2-{3-(5-norbornen-2-yl)-1-propyl}-1,3-dioxolane | 443648-63-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 二氧戊环
• 英文名称: 2-{3-(5-norbornen-2-yl)-1-propyl}-1,3-dioxolane
• 英文别名: 2-[3-(2-bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl)propyl]-1,3-dioxolane
• CAS: 443648-63-3
• 化学式: C₁₃H₂₀O₂
• 分子量: 208.301
• InChiKey: NMLPHMDVOMHJJE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.85
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  5-(4-ethoxy-3-buten-1-yl)-2-norbornene 、 丙烯醛缩二乙醇 、 5-溴甲基双环[2.2.1]庚-2-烯 、 copper(I) bromide 在 ammonium chloride 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙二醇 、 甲苯 为溶剂， 以85%的产率得到2-{3-(5-norbornen-2-yl)-1-propyl}-1,3-dioxolane
  参考文献：
  名称：

  Acetal compound, polymer, resist composition and patterning response

  摘要：

  新型的乙缩醛化合物，其中5-或6-成员环乙缩醛结构通过表示为—（CH2）m—的连接剂连接到诺博尔烯结构中，其中一个氢原子可以被羟基或乙酰氧基取代，m为1至8。使用乙缩醛化合物作为单体，得到聚合物。以该聚合物为基础树脂的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，并具有优异的敏感性、分辨率和蚀刻抗性。

  公开号：

  US06515149B2

文献信息

• Acetal compound, polymer, resist composition and patterning process
  申请人：Watanabe Takeru

  公开号：US06962767B2

  公开（公告）日：2005-11-08

  Acetal compounds in which a 5- or 6-membered ring acetal structure is connected to a norbornene structure through a linker represented by —(CH 2 ) m — in which one hydrogen atom may be substituted with a hydroxyl or acetoxy group, and m is from 1 to 8 are novel. Using the acetal compounds as a monomer, polymers are obtained. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation and has excellent sensitivity, resolution, and etching resistance.

  新颖的乙缩醛化合物，其中5-或6-成员环乙缩醛结构通过链连接到诺博尔烯结构，链由—（CH2）m—表示，其中一个氢原子可以被羟基或乙酰氧基替代，m为1至8。使用乙缩醛化合物作为单体，可以获得聚合物。以该聚合物为基础树脂的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有优异的敏感性、分辨率和蚀刻抗性。
• US6515149B2
  申请人：——

  公开号：US6515149B2

  公开（公告）日：2003-02-04
• US6962767B2
  申请人：——

  公开号：US6962767B2

  公开（公告）日：2005-11-08
• Acetal compound, polymer, resist composition and patterning response
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US06515149B2

  公开（公告）日：2003-02-04

  Acetal compounds in which a 5- or 6-membered ring acetal structure is connected to a norbornene structure through a linker represented by —(CH2)m— in which one hydrogen atom may be substituted with a hydroxyl or acetoxy group, and m is from 1 to 8 are novel. Using the acetal compounds as a monomer, polymers are obtained. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation and has excellent sensitivity, resolution, and etching resistance.

  新型的乙缩醛化合物，其中5-或6-成员环乙缩醛结构通过表示为—（CH2）m—的连接剂连接到诺博尔烯结构中，其中一个氢原子可以被羟基或乙酰氧基取代，m为1至8。使用乙缩醛化合物作为单体，得到聚合物。以该聚合物为基础树脂的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，并具有优异的敏感性、分辨率和蚀刻抗性。