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3-Ethyl-4-hydroxy-dihydro-furan-2-one

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
3-Ethyl-4-hydroxy-dihydro-furan-2-one
英文别名
3-ethyl-4-hydroxyoxolan-2-one
3-Ethyl-4-hydroxy-dihydro-furan-2-one化学式
CAS
——
化学式
C6H10O3
mdl
——
分子量
130.14
InChiKey
PGRLIHJCMFAEHP-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.1
  • 重原子数:
    9
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.83
  • 拓扑面积:
    46.5
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    3

文献信息

  • Polymers Useful in Photoresist Compositions and Compositions Thereof
    申请人:Padmanaban Munirathna
    公开号:US20080171270A1
    公开(公告)日:2008-07-17
    The present application relates to a polymer having the formula where R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 40 , R 41 , R 42 , jj, kk, mm, and nn are described herein. The compounds are useful in forming photoresist compositions.
  • [EN] POLYMERS USEFUL IN PHOTORESIST COMPOSITIONS AND COMPOSITIONS THEREOF<br/>[FR] POLYMÈRES UTILES DANS DES COMPOSITIONS DE PHOTORÉSIST ET COMPOSITIONS LES COMPRENANT
    申请人:AZ ELECTRONIC MATERIAL USA COR
    公开号:WO2008087549A1
    公开(公告)日:2008-07-24
    [EN] The present application relates to a polymer having the formula (I) where R30, R31, R32, R33, R40, R41, R42, jj, kk, mm, and nn are described herein. The compounds are useful in forming photoresist compositions.
    [FR] Le présent brevet concerne un polymère de formule (I) où R30, R31, R32, R33, R40, R41, R42, jj, kk, mm et nn sont décrits ici. Les composés sont utiles pour former des compositions de photorésist.
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