3,3-diisopropylglutaric acid | 4160-97-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: 3,3-diisopropylglutaric acid
• 英文别名: 3,3-Bis-isopropyl-glutarsaeure；3,3-Bisisopropyl-glutossaeure；Pentanedioic acid, 3,3-diisopropyl-；3,3-di(propan-2-yl)pentanedioic acid
• CAS: 4160-97-8
• 化学式: C₁₁H₂₀O₄
• 分子量: 216.277
• InChiKey: RMDKLABSGDZVAW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.82
• 拓扑面积：
  74.6
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3,3-diisopropylglutaric acid 在 盐酸 、 硫酸 作用下， 以 甲醇 、 乙醚 为溶剂， 反应 15.0h， 生成 methyl 3,3-diisopropyl-5,5-diphenyl-4-pentenoate
  参考文献：
  名称：

  Di-.pi.-methane rearrangements of highly sterically congested molecules: inhibition of free-rotor energy dissipation. Mechanistic and exploratory organic photochemistry

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00352a013
• 作为产物：
  描述：

  3,3-Diisopropyl-2,4-dicyano-glutarimid 在 硫酸 、 溶剂黄146 作用下， 生成 3,3-diisopropylglutaric acid
  参考文献：
  名称：

  宝石效果。I. 3-取代基对戊二酸酐溶剂分解速率的影响。构象分析。

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja00949a030

文献信息

• DEODORANTS
  申请人：Kao Corporation

  公开号：EP1197204A1

  公开（公告）日：2002-04-17

  The present invention provides a liquid deodorant suitable for deodorization of spaces and fiber products, and a hair cosmetic and skin cosmetic having a high deodorization effect. Here, any of the hair cosmetic and skin cosmetic may be that referred to as a body deodorant. Namely, the present invention provides a deodorant comprising a deodorant organic dibasic acid composed of an organic dibasic acid and/or salt thereof having a difference between the first acid dissociation index (hereinafter, abbreviated as first acid dissociation index) and the second acid dissociation index (hereinafter, abbreviated as second acid dissociation index or pK2) of 1.7 or more at 25°C.

  本发明提供了一种适用于空间和纤维制品除臭的液体除臭剂，以及一种具有高除臭效果的头发化妆品和皮肤化妆品。在此，头发化妆品和皮肤化妆品中的任何一种都可以被称为身体除臭剂。也就是说，本发明提供了一种除臭剂，该除臭剂包含由有机二元酸和/或其盐组成的除臭有机二元酸，在 25°C 时，其第一酸解离指数（以下简称第一酸解离指数）与第二酸解离指数（以下简称第二酸解离指数或 pK2）之差为 1.7 或以上。
• ZIMMERMAN, H. E.;SCHISSEL, D. N., J. ORG. CHEM., 1986, 51, N 2, 196-207
  作者：ZIMMERMAN, H. E.、SCHISSEL, D. N.

  DOI：——

  日期：——
• AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD
  申请人：Shida Hirotaka

  公开号：US20110053462A1

  公开（公告）日：2011-03-03

  A chemical mechanical polishing aqueous dispersion including (A) silica particles, and (B1) an organic acid, the sodium content, the potassium content, and the ammonium ion content of the silica particles (A) determined by ICP atomic emission spectrometry, ICP mass spectrometry, or ammonium ion quantitative analysis using ion chromatography having a relationship in which the sodium content is 5 to 500 ppm and at least one of the potassium content and the ammonium ion content is 100 to 20,000 ppm.
• US6780403B1
  申请人：——

  公开号：US6780403B1

  公开（公告）日：2004-08-24
• US8506359B2
  申请人：——

  公开号：US8506359B2

  公开（公告）日：2013-08-13