合成了许多具有 O,N,O'- 或 O,N,S 氧化还原活性席夫碱的新型
三苯基锑 (V) 配合物 (Ph 3 Sb(L n ))。化合物1–5的特征在于1 H, 13通过核磁共振、红外光谱和元素分析,通过单晶X射线分析建立了配合物1和配合物2晶态的分子结构,这两种配合物都是含有双阴离子形式O、 N,O'-配位
配体。研究了配合物1 – 5的电
化学性质。在阴极区域,所有化合物均形成稳定的单阴离子形式,而大多数配合物的电氧化过程是不可逆的。准可逆单电子仅在具有叔丁基供体的配合物2中观察到阳极阶段。根据电
化学数据,配合物边界氧化还原轨道之间的能隙ΔE el在2.64至2.95 eV之间变化,而光学ΔE具有较低的值(2.75 – 2.80) eV).
三苯基锑(V)配合物在溶液中具有发光性。最大发光强度和量子产率根据配位席夫碱中取代基的性质而变化。在
ABTS 测定中评估了新复合物的自由基清除活性。