1,1,2,2-Tetrafluoro-4-oxo-4-[(4-oxo-1-adamantyl)methoxy]butane-1-sulfonic acid

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1,1,2,2-Tetrafluoro-4-oxo-4-[(4-oxo-1-adamantyl)methoxy]butane-1-sulfonic acid
• 英文别名: 1,1,2,2-tetrafluoro-4-oxo-4-[(4-oxo-1-adamantyl)methoxy]butane-1-sulfonic acid
• 化学式: C₁₅H₁₈F₄O₆S
• 分子量: 402.4
• InChiKey: QOGIWCPYFYGETH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  26
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.87
• 拓扑面积：
  106
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  10

文献信息

• ACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials, LLC

  公开号：US20160002199A1

  公开（公告）日：2016-01-07

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as photoresist composition components. Preferred acid generators include cyclic sulfonium compounds that comprise a covalently linked acid-labile group.

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。
• SUBSTITUTED ARYL ONIUM MATERIALS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20150093708A1

  公开（公告）日：2015-04-02

  Acid generators comprising a carbocyclic or heteroaromatic group substituted with at least one diester moiety are provided. These acid generators are particularly useful as a photoresist composition component.

  提供了一种包含至少一个双酯基团取代的环烃或杂环芳基团的酸发生剂。这些酸发生剂特别适用于光刻胶组分。
• Substituted aryl onium materials
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US10179778B2

  公开（公告）日：2019-01-15

  Acid generators comprising a carbocyclic or heteroaromatic group substituted with at least one diester moiety are provided. These acid generators are particularly useful as a photoresist composition component.

  提供了由至少一个二酯分子取代的碳环或杂芳族基团组成的酸生成物。这些酸生成物作为光阻组合物成分特别有用。
• US8945814B2
  申请人：——

  公开号：US8945814B2

  公开（公告）日：2015-02-03
• US9500947B2
  申请人：——

  公开号：US9500947B2

  公开（公告）日：2016-11-22