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4-[4-(3-bromopropoxy)phenyl]-1,2,3-thiadiazole
4-[4-(3-bromopropoxy)phenyl]-1,2,3-thiadiazole | 1192029-66-5
分子结构分类
有机化合物
-
苯类化合物
-
苯酚醚
中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4-[4-(3-bromopropoxy)phenyl]-1,2,3-thiadiazole
英文别名
4-[4-(3-Bromopropoxy)phenyl]thiadiazole;4-[4-(3-bromopropoxy)phenyl]thiadiazole
CAS
1192029-66-5
化学式
C
11
H
11
BrN
2
OS
mdl
——
分子量
299.191
InChiKey
YEYKIDMWMKDSST-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
物化性质
计算性质
ADMET
安全信息
SDS
制备方法与用途
上下游信息
反应信息
文献信息
表征谱图
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计算性质
辛醇/水分配系数(LogP):
3.5
重原子数:
16
可旋转键数:
5
环数:
2.0
sp3杂化的碳原子比例:
0.27
拓扑面积:
63.2
氢给体数:
0
氢受体数:
4
上下游信息
下游产品
中文名称
英文名称
CAS号
化学式
分子量
——
4-[4-(3-phenoxypropoxy)phenyl]-1,2,3-thiadiazole
1192029-67-6
C
17
H
16
N
2
O
2
S
312.392
反应信息
作为反应物:
描述:
4-[4-(3-bromopropoxy)phenyl]-1,2,3-thiadiazole
、
苯酚
在
potassium carbonate
、 potassium iodide 作用下, 以
丙酮
为溶剂, 反应 30.0h, 以64%的产率得到4-[4-(3-phenoxypropoxy)phenyl]-1,2,3-thiadiazole
参考文献:
名称:
具有不饱和侧链的1,2,3-噻二唑;合成,聚合和光交联
摘要:
合成了在4位具有聚合功能的1,2,3-噻二唑作为潜在的负性光刻胶。聚合成可溶的成膜材料必须使杂环完整无缺,因为光交联反应需要它们才能产生不溶的材料。1,2,3-噻二唑1在照射时可消除N 2。将得到的1,3-双自由基2具有用于稳定进程导致炔烃的各种选项3或更高的杂环5 - 12。必须避免原子硫的产生及其在这些后续反应中的参与。因此,像模型化合物1a这样的系统,其中在此选择了1,3-二价形式2-亚甲基-1,3-二硫代(二硫富烯)9。优化最终产生了两种材料作为光致抗蚀剂。单体1c可以在三氟化硼的存在下聚合成可溶性1c',其在辐射下形成1c'作为交联的不溶性聚合物。此外,噻二唑1f连接于聚苯乙烯26。所得的可溶性聚合物1i '在辐射下产生不溶性材料1i''。 环二聚-环消除-杂环-光化学-光刻胶
DOI:
10.1055/s-0029-1216879
作为产物:
描述:
4-(3-bromopropoxy)acetophenone 4-toluenesulfonylhydrazone 在
氯化亚砜
作用下, 以96%的产率得到4-[4-(3-bromopropoxy)phenyl]-1,2,3-thiadiazole
参考文献:
名称:
具有不饱和侧链的1,2,3-噻二唑;合成,聚合和光交联
摘要:
合成了在4位具有聚合功能的1,2,3-噻二唑作为潜在的负性光刻胶。聚合成可溶的成膜材料必须使杂环完整无缺,因为光交联反应需要它们才能产生不溶的材料。1,2,3-噻二唑1在照射时可消除N 2。将得到的1,3-双自由基2具有用于稳定进程导致炔烃的各种选项3或更高的杂环5 - 12。必须避免原子硫的产生及其在这些后续反应中的参与。因此,像模型化合物1a这样的系统,其中在此选择了1,3-二价形式2-亚甲基-1,3-二硫代(二硫富烯)9。优化最终产生了两种材料作为光致抗蚀剂。单体1c可以在三氟化硼的存在下聚合成可溶性1c',其在辐射下形成1c'作为交联的不溶性聚合物。此外,噻二唑1f连接于聚苯乙烯26。所得的可溶性聚合物1i '在辐射下产生不溶性材料1i''。 环二聚-环消除-杂环-光化学-光刻胶
DOI:
10.1055/s-0029-1216879
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