[EN] WATER SOLUBLE NEGATIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITION<br/>[FR] COMPOSITION DE RESINE NEGATIVE SOLUBLE DANS L'EAU
申请人:CLARIANT INTERNATIONAL, LTD.
公开号:WO1999061497A1
公开(公告)日:1999-12-02
(EN) A water soluble polymer that when used with a suitable photoacid generator (PAG) forms a negative working water soluble photoresit. The polymer comprises a backbone, such as polyvinyl ehter, coupled by a linkage group to an acetal protected $g(b)-keto acid group. With the addition of a number of commercially available photo acid generators, the polymer formulation forms a negative working photoresist that is water soluble. Exposure to radiation will cause a photoacid catalyzed deprotection of the acetal group, yielding a $g(b)-keto acid which, upon heating, will indergo decarboxylation, which results in a water insoluble photoproduct and evolution of CO2 as a byproduct. This photochemically induced reaction results in a significant change in the polymer solubility parameter, and the product is no longer soluble in water. As this solubility change does not require crosslinking, there will be no swelling of the resist images on exposure to the aqueous base during development, and hence no loss of resolution. This enables the photoresist to be used at fine resolutions at in-line and deep UV wavelengths.(FR) L'invention concerne un polymère soluble dans l'eau qui, lorsqu'elle est utilisée avec un générateur de photoacides approprié (PAG) forme un composition de résine négative soluble dans l'eau. Le polymère possède un squelette, tel qu'un éther polyvinylique, couplé à un groupe céto-acide $g(b) acétal protégé. L'adjonction d'un certain nombre de générateurs de photoacides disponibles dans le commerce permet de produire une résine négative soluble dans l'eau. L'exposition à un rayonnement occasionne une déprotection du groupe acétal catalysée par les photoacides, laquelle produit un céto-acide $g(b). Ce dernier, lorsqu'il est chauffé, subit une décarboxylation, qui produit un photoproduit et l'évolution du CO2 comme sous-produit. Cette réaction induite photochimiquement produit un changement significatif du paramètre de solubilité du polymère et, par conséquent, le produit n'est plus soluble dans l'eau. Etant donné que ce changement de solubilité ne requiert pas de réticulation, l'exposition à une base aqueuse lors du développement n'entraîne aucun bombement des images de réserve et, par conséquent, aucune perte de résolution. Cela permet d'utiliser la résine à des résolutions élevées à des longueurs d'ondes d'UV en ligne et profondes.