sodium 4-bromo-3,3,4,4-tetrafluorobutane-1-sulfonate | 1428237-70-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: sodium 4-bromo-3,3,4,4-tetrafluorobutane-1-sulfonate
• 英文别名: Sodium;4-bromo-3,3,4,4-tetrafluorobutane-1-sulfonate；sodium;4-bromo-3,3,4,4-tetrafluorobutane-1-sulfonate
• CAS: 1428237-70-0
• 化学式: C₄H₄BrF₄O₃S*Na
• 分子量: 311.027
• InChiKey: NDOGUFAFHPSFOB-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.45
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  65.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  sodium 4-bromo-3,3,4,4-tetrafluorobutane-1-sulfonate 在 氯化亚砜 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 16.0h， 以21.35 g的产率得到4-bromo-3,3,4,4-tetrafluorobutane-1-sulfonyl chloride
  参考文献：
  名称：

  PHOTOACID GENERATOR AND PHOTORESIST COMPRISING SAME

  摘要：

  一种光酸发生剂化合物的化学式（I）如下：[A-(CHR1)p]k-(L)-(CH2)m—(C(R2)2)n—SO3−Z+(I)，其中A是取代或未取代的单环、多环或融合多环的C5或更大的环烷基团，可选包含O、S、N、F或至少其中一种的组合，R1为H、单键或取代或未取代的C1-30烷基团，当R1为单键时，R1与A的碳原子共价键结，每个R2独立地为H、F或C1-4氟烷基，其中至少一个R2不为氢，L是包含磺酸基、磺酰胺基或C1-30含磺酸或磺酰胺基的连接基团，Z是有机或无机阳离子，p为0到10的整数，k为1或2，m为0或更大的整数，n为1或更大的整数。还公开了光酸发生剂的前体化合物、包括光酸发生剂的光刻胶组合物以及涂有光刻胶组合物的基板。

  公开号：

  US20130084525A1
• 作为产物：
  描述：

  1,4-二溴-1,1,2,2-四氟丁烷 在 sodium sulfite 作用下， 以 水 、 正丁醇 为溶剂， 反应 144.0h， 以67.73 g的产率得到sodium 4-bromo-3,3,4,4-tetrafluorobutane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  PHOTOACID GENERATOR AND PHOTORESIST COMPRISING SAME

  摘要：

  一种光酸发生剂化合物的化学式（I）如下：[A-(CHR1)p]k-(L)-(CH2)m—(C(R2)2)n—SO3−Z+(I)，其中A是取代或未取代的单环、多环或融合多环的C5或更大的环烷基团，可选包含O、S、N、F或至少其中一种的组合，R1为H、单键或取代或未取代的C1-30烷基团，当R1为单键时，R1与A的碳原子共价键结，每个R2独立地为H、F或C1-4氟烷基，其中至少一个R2不为氢，L是包含磺酸基、磺酰胺基或C1-30含磺酸或磺酰胺基的连接基团，Z是有机或无机阳离子，p为0到10的整数，k为1或2，m为0或更大的整数，n为1或更大的整数。还公开了光酸发生剂的前体化合物、包括光酸发生剂的光刻胶组合物以及涂有光刻胶组合物的基板。

  公开号：

  US20130084525A1

文献信息

• PHOTOACID GENERATOR AND PHOTORESIST COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20130084525A1

  公开（公告）日：2013-04-04

  A photoacid generator compound has the formula (I): [A-(CHR 1 ) p ] k -(L)-(CH 2 ) m —(C(R 2 ) 2 ) n —SO 3 − Z + (I) wherein A is a substituted or unsubstituted, monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic C 5 or greater cycloaliphatic group optionally comprising O, S, N, F, or a combination comprising at least one of the foregoing, R 1 is H, a single bond, or a substituted or unsubstituted C 1-30 alkyl group, wherein when R 1 is a single bond, R 1 is covalently bonded to a carbon atom of A, each R 2 is independently H, F, or C 1-4 fluoroalkyl, wherein at least one R 2 is not hydrogen, L is a linking group comprising a sulfonate group, a sulfonamide group, or a C 1-30 sulfonate or sulfonamide-containing group, Z is an organic or inorganic cation, p is an integer of 0 to 10, k is 1 or 2, m is an integer of 0 or greater, and n is an integer of 1 or greater. A precursor compound to the photoacid generator, a photoresist composition including the photoacid generator, and a substrate coated with the photoresist composition, are also disclosed.

  一种光酸发生剂化合物的化学式（I）如下：[A-(CHR1)p]k-(L)-(CH2)m—(C(R2)2)n—SO3−Z+(I)，其中A是取代或未取代的单环、多环或融合多环的C5或更大的环烷基团，可选包含O、S、N、F或至少其中一种的组合，R1为H、单键或取代或未取代的C1-30烷基团，当R1为单键时，R1与A的碳原子共价键结，每个R2独立地为H、F或C1-4氟烷基，其中至少一个R2不为氢，L是包含磺酸基、磺酰胺基或C1-30含磺酸或磺酰胺基的连接基团，Z是有机或无机阳离子，p为0到10的整数，k为1或2，m为0或更大的整数，n为1或更大的整数。还公开了光酸发生剂的前体化合物、包括光酸发生剂的光刻胶组合物以及涂有光刻胶组合物的基板。