Er-tris-2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: Er-tris-2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate
• 英文别名: erbium(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedione)3；Er(TMHD)3；erbium;2,2,6,6-tetramethylheptane-3,5-dione
• 化学式: C₃₃H₆₀ErO₆
• 分子量: 720.096
• InChiKey: DVVZFKBUKVTGJB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.82
• 重原子数：
  40
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.82
• 拓扑面积：
  102
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Er-tris-2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate 、 臭氧 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 erbium(III) oxide
  参考文献：
  名称：

  稀土氧化物的原子层沉积：来自β-二酮酸盐和臭氧前体的氧化铒薄膜

  摘要：

  Er(thd) 3 (thd = 2,2,6,6-tetramethyl-3,5-) 通过原子层沉积 (ALD) 在 Si(1 0 0) 和钠钙玻璃基板上生长 Er 2 O 3 薄膜庚二酮）和臭氧前体。研究的温度范围为 200-450°C，其中在 Si(1 0 0) 和钠钙玻璃上分别在 250-375 和 275-350°C 处观察到 Er 2 O 3（ALD 窗口）的恒定增长率区域. 在 ALD 窗口内，沉积在 Si( 1 0 0) 和钠钙玻璃上的 Er 2 O 3 膜的生长速率分别为 0.25 和 0.20 A（周期） -1 。薄膜是多晶、立方 Er 2 O 3 ，当沉积温度升高到 325°C 以上时，它们的优选取向从 (4 0 0) 变为 (2 2 2)。低于 250 °C，薄膜是无定形的。AFM 的表面形态研究表明薄膜非常光滑（rms = 0.3-1.4 nm），当沉积在 ALD 窗口内时。进行飞行时间弹性反冲检测

  DOI：

  10.1016/j.jallcom.2003.11.149

文献信息

• PREPARATION AND CHARACTERIZATION OF SOME RARE-EARTH COMPLEXES OF THE PHTHALOCYANINE RADICAL
  作者：Hiroshi Sugimoto、Teruaki Higashi、Masayasu Mori

  DOI：10.1246/cl.1983.1167

  日期：1983.8.5

  5-heptanedionato) complexes of rare-earth elements, M3+(dpm)3 (M = Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, and Y) with lithium phthalocyanine Li2(Pc2−) in tetrahydrofuran gave new stable phthalocyanine radical complexes [M3+(Pc−·)(dpm)2].

  稀土元素三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)配合物的反应，M3+(dpm)3 (M = Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er、Tm、Yb、Lu 和 Y) 与四氢呋喃中的锂酞菁 Li2(Pc2-) 生成新的稳定的酞菁自由基复合物 [M3+(Pc-·)(dpm)2]。
• Atomic layer deposition of rare earth oxides: erbium oxide thin films from β-diketonate and ozone precursors
  作者：Jani Päiväsaari、Matti Putkonen、Timo Sajavaara、Lauri Niinistö

  DOI：10.1016/j.jallcom.2003.11.149

  日期：2004.7

  Er 2 O 3 thin films were grown onto Si(1 0 0) and soda lime glass substrates by atomic layer deposition (ALD) from Er(thd) 3 (thd = 2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedione) and ozone precursors. Temperature range studied was 200-450°C where a region of constant growth rate for Er 2 O 3 (ALD window) was observed at 250-375 and 275-350 °C on Si(1 0 0) and soda lime glass, respectively. Within the ALD window

  Er(thd) 3 (thd = 2,2,6,6-tetramethyl-3,5-) 通过原子层沉积 (ALD) 在 Si(1 0 0) 和钠钙玻璃基板上生长 Er 2 O 3 薄膜庚二酮）和臭氧前体。研究的温度范围为 200-450°C，其中在 Si(1 0 0) 和钠钙玻璃上分别在 250-375 和 275-350°C 处观察到 Er 2 O 3（ALD 窗口）的恒定增长率区域. 在 ALD 窗口内，沉积在 Si( 1 0 0) 和钠钙玻璃上的 Er 2 O 3 膜的生长速率分别为 0.25 和 0.20 A（周期） -1 。薄膜是多晶、立方 Er 2 O 3 ，当沉积温度升高到 325°C 以上时，它们的优选取向从 (4 0 0) 变为 (2 2 2)。低于 250 °C，薄膜是无定形的。AFM 的表面形态研究表明薄膜非常光滑（rms = 0.3-1.4 nm），当沉积在 ALD 窗口内时。进行飞行时间弹性反冲检测