (R3SiH) 与乙炔的自由基加成。其中,就产率和立体选择性而言,三(三甲基甲硅烷基)硅烷(TTMSS)被证明是炔类化合物氢化硅烷化的最佳试剂。例如,1-十二炔与 TTMSS 在室温下在 Et3B 催化剂下反应 3 小时,选择性地提供了 (Z)-1-三(三甲基甲硅烷基)甲硅烷基-1-十二烯,产率为 98%。已经研究了用 TTMSS-Et3B 或 n-Bu3SnH-Et3B 还原烯基碘的立体化学过程。在室温下用 TTMSS-Et3B 处理 1-二甲基苯基甲硅烷基-2-碘-1-十二烯,选择性地提供 (Z)-1-二甲基苯基甲硅烷基-1-十二烯 (Z/E > 30/1)。另一方面,用 n-Bu3SnH-Et3B 处理只得到 (E)-1-二甲基苯基甲硅烷基-1-十二烯。